[實(shí)用新型]一種SCR脫硝系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921539010.7
• 申請日: 2019-09-16
• 公開（公告）號: CN211189758U
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡小夫;汪洋;王云;郝正;高春昱;王爭榮;夏懷鵬;王凱亮;沈建永;李偉;王樺
• 申請（專利權(quán)）人: 中國華電科工集團(tuán)有限公司;華電環(huán)保系統(tǒng)工程有限公司
• 主分類號: B01D53/90
• 分類號: B01D53/90;B01D53/88;B01D53/56
• 代理公司: 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250
• 代理人: 李亞南

1.一種SCR脫硝系統(tǒng)，包括主體，所述主體包括依次連通的流通段和反應(yīng)段，其特征在于，還包括，

第一噴氨單元，靠近所述流通段的煙氣入口設(shè)置于所述流通段內(nèi)；

第一催化劑層及第二噴氨單元，所述第二噴氨單元設(shè)置于所述反應(yīng)段內(nèi)，且所述第一催化劑層設(shè)置于所述第一噴氨單元與所述第二噴氨單元之間且位于所述反應(yīng)段內(nèi)；

第二催化劑層，設(shè)置于所述反應(yīng)段內(nèi)，且相對于所述第二噴氨單元遠(yuǎn)離所述第一催化劑層設(shè)置；

噴氨控制系統(tǒng)，用于控制所述第一噴氨單元、第二噴氨單元的噴氨量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的SCR脫硝系統(tǒng)，其特征在于，所述噴氨控制系統(tǒng)，包括，

氣體濃度檢測系統(tǒng)，設(shè)置于所述反應(yīng)段內(nèi)，用以監(jiān)控所述SCR脫硝系統(tǒng)中NO_x和NH₃的實(shí)際濃度；

外掛PLC，外掛于所述氣體濃度檢測系統(tǒng)上，并與氣體濃度檢測系統(tǒng)連接，用于計算所述SCR脫硝系統(tǒng)的理論總噴氨量、各催化劑層的實(shí)際噴氨量和實(shí)際脫硝效率，實(shí)現(xiàn)對所述SCR脫硝系統(tǒng)的理論總噴氨量、各催化劑層的實(shí)際噴氨量和實(shí)際脫硝效率的控制。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的SCR脫硝系統(tǒng)，其特征在于，所述氣體濃度檢測系統(tǒng)包括，

第一監(jiān)控裝置，包括第一監(jiān)控單元和第二監(jiān)控單元，所述第一監(jiān)控單元設(shè)置于所述第一催化劑層入口截面處，用以獲取第一催化劑層入口截面處的NO_x和NH₃的濃度；所述第二監(jiān)控單元設(shè)置于所述第一催化劑層出口截面處，用以獲取第一催化劑層出口截面處的NO_x和NH₃的濃度；

第二監(jiān)控裝置，包括第三監(jiān)控單元和第四監(jiān)控單元，所述第三監(jiān)控單元設(shè)置于所述第二催化劑層入口截面處，用以獲取第二催化劑層入口截面處的NO_x和NH₃的濃度；所述第四監(jiān)控單元設(shè)置于所述第二催化劑層出口截面處，用以獲取第二催化劑層出口截面處的NO_x和NH₃的濃度。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的SCR脫硝系統(tǒng)，其特征在于，所述第二噴氨單元設(shè)置第二噴嘴，所述第二噴嘴的噴射方向與所述反應(yīng)段軸向的夾角β為0°-90°。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的SCR脫硝系統(tǒng)，其特征在于，還包括，

第三催化劑層，設(shè)置于所述反應(yīng)段內(nèi)，且相對于所述第二催化劑層遠(yuǎn)離所述第一催化劑層設(shè)置；

第三噴氨單元，設(shè)置于所述反應(yīng)段內(nèi)，且所述第三噴氨單元設(shè)置于所述第二催化劑層與第三催化劑層之間；

第三監(jiān)控裝置，包括第五監(jiān)控單元和第六監(jiān)控單元，所述第五監(jiān)控單元設(shè)置于所述第三催化劑層入口截面處，用以獲取第三催化劑層入口截面處的NO_x和NH₃的濃度，所述第六監(jiān)控單元設(shè)置于所述第三催化劑層出口截面處，用以獲取第三催化劑層出口截面處的NO_x和NH₃的濃度。

6.根據(jù)權(quán)利要求5中所述的SCR脫硝系統(tǒng)，其特征在于，所述第三噴氨單元設(shè)置第三噴嘴，所述第三噴嘴的噴射方向與所述反應(yīng)段軸向的夾角γ為0°-90°。

7.根據(jù)權(quán)利要求6中所述的SCR脫硝系統(tǒng)，其特征在于，還包括，

還原劑供應(yīng)裝置，分別與所述第一噴氨單元、第二噴氨單元和/或第三噴氨單元連通，以分別向所述第一噴氨單元、第二噴氨單元、第三噴氨單元提供還原劑；

流量調(diào)節(jié)閥，所述還原劑供應(yīng)裝置與所述第一噴氨單元、第二噴氨單元和/或第三噴氨單元之間均設(shè)置有流量調(diào)節(jié)閥，所述流量調(diào)節(jié)閥與所述外掛PLC連接；

均混單元，設(shè)置于所述流通段內(nèi)，包括第一均混單元和第二均混單元，所述第一噴氨單元設(shè)置于所述第一均混單元和第二均混單元之間。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的SCR脫硝系統(tǒng)，其特征在于，所述第一噴氨單元與所述第一均混單元之間的間距為50mm-500mm；

所述第一噴氨單元與所述第二均混單元之間的間距為50mm-500mm。