[實用新型]一種單向透光玻璃有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921509890.3 | 申請日: | 2019-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN210711286U | 公開(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李旺;唐鹿 | 申請(專利權(quán))人: | 江西科技學(xué)院 |
| 主分類號: | C03C17/34 | 分類號: | C03C17/34 |
| 代理公司: | 佛山粵進知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44463 | 代理人: | 張敏 |
| 地址: | 330000*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 單向 透光 玻璃 | ||
本實用新型公開了一種單向透光玻璃,包括:玻璃基板以及依次疊加設(shè)置在所述玻璃基板一側(cè)表面的復(fù)合電介質(zhì)層、非晶硅層、第一SiOx層、微晶硅層、第二SiOx層;其中,所述復(fù)合電介質(zhì)層和所述非晶硅層組成第一光學(xué)模塊,所述第一SiOx層、所述微晶硅層和所述第二SiOx層組成第二光學(xué)模塊;所述復(fù)合電介質(zhì)層、所述非晶硅層、所述第一SiOx層、所述微晶硅層、所述第二SiOx層依次沉積在所述玻璃基板同一側(cè)面。本實用新型通過上述多層結(jié)構(gòu)疊加直接沉積而成,其結(jié)構(gòu)牢固、緊湊、簡單,利用各層之間不同折射率和各層膜厚度組合,構(gòu)成一個非對稱結(jié)構(gòu)光學(xué)器件,利用光的干涉原理,使得兩個面對光具有不同反射率,從而實現(xiàn)單向透光。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及光學(xué)玻璃領(lǐng)域,特別是涉及一種單向透光玻璃。
背景技術(shù)
單向玻璃具有單向的透視功能,在一些特定場所具有重要的應(yīng)用價值。現(xiàn)有技術(shù)中單向透視玻璃一般采用貼膜的結(jié)構(gòu),通過這種貼膜結(jié)構(gòu)的來實現(xiàn)玻璃的單向透視效果,但這種通過貼膜的方式存在一定的問題,例如所貼的單向膜在受到摩擦后容易受到破壞、脫落等缺點。
現(xiàn)有技術(shù)中另一種單向透視玻璃是在玻璃表面上沉積金屬層及其相配合的他功能層結(jié)構(gòu)。這種結(jié)構(gòu)雖然簡單,但單向透視玻璃的金屬層容易從玻璃表面脫離,特別是在長期使用時,金屬層中的金屬會被氧化,會直接造成單向透視玻璃的透視性降低,甚至失去單向透視的作用。另外,上述的現(xiàn)有單向透視玻璃均只有在兩側(cè)光源存在明顯差別時,單向透光作用才會顯著,因此,在實際應(yīng)用時存在一定的局限性。
實用新型內(nèi)容
本實用新型克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實用新型提供一種結(jié)構(gòu)牢固、簡單的單向透光玻璃。該玻璃利用各層之間不同折射率和各層膜厚度組合,構(gòu)成一個非對稱結(jié)構(gòu)光學(xué)器件,利用光的干涉原理,使得兩個面對光具有不同反射率,從而實現(xiàn)單向透光。
為達到上述目的,本實用新型采用的技術(shù)方案為:玻璃基板以及依次疊加設(shè)置在所述玻璃基板一側(cè)表面的復(fù)合電介質(zhì)層、非晶硅層、第一SiOx層、微晶硅層、第二SiOx層;其中,所述復(fù)合電介質(zhì)層和所述非晶硅層組成第一光學(xué)模塊,所述第一SiOx層、所述微晶硅層和第二SiOx層組成第二光學(xué)模塊;所述復(fù)合電介質(zhì)層、所述非晶硅層、所述第一SiOx層、所述微晶硅層、所述第二SiOx層依次沉積在所述玻璃基板同一側(cè)面。
本實用新型一個較佳實施例中,所述復(fù)合電介質(zhì)層包括SiOx、SiNx、SiNyOx 一種或者多種復(fù)合薄膜。
本實用新型一個較佳實施例中,所述復(fù)合電介質(zhì)層、所述非晶硅層、所述第一SiOx層、所述微晶硅層、所述第二SiOx層均能夠通過等離子體增強化學(xué)的氣相沉積法制備沉積。
本實用新型一個較佳實施例中,所述復(fù)合電介質(zhì)層的厚度為12-20nm,所述復(fù)合電介質(zhì)層的折射率在1.6-2.2之間。
本實用新型一個較佳實施例中,所述非晶硅層的厚度為20-35nm,折射率在 3.2-3.7之間。
本實用新型一個較佳實施例中,所述第一SiOx層的厚度為20-40nm,折射率在1.3-2.3。
本實用新型一個較佳實施例中,所述微晶硅層厚度為10-15nm,折射率在 3.6-3.8。
本實用新型一個較佳實施例中,所述第二SiOx層的厚度為40-80nm,折射率在2.3-2.7。
本實用新型一個較佳實施例中,所述微晶硅層的晶化率為5-15%。
本實用新型解決了背景技術(shù)中存在的缺陷,本實用新型具備以下有益效果:
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