[實用新型]一種鎳鈦合金電化學拋光裝置有效
| 申請號: | 201921498239.0 | 申請日: | 2019-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN210458423U | 公開(公告)日: | 2020-05-05 |
| 發明(設計)人: | 李明;林華;夏松;周小超;甘偉 | 申請(專利權)人: | 皖西學院 |
| 主分類號: | C25F3/22 | 分類號: | C25F3/22;C25F7/00 |
| 代理公司: | 合肥市科融知識產權代理事務所(普通合伙) 34126 | 代理人: | 馬小輝 |
| 地址: | 237010 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鈦合金 電化學 拋光 裝置 | ||
本實用新型涉及化學拋光領域,具體的公開了一種鎳鈦合金電化學拋光裝置,包括底座、支撐立柱、支撐橫梁和電控箱;所述底座上安裝有豎直方向上的電機,電機的輸出軸上端同軸固定有在水平方向上繞中心軸轉動的旋轉座;所述旋轉座包括有支撐盤、導向板和限位凸起,導向板固定在支撐盤的上表面邊緣,形成環狀結構,在支撐盤的上表面固定有多個限位凸起;在所述支撐盤上放置有與導向板內壁間隙配合的電解槽。本實用新型通過設置的旋轉座使放在其上的電解槽跟隨其旋轉,內部的液體與工件相對移動,在液體流動過程中將工件表面的氧化膜以及溶解物能夠快速的從工件表面脫離,提高拋光效率。
技術領域
本實用新型涉及化學拋光技術領域,具體是一種鎳鈦合金電化學拋光裝置。
背景技術
電化學拋光是近幾十年發展起來的表面處理技術,目的是為了改善金屬表面的微觀幾何形狀,降低金屬表面的顯微粗糙程度。電化學拋光的原理是在一定電解液中以金屬工件為陽極,同時進行兩個互相矛盾的過程(即金屬表面氧化膜的生成和溶解),使金屬工件表面的粗糙度下降,光亮度提高,并產生一定的金屬光澤。
現有的化學拋光裝置結構簡單,在拋光過程中內部的水流靜止,使得拋光效率降低,尤其是不便于表面金屬氧化膜的脫離,因此,需要對現有的拋光裝置進行改進,解決上述問題。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種鎳鈦合金電化學拋光裝置,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:
一種鎳鈦合金電化學拋光裝置,包括底座、支撐立柱、支撐橫梁和電控箱;所述支撐立柱豎直固定安裝在底座的上表面,支撐橫梁水平固定在支撐立柱的頂端上,支撐橫梁位于底座的上方;所述電控箱固定安裝在底座上;所述底座上安裝有豎直方向上的電機,電機的輸出軸上端同軸固定有在水平方向上繞中心軸轉動的旋轉座,通過電機驅動其轉動;所述旋轉座包括有支撐盤、導向板和限位凸起,導向板固定在支撐盤的上表面邊緣,形成環狀結構,在支撐盤的上表面固定有多個限位凸起;在所述支撐盤上放置有與導向板內壁間隙配合的電解槽,電解槽的底部上對應的限位凸起位置上開設有與限位凸起配合的安裝槽,在電解槽放置在支撐盤上后通過限位凸起伸入到安裝槽內,將其位置限定,使其跟隨旋轉座同步轉動,使內部的液體跟隨移動;所述電解槽的上方對應的支撐橫梁上固定安裝有豎直的升降氣缸,升降氣缸的輸出端向上固定連接有豎直的與電解槽同軸的連桿,連桿的下端固定安裝有放置架,將需要拋光的工件放置于放置架上,放置架上連接陽極,實現電化學拋光,通過升降氣缸驅動放置架升降,使其浸入到電解槽的液體中;在支撐橫梁上固定有掛架,掛架上掛接有連接鋼絲,連接鋼絲的下端伸入到電解槽內,其端部上固定有陰極棒。
進一步的:所述支撐盤為圓形盤結構。
進一步的:所述導向板的高度為8-12mm。
進一步的:所述限位凸起為柱體結構,其高度低于導向板的上端面。
進一步的:所述限位凸起采用圓柱體結構。
進一步的:所述連桿上套設有在豎直方向上移動的套環,套環的一側上螺紋安裝有調節螺栓,能夠將套環固定在連桿上,套環的另外一側上固定有水平的水平連桿,水平連桿上固定有豎直的向下可伸入到電解槽內的攪拌結構,通過電解槽轉動,使攪拌結構對內部的液體攪動,提高內部液體的流動性。
進一步的:所述攪拌結構為片狀結構。
與現有技術相比,本實用新型的有益效果是:本實用新型通過設置的旋轉座使放在其上的電解槽跟隨其旋轉,內部的液體與工件相對移動,在液體流動過程中將工件表面的氧化膜以及溶解物能夠快速的從工件表面脫離,提高拋光效率;能夠上下調節的攪拌結構對內部的液體攪動,實現快速拋光,提高生產效率。
附圖說明
圖1為一種鎳鈦合金電化學拋光裝置的結構示意圖。
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