[實用新型]一種用于陶瓷噴涂工藝的冷卻裝置

有效

• 申請號: 201921496487.1
• 申請日: 2019-09-09
• 公開（公告）號: CN210700988U
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發明（設計）人: 郭翔;張淑苑;郭志光;田文聰
• 申請（專利權）人: 大埔縣匯豐源陶瓷工藝有限公司
• 主分類號: B05D3/04
• 分類號: B05D3/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于陶瓷噴涂工藝的冷卻裝置，包括外殼(1)和進料口(8)，其特征在于：所述外殼(1)的上端左側設置有注水口(2)，且注水口(2)的下端連接有蓄水槽(3)，所述外殼(1)的上端右側設置有抽吸風機(4)，且抽吸風機(4)的下端連接有輸氣管(5)，所述外殼(1)的內側右端設置有出水口(6)，且出水口(6)靠近外殼(1)的一端設置有出水閥(7)，所述進料口(8)連接于外殼(1)的左側，且進料口(8)的內部設置有門簾(9)，所述外殼(1)的右側連接有出料口(10)，且出料口(10)的下端連接有機架(11)，所述機架(11)的內部設置有輥帶(12)，且機架(11)的下端連接有機座(13)。

2.根據權利要求1所述的一種用于陶瓷噴涂工藝的冷卻裝置，其特征在于：所述外殼(1)包括排氣閥(101)、旋蓋(102)和轉軸(103)，且外殼(1)的內側右端設置有排氣閥(101)，所述外殼(1)的內側中部設置有旋蓋(102)，且旋蓋(102)的上端連接有轉軸(103)。

3.根據權利要求2所述的一種用于陶瓷噴涂工藝的冷卻裝置，其特征在于：所述外殼(1)的內部呈中空狀結構，且旋蓋(102)通過轉軸(103)與外殼(1)之間構成旋轉結構。

4.根據權利要求1所述的一種用于陶瓷噴涂工藝的冷卻裝置，其特征在于：所述輸氣管(5)包括密封墊圈(501)和排氣孔(502)，且輸氣管(5)下端右側設置有密封墊圈(501)，所述輸氣管(5)的下端設置有排氣孔(502)。

5.根據權利要求4所述的一種用于陶瓷噴涂工藝的冷卻裝置，其特征在于：所述輸氣管(5)與排氣孔(502)之間構成連通結構，且密封墊圈(501)的內部形狀結構與輸氣管(5)的外部形狀結構相吻合。

6.根據權利要求1所述的一種用于陶瓷噴涂工藝的冷卻裝置，其特征在于：所述門簾(9)共設置有兩個，且門簾(9)的形狀結構與進料口(8)和出料口(10)的形狀結構均相吻合。