[實用新型]減壓干燥裝置有效
| 申請號: | 201921478334.4 | 申請日: | 2019-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN210156432U | 公開(公告)日: | 2020-03-17 |
| 發明(設計)人: | 林杰 | 申請(專利權)人: | 廣東聚華印刷顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56;F26B5/06 |
| 代理公司: | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人: | 宋朝政 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 減壓 干燥 裝置 | ||
1.一種減壓干燥裝置,用于干燥設有至少一像素坑的基板,其特征在于,包括:
外殼,設有干燥腔,待干燥的所述基板設于所述干燥腔內;
冷凝板,設于所述干燥腔內,所述冷凝板面向所述像素坑的一側設有第一涂層,所述第一涂層的親水程度從正對所述像素坑的中心向所述像素坑的邊緣的方向逐漸增大。
2.如權利要求1所述的減壓干燥裝置,其特征在于,所述第一涂層的密度從正對所述像素坑的中心向所述像素坑的邊緣的方向逐漸減少。
3.如權利要求1所述的減壓干燥裝置,其特征在于,所述待干燥基板設有多個間隔設置的所述像素坑,所述冷凝板對應每一所述像素坑設有一所述第一涂層,并且所述第一涂層的輪廓與所述像素坑的輪廓一致。
4.如權利要求3所述的減壓干燥裝置,其特征在于,所述冷凝板還設有與多個所述第一涂層鄰接的第二涂層,所述第二涂層的親水程度大于或等于所述第一涂層正對所述像素坑的邊緣區域的親水程度。
5.如權利要求4所述的減壓干燥裝置,其特征在于,所述第二涂層的密度小于或等于所述第一涂層正對所述像素坑的邊緣區域的密度。
6.如權利要求1-5任一項所述的減壓干燥裝置,其特征在于,所述第一涂層的厚度從正對所述像素坑的中心向所述像素坑的邊緣的方向逐漸減小。
7.如權利要求1-5任一項所述的減壓干燥裝置,其特征在于,所述冷凝板的厚度從正對所述像素坑的中心向所述像素坑的邊緣的方向逐漸減小,并且所述第一涂層形成在所述冷凝板厚度變化的表面上。
8.如權利要求7所述的減壓干燥裝置,其特征在于,所述冷凝板面向所述像素坑的一側對應每一像素坑設有凹槽,且所述凹槽的槽底壁與所述像素坑的距離從正對所述像素坑的中心向所述像素坑的邊緣的方向逐漸減少。
9.如權利要求1至5中任意一項所述的減壓干燥裝置,其特征在于,所述干燥腔具有相對設置的上腔壁和下腔壁,所述減壓干燥裝置還包括設于所述下腔壁的溫控平臺,所述溫控平臺承載所述待干燥基板,并用于干燥所述待干燥基板。
10.如權利要求9所述的減壓干燥裝置,其特征在于,所述減壓干燥裝置還包括設于所述下腔壁和所述溫控平臺之間的第一升降組件,以及設于所述上腔壁和所述冷凝板之間的第二升降組件,所述第一升降組件可驅動所述溫控平臺帶動所述待干燥基板遠離或靠近所述冷凝板,所述第二升降組件可驅動所述冷凝板遠離或靠近所述溫控平臺。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





