[實用新型]自動上釉機

有效

• 申請號: 201921454708.9
• 申請日: 2019-09-03
• 公開（公告）號: CN211104643U
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發明（設計）人: 周遠義
• 申請（專利權）人: 南平市建陽區超能電子有限公司
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及一種自動上釉機，屬于陶瓷生產領域。所述自動上釉機包括機身和機頭，機身前側下部并排設置有上料臺、沾釉裝置和烘干臺，機身前側上部設置有可沿機身左右移動的機頭，機身前側上部與機頭之間設置有左右移動機構，機頭包括升降機構和安裝在升降機構上的擺動機構，擺動機構上設置有用于吸取胚體的吸盤機構；所述自動上釉機還包括電控系統，用于控制自動上釉機的各個部件協調運轉。本實用新型的能夠實現胚體內外壁面同時上釉，不需要倒釉水，不存在內外釉料層重疊的問題，所以內外釉料的附著厚度均勻一致，大幅提升胚體上釉的成品率、精品率，從而大幅提高建盞陶瓷生產企業的經濟效益。

技術領域

本實用新型涉及陶瓷生產領域，具體涉及一種自動上釉機及其上釉工藝。

背景技術

建盞內外壁釉層是鐵系結晶釉，釉面上的結晶斑是在1300度左右、還原氣氛中的建窯窯爐里自然生長而成。在同等條件下，不同厚度的釉層中自然生長的結晶斑大小、形態、色澤等差異巨大。想要讓這種自然生長的結晶斑紋更加均勻漂亮，上釉質量至關重要，釉層厚度做得越均勻，成品率就越高，且越有可能制造出高等級的產品。

目前，對建盞胚體的上釉操作基本上都是由手工完成的，具體分為以下兩種：

第一種：人手用噴槍對胚體進行噴涂，由于這種操作施工時間長，粉塵大，釉料損耗大，且釉層厚度很難掌握，目前已經很少使用，在不得已的情況下才用，比如超大件器形胚體上釉。

第二種，采用浸泡法，無粉塵，上釉速度快，這是主流的上釉方法，具體操作是這樣的：人工先用勺子將釉水倒入盞口朝上的胚體，胚體吸收釉水中的水分，大約只要1秒至幾秒的時間，胚體內壁便會附著上一層釉料，釉水在胚體中停留的時間越長，則釉料附著的厚度就越厚，反之越薄。當內壁沾釉層的時間夠了，人手便傾斜胚體將剩余的釉水倒出，再倒扣胚體，將胚體浸入釉水中進行胚體外壁的沾釉工作。該操作的缺點有以下幾點：

（1）人工沾釉采用內外壁分階段進行，不管是先沾外壁還是先沾內壁，先沾時，胚體是不含水的，后沾時胚體就含有一定量的水份，且胚體厚的地方與薄的地方的含水量還不一致，這樣就很難做到胚體內外壁粘釉厚度一致，這也是為什么有些師傅的盞內壁的斑紋好看，外壁的斑紋不好看，有些師傅的盞則恰好相反，這也是造成建盞精品率很低的一個重要原因；

（2）粘完內壁將胚體傾斜倒出剩余的釉水的這一瞬間，由于胚體內壁的下側面比上側面與釉水接觸的時間更長，這是導致胚體內壁不同位置釉料厚度不一的重要因素，是造成陰陽面（釉面結晶斑不均勻的通俗說法）的因素之一；

（3）由于內外壁分階段進行沾釉，還有一個突出的問題：就是內外壁釉料層會有一個重疊的問題，重疊部分存在于內壁口沿下0.5-1厘米左右的地方（倒扣胚體，將胚體浸入釉水中時，由于胚體內側有空氣，釉水只能進入內側0.5-1厘米處），重疊部分有多有少，有厚有薄，這會造成諸如跳釉（一般是太厚），燒釉（一般是太薄），陰陽面等問題；

（4）釉料中的水份沒有得到及時的干燥，容易導致釉料鼓包，造成次品。

發明內容

基于上述現有技術的不足，本實用新型的目的在于提供一種自動上釉機及其上釉工藝。

本實用新型的技術方案在于：一種自動上釉機，包括機身和機頭，所述機身前側下部左右并排設置有上料臺、沾釉裝置和烘干臺，所述機身前側上部設置有可沿機身左右移動的機頭，所述機身前側上部與機頭之間設置有左右移動機構，所述機頭包括升降機構和安裝在升降機構上的擺動機構，所述擺動機構上設置有用于吸取胚體的吸盤機構；還包括電控系統，用于控制自動上釉機的各個部件協調運轉。

優選地，所述上料臺上設置有用于定位胚體的定位結構。配置定位結構的目的是讓上料臺的胚體能夠被機頭準確地取走。

進一步，所述定位結構包括定位板，所述定位板懸伸在上料臺的上方，且所述定位板前側設置有用于定位胚體的凹口。