[實用新型]一種3D打印用像素結構及系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921449964.9 | 申請日: | 2019-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN210155493U | 公開(公告)日: | 2020-03-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 郭旺;李彥辰;馮大偉;王冬;王海龍;李金鈺;趙宇 | 申請(專利權)人: | 北京京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/1675;G02F1/1676;G02F1/1362;G02F1/1335;B29C64/386;B33Y50/00 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人: | 金俊姬 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 打印 像素 結構 系統(tǒng) | ||
本實用新型公開了一種3D打印用像素結構及系統(tǒng),用于提供一種裝置實現DLP技術,可以提高紫外光透過率的準確度。其中,該像素結構包括:相對設置的第一基板和第二基板,以及位于所述第一基板和第二基板之間呈陣列排布的多個像素區(qū);每個所述像素區(qū)包括位于所述第一基板面向所述第二基板一側的第一公共電極,位于所述第二基板面向所述第一基板一側的像素電極,位于所述第一基板面向所述第二基板一側的遮光層,以及位于所述第一基板和所述第二基板之間的電子墨水;所述遮光層具有至少一個透光區(qū)域以及包圍所述透光區(qū)域的遮光區(qū)域,所述像素電極被所述遮光區(qū)域所覆蓋。
技術領域
本實用新型涉及打印技術領域,特別涉及一種3D打印用像素結構及系統(tǒng)。
背景技術
數字光處理(digitallightprocessing,DLP)技術是利用液態(tài)光敏樹脂在紫外光照射下固化的特性來成型實體。其中,DLP技術一次成型一個截面,然后層層疊加出三維實體。目前DLP技術的實現是基于液晶顯示(liquidcrystaldisplay,LCD)裝置來控制紫外光的透過,從而實現光敏樹脂的成型。如果紫外光透過則呈亮態(tài),如果紫外光不透光則呈暗態(tài)。
由于LCD裝置是基于偏光片來控制光線的偏振方向,自然光在通過偏光片時,振動方向與偏光片透過軸垂直的光將被吸收,透過光只剩下振動方向與偏光片透過軸平行的偏振光。所以亮態(tài)時透過率不高,同時暗態(tài)時也無法實現真正的全黑顯示。
可見,基于LCD裝置實現DLP技術,存在紫外光透光率的準確度較低的問題。
發(fā)明內容
本實用新型實施例提供一種3D打印用像素結構及系統(tǒng),用于提供一種裝置實現DLP技術,可以提高紫外光透過率的準確度。
第一方面,提供一種3D打印用像素結構,該像素結構包括:相對設置的第一基板和第二基板,以及位于所述第一基板和第二基板之間呈陣列排布的多個像素區(qū);其中:
每個所述像素區(qū)包括位于所述第一基板面向所述第二基板一側的第一公共電極,位于所述第二基板面向所述第一基板一側的像素電極,位于所述第一基板面向所述第二基板一側的遮光層,以及位于所述第一基板和所述第二基板之間的電子墨水;
所述遮光層具有至少一個透光區(qū)域以及包圍所述透光區(qū)域的遮光區(qū)域,所述像素電極被所述遮光區(qū)域所覆蓋。
本實用新型實施例提供的像素結構中,每個像素區(qū)包括第一基板面向第二基板一側設置有第一公共電極,第二基板面向第一基板一側設置有像素電極,且位于第一基板面向第二基板一側的遮光層與第二基板之間設置有電子墨水,遮光層具有至少一個透光區(qū)域和遮光區(qū)域,且像素電極被遮光區(qū)域所覆蓋。該像素結構應用于3D打印時,對于需要透光的像素區(qū),可以控制像素區(qū)中像素電極和第一公共電極加載異性電信號,使電子墨水吸附于像素電極的表面,從而使得透光區(qū)可以通過光線,即呈亮態(tài)時。由于電子墨水吸附于像素電極的表面,所以可以增強光線的透過率;而對于需要遮光的像素區(qū),可以控制像素區(qū)中像素電極與第一公共電極加載同性電信號,使電子墨水游離于透光區(qū)域,即呈暗態(tài)。由于電子墨水可以物理隔絕光線,所以使得需要遮光的像素區(qū)的光線透過率更低。
在一種可能的實施方式中,在所述第二基板和所述像素電極所在層之間具有凸起結構,所述像素電極覆蓋所述凸起結構的表面,且所述像素電極在對應所述凸起結構的頂端位置具有開口區(qū)域。
在本發(fā)明實施例中,像素電極可以覆蓋在凸起結構的表面,由于凸起結構相比平面結構來說,可以增加像素電極的接觸面積,從而使得像素電極能夠吸附更多的電子墨水,增強亮態(tài)時的光線透過率。
在一種可能的實施方式中,所述凸起結構的形狀為半球形。
在本發(fā)明實施例中,凸起結構的形狀為半球形,以盡量保證像素電極能夠吸附更多的電子墨水。
在一種可能的實施方式中,每個所述像素區(qū)內的遮光層包含多個相互間隔分布的條狀的透光區(qū)域。
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