[實用新型]一種固定鍍膜基片的磁鐵裝置

有效

• 申請號: 201921444290.3
• 申請日: 2019-09-02
• 公開（公告）號: CN210796611U
• 公開（公告）日: 2020-06-19
• 發明（設計）人: 袁小夫;舒本劍
• 申請（專利權）人: 安徽安合鑫光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/34
• 代理公司: 蘇州彰尚知識產權代理事務所(普通合伙) 32336
• 代理人: 曹恒濤

為了解決現有的磁鐵外表吸附的磁鐵碎末或者鍍膜過程中吸附的粉塵或者磁鐵的消磁現象，本實用新型提出一種固定鍍膜基片的磁鐵裝置，通過在磁鐵上加一個磁鐵保護套，有效的緩解磁鐵在相互吸附過程中的碰撞，將磁鐵取出后只需對磁鐵保護套進行清洗，清潔非常方便。一種固定鍍膜基片的磁鐵裝置，其包括：磁鐵11和磁鐵保護套12，其特征在于：在磁鐵11外面套一個磁鐵保護套12，磁鐵11為扁平圓柱體，磁鐵11的材料為圓形鍍鎳磁鐵，磁鐵保護套12的材料為鐵，磁鐵保護套12為凹狀中空圓柱狀，底部開口處為卷邊設計，便于套住磁鐵11。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜機技術領域，較為具體的，涉及到一種固定鍍膜基片的磁鐵裝置。

背景技術

真空鍍膜是將真空室內材料的原子陰極被激發的電子在電場作用下加速飛向襯底基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和二次電子，二次電子飛向襯底基片，氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在襯底上形成薄膜，二次電子在加速飛向襯底的過程中受到磁場羅侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面做圓周運動，該電子的運動路勁很長，在運動過程中不斷地與氬原子發生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經過多次碰撞后二次電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠離靶材最終沉積在襯底上。

目前，基片都是通過磁鐵固定在傘具的傘葉的表面，通過傘葉固定在傘架上，使得傘架沿著中心軸旋轉進行鍍膜，然而磁鐵在使用過程中，掉落的磁鐵碎末會吸附在磁鐵表面，清理過程比較麻煩；磁鐵在固定鍍膜材料過程中，會隨產品鍍上各種顏色，長時間后鍍膜層會慢慢像粉塵一樣掉落，導致磁鐵表面的鍍膜粉塵無法清理干凈。對于不用的磁鐵，存放時，磁鐵由于本身硬度太高，在相互吸附過程中會有碰傷，導致磁鐵損失比較大，一般3個月就要補充磁鐵。

實用新型內容

有鑒于此，為了解決現有的磁鐵外表吸附的磁鐵碎末或者鍍膜過程中吸附的粉塵或者磁鐵的消磁現象，本實用新型提出一種固定鍍膜基片的磁鐵裝置，通過在磁鐵上加一個磁鐵保護套，有效的緩解磁鐵在相互吸附過程中的碰撞，將磁鐵取出后只需對磁鐵保護套進行清洗，清潔非常方便。

一種固定鍍膜基片的磁鐵裝置，其包括：磁鐵11和磁鐵保護套12，其特征在于：在磁鐵11外面套一個磁鐵保護套12，磁鐵11為扁平圓柱體，磁鐵11的材料為圓形鍍鎳磁鐵，磁鐵保護套12的材料為鐵，磁鐵保護套12為凹狀中空圓柱狀，底部開口處為卷邊設計，便于套住磁鐵11。

進一步的，磁鐵11的底部和頂部的直徑為8-12mm，磁鐵11的厚度為4-6mm，較為優選的，磁鐵11的底部和頂部的直徑為10mm,磁鐵11的厚度為5mm。

進一步的，磁鐵保護套12的直徑為9-13mm，高度為4-6mm，較為優選的，磁鐵保護套12的直徑為11mm,高度為5mm。

進一步的，磁鐵11的材料為圓形鍍鎳磁鐵，由于鎳的拋光性能優越，耐高溫耐腐蝕。

進一步的，磁鐵保護套12的材料為鐵，既方便清洗又可以使磁鐵保護套12被磁鐵11吸附住減少長期使用后磁鐵保護套12變形不容易脫落。

進一步的，磁鐵保護套12為凹狀中空圓柱狀，底部開口處為卷邊設計，便于套住磁鐵11。

進一步的，磁鐵裝置1固定鍍膜基片2的時，若鍍膜基片2厚度小于等于1mm的直接用磁鐵裝置1固定鍍膜基片2的四個角；若鍍膜基片2厚度大于1mm的時候需要先使用膠帶固定鍍膜基片2的四個角后將磁鐵裝置1固定在膠帶兩端進一步的固定鍍膜基片2。

進一步的，磁鐵裝置1存放為一顆顆的相互排列吸附存放于存放器材內。