[實用新型]一種制備擬薄水鋁石設備的汽水分離系統

有效

• 申請號: 201921443903.1
• 申請日: 2019-09-02
• 公開（公告）號: CN210645406U
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發明（設計）人: 王紅彬;宮鈺;郭寶森;孫淑玲
• 申請（專利權）人: 淄博齊茂催化劑有限公司
• 主分類號: B01D33/056
• 分類號: B01D33/056
• 代理公司: 北京萬科園知識產權代理有限責任公司 11230
• 代理人: 張亞軍;陳憲忠

1.一種制備擬薄水鋁石設備的汽水分離系統，包括帶濾機、水環真空泵、真空排液罐；其特征在于，還包括高位真空罐(4)、低位水箱(5)；所述帶濾機(1)真空盒上的出水管口(111)通過抽水管路與所述真空排液罐(3)進水口(31)相連通，所述真空排液罐(3)排氣口(33)通過抽氣管路與所述高位真空罐(4)吸氣口(41)相連通，所述真空排液罐(3)排液口(32)通過排水管(19)通入大氣中的集水池，所述高位真空罐(4)出氣口(42)通過抽氣管路與所述水環真空泵(2)進氣口相連通,所述高位真空罐(4)吸水口(43)通過緩沖吸水管(15)伸入所述低位水箱(5)的液面下密閉連通；所述高位真空罐(4)、所述真空排液罐(3)的安裝位置高于所述低位水箱(5)。

2.如權利要求1所述的一種制備擬薄水鋁石設備的汽水分離系統，其特征在于，所述真空排液罐(3)的罐體內被隔板(17)分隔為上腔(8)和下腔(9)，所述真空排液罐(3)的所述進水口(31)設置在所述上腔(8)上部的側壁上；所述真空排液罐(3)的所述排液口(32)設置在所述下腔(9)底部；所述真空排液罐(3)的所述排氣口(33)設置在所述上腔(8)頂部，所述上腔(8)的側壁底部開設有上腔排水口(10)，所述下腔(9)的側壁頂部與所述上腔排水口(10)下方相鄰位置開設有下腔進液口(11)，所述上腔排水口(10)、下腔進液口(11)外周設有密閉的觀察室(12)，所述上腔排水口(10)與所述下腔進液口(11)通過所述觀察室(12)相連通，所述上腔(8)與所述下腔(9)之間通過外接連接管(16)相連通，所述連接管(16)上端設置真空電磁閥(13)、下端設置大氣連通電磁閥(14)。

3.如權利要求2所述的一種制備擬薄水鋁石設備的汽水分離系統，其特征在于，所述上腔排水口(10)、排水管(19)出水口設置活動封門(18)。

4.如權利要求1所述的一種制備擬薄水鋁石設備的汽水分離系統，其特征在于：所述高位真空罐(4)的中部側壁設置液位計(7)及液位報警器。

5.如權利要求1所述的一種制備擬薄水鋁石設備的汽水分離系統，其特征在于，所述真空排液罐(3)的安裝位置高度在所述高位真空罐(4)與所述低位水箱(5)之間。

6.如權利要求1所述的一種制備擬薄水鋁石設備的汽水分離系統，其特征在于，所述高位真空罐(4)安裝在所述低位水箱(5)的正上方位置。

7.如權利要求2所述的一種制備擬薄水鋁石設備的汽水分離系統，其特征在于，所述真空排液罐(3)進水口(31)上方設置絲網除沫器(6)。