[實用新型]一種定向高增益天線及遙控設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921441129.0
• 申請日: 2019-08-29
• 公開（公告）號: CN210224277U
• 公開（公告）日: 2020-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郭康清;尹柳中;王子同;謝仁禮;楊福軍
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳TCL新技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01Q1/36
• 分類號: H01Q1/36;H01Q1/38;H01Q1/48;H01Q1/22;H01Q1/50;H01Q15/16
• 代理公司: 深圳市君勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44268
• 代理人: 王永文;宗繼穎

本實用新型中提供了一種定向高增益天線及遙控設(shè)備，所述定向高增益天線包括：基板；設(shè)置于基板上的反射式地機構(gòu)和天線機構(gòu)；反射式地機構(gòu)設(shè)置有一開口朝向天線機構(gòu)的，用于反射天線的電磁波的反射凹口。通過在反射式地機構(gòu)上內(nèi)凹形成反射凹口，使得反射凹口的內(nèi)部邊緣兼為反射振子的作用，進(jìn)而使得定向高增益天線呈現(xiàn)電流相位滯后效果，在天線機構(gòu)朝向反射凹口方向的電磁波矢量場呈現(xiàn)疊加抵消，而在反射凹口朝向天線機構(gòu)的方向的電磁波矢量場呈現(xiàn)疊加增強，最終使得定向高增益天線電磁波輻射呈現(xiàn)定向增益的效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及天線領(lǐng)域，尤其涉及的是一種定向高增益天線及遙控設(shè)備。

背景技術(shù)

天線是無線系統(tǒng)中的關(guān)鍵組件，現(xiàn)有天線都包括具有發(fā)射和接收電磁波的振子。

然而，在所述天線實際應(yīng)用于時，比如遙控設(shè)備、無線路由設(shè)備等；往往僅僅需要某一方向進(jìn)行控制操作，這就要求天線發(fā)射的電磁波信號僅僅朝向這一特定方向輻射，或者，在這一特定方向高增益輻射；但是，現(xiàn)有天線結(jié)構(gòu)在發(fā)射電磁波時，被發(fā)射出的電磁波在擴散輻射時，會以所述振子為中心，朝向振子的周圍立體空間進(jìn)行擴散輻射；這顯然與對天線電磁波輻射情況明顯不符，造成天線使用不便。

因此，如何提供具備定向高增益功能的天線，成為亟待解決的問題。

實用新型內(nèi)容

本實用新型要解決的技術(shù)問題在于，針對現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，提供一種定向高增益天線，旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中天線不能朝向特定方向高增益輻射電磁波的問題。

本實用新型解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案如下：一種定向高增益天線，用于遙控設(shè)備，包括：

基板；

設(shè)置于所述基板上的反射式地機構(gòu)和天線機構(gòu)；

所述反射式地機構(gòu)設(shè)置有一開口朝向所述天線機構(gòu)的，用于反射所述天線的電磁波的反射凹口。

進(jìn)一步的，所述反射凹口的內(nèi)側(cè)邊緣設(shè)置為階梯狀或弧形。

進(jìn)一步的，所述反射凹口的底部尺寸小于所述反射凹口的口部尺寸。

進(jìn)一步的，所述基板包括設(shè)置于兩相對端面的頂層和底層；

所述頂層和/或底層上設(shè)置有反射式地機構(gòu)；

所述頂層和/或底層上設(shè)置有天線機構(gòu)。

進(jìn)一步的，所述反射式地機構(gòu)包括內(nèi)凹式金屬地和齊平式金屬地；

所述內(nèi)凹式金屬地設(shè)置于底層上，所述齊平式金屬地設(shè)置于頂層上；或者，所述內(nèi)凹式金屬地設(shè)置于頂層上，所述齊平式金屬地設(shè)置于底層上；所述反射凹口設(shè)置于內(nèi)凹式金屬地上；所述齊平式金屬地設(shè)置有平齊式邊緣。

進(jìn)一步的，所述定向高增益天線還包括饋源和微帶線；

所述饋源設(shè)置于所述頂層或底層上；

所述微帶線用于電連接所述天線機構(gòu)和饋源，以及用于電連接天線機構(gòu)和反射式地機構(gòu)。

進(jìn)一步的，所述天線機構(gòu)包括對稱設(shè)置的第一天線振子和第二天線振子；

所述微帶線包括第一微帶線和第二微帶線；

所述第一微帶線用于電連接所述第一天線振子和饋源；

所述第二微帶線用于電連接所述第二天線振子和內(nèi)凹式金屬地。

進(jìn)一步的，所述第一天線振子、第一微帶線、饋源和齊平式金屬地設(shè)置于所述頂層上；

所述第二天線振子、第二微帶線和內(nèi)凹式金屬地設(shè)置于所述底層上；

所述第一微帶線和所述第二微帶線在所述頂層和所述底層上正投影重合；