[實用新型]一種用于分子束外延生產中襯底的清洗槽

有效

• 申請號: 201921428551.2
• 申請日: 2019-08-30
• 公開（公告）號: CN210474806U
• 公開（公告）日: 2020-05-08
• 發明（設計）人: 馮巍;謝小剛
• 申請（專利權）人: 新磊半導體科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;H01L21/67
• 代理公司: 蘇州華博知識產權代理有限公司 32232
• 代理人: 郭帥

本實用新型提供一種用于分子束外延生產中襯底的清洗槽，涉及半導體制造技術領域。該清洗槽包括槽壁和槽底，在槽壁的壁體內部設置有連通清洗槽內部與外部的通道，清洗槽上形成有位于槽內部靠近槽底位置處的第一出口和位于槽外部靠近槽底位置處的第二出口，第二出口的水平高度低于第一出口的水平高度，通道包括第一和第二子通道，第一與第二子通道在壁體內部的距槽底上表面預定高度的位置處連通，第一子通道與第一出口連通，并且第二子通道與第二出口連通。通過在槽壁內設置連通第一出口和第二出口的通道，在清洗槽中的溶液高度超出預定高度時，清洗槽內的溶液可以根據虹吸原理，通過通道自動排出到清洗槽外部，實現了清洗槽中廢液的自動清理。

技術領域

本實用新型涉及半導體制造技術領域，具體涉及一種用于分子束外延生產中襯底的清洗槽。

背景技術

在分子束外延生產中，在將襯底片放入分子束外延設備中進行外延生長之前，需要通過特定的化學溶液來對襯底片進行清洗，以除去襯底片表面的各種污染物。

在常規的生產中，為了提高襯底片清洗效率，通常將數十片(例如，25片)襯底片放置于一個片槽中，然后將整個片槽置于容納有特定的化學溶液的清洗槽中進行清洗。清洗完畢之后，由操作人員搬動清洗槽以將其中的化學溶液倒入廢液儲液罐中。由于清洗槽通常由一定厚度的聚四氟乙烯制成，并且清洗襯底片時所容納的化學溶液需要淹沒片槽，因而清洗槽和化學溶液的總重量通常會達到數十千克。

因此，在清洗完襯底片之后，操作人員搬動清洗槽以清理其中的化學溶液是非常耗力并且不方便的。

實用新型內容

本實用新型的目的在于，針對上述現有技術的不足，提供一種用于分子束外延生產中襯底的清洗槽，以解決清洗槽中廢液的清理問題。

為實現上述目的，本實用新型采用的技術方案如下：

本實用新型提供了一種用于分子束外延生產中襯底的清洗槽，用于容納化學溶液以對襯底進行清洗，清洗槽包括槽壁和槽底，在槽壁的壁體內部設置有連通清洗槽內部與外部的通道，清洗槽上形成有位于清洗槽內部靠近槽底的位置處的第一出口和位于清洗槽外部靠近槽底的位置處的第二出口，第二出口所處的水平高度低于第一出口所處的水平高度，通道包括第一子通道和第二子通道，第一子通道與第二子通道在壁體內部的距槽底的上表面預定高度的位置處連通，第一子通道與第一出口連通，并且第二子通道與第二出口連通。

可選地，第一子通道與第二子通道在壁體內部分別沿垂直于槽底的方向延伸。

可選地，第一出口位于槽底的上表面處，第一出口的開口方向與槽底的上表面所在平面垂直。

可選地，第二出口位于槽底側壁上靠近槽底的下表面的位置處，第二出口的開口方向與槽底的下表面所在平面之間的夾角為銳角。

可選地，第二出口處還設置有管道接口，用于與外部管道連接。

可選地，在槽壁的壁體內側表面上距槽底的上表面預定高度的位置處設置有標記，標記與槽壁采用同種材料一體地形成。

可選地，通道的截面為長方形，截面在平行于槽壁的壁體的方向上的第一尺寸大于截面在垂直于壁體的方向上的第二尺寸。

可選地，第二尺寸小于或等于壁體的厚度的五分之一。

可選地，清洗槽為長方體清洗槽，長方體清洗槽包括兩個或更多個第一出口、與所述兩個或更多個第一出口分別對應的通道和第二出口。

可選地，清洗槽包括分別位于長方體清洗槽的四個拐角附近的四個第一出口、與所述四個第一出口分別對應的通道和第二出口。

本實用新型的有益效果包括：