[實用新型]一種濺射鍍膜機的輔助冷卻系統有效
| 申請號： | 201921428056.1 | 申請日： | 2019-08-29 |
| 公開（公告）號： | CN210620927U | 公開（公告）日： | 2020-05-26 |
| 發明（設計）人： | 唐志強;姜鈞 | 申請（專利權）人： | 承德奧斯力特電子科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京方韜法業專利代理事務所(普通合伙) 11303 | 代理人： | 朱麗華 |
| 地址： | 067000 河北省*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 濺射 鍍膜 輔助 冷卻系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種濺射鍍膜機的輔助冷卻系統，其特征在于，包括依次通過管道連接的儲氣罐、制冷裝置、電磁閥、流量調節閥和濺射輔助室，所述濺射輔助室設置在濺射真空室內的基片運行軌道上，且至少位于第一濺射室的后方。
2.根據權利要求1所述的濺射鍍膜機的輔助冷卻系統，其特征在于，所述濺射輔助室采用橫跨在基片運行軌道上的半封閉式箱體。
3.根據權利要求2所述的濺射鍍膜機的輔助冷卻系統，其特征在于，所述濺射輔助室設置在第三濺射室或第四濺射室后的基片運行軌道上。
4.根據權利要求1所述的濺射鍍膜機的輔助冷卻系統，其特征在于，所述儲氣罐用于儲存氮氣、二氧化碳、氬氣或其它惰性氣體。
5.根據權利要求1所述的濺射鍍膜機的輔助冷卻系統，其特征在于，所述輔助冷卻系統還包括設置在所述濺射輔助室內的溫度傳感器，和與所述溫度傳感器、電磁閥和流量調節閥連接的控制器。
6.根據權利要求5所述的濺射鍍膜機的輔助冷卻系統，其特征在于，所述儲氣罐、制冷裝置、電磁閥、流量調節閥和控制器均位于所述濺射真空室的外部。
7.根據權利要求1至6任一項所述的濺射鍍膜機的輔助冷卻系統，其特征在于，所述輔助冷卻系統包括兩個以上的濺射輔助室，兩個以上的所述濺射輔助室間隔設置在多個濺射室之間。
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