[實(shí)用新型]烤盤(pán)組件及煎烤機(jī)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201921405314.4 | 申請(qǐng)日: | 2019-08-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN211484132U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-09-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊建剛;林達(dá)福 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 浙江紹興蘇泊爾生活電器有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | A47J37/06 | 分類(lèi)號(hào): | A47J37/06;A47J37/10 |
| 代理公司: | 杭州華進(jìn)聯(lián)浙知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33250 | 代理人: | 趙潔修 |
| 地址: | 312071*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 組件 煎烤機(jī) | ||
本實(shí)用新型涉及一種烤盤(pán)組件及煎烤機(jī),所述烤盤(pán)組件包括上蓋、至少部分透光的烤盤(pán)、固定至所述上蓋的反射罩,以及設(shè)置于所述反射罩與所述烤盤(pán)之間遠(yuǎn)紅外加熱管,所述遠(yuǎn)紅外加熱管的最大輻射面積為A,所述烤盤(pán)的透光工作面積為B,兩者之間滿足如下關(guān)系:1/10≤A/B≤7/10,遠(yuǎn)紅外加熱管向外輻射的遠(yuǎn)紅外光線,部分直接輻射至烤盤(pán)上,另外的部分被反射罩反射至烤盤(pán)上,如此使得烤盤(pán)上的遠(yuǎn)紅外光線能量分布較為均勻,烤盤(pán)的透光工作面積B是烤盤(pán)能夠出射遠(yuǎn)紅外光線的面積,限定遠(yuǎn)紅外集熱管的最大輻射面積A與該透光工作面積的比值,可以使盡可能多的遠(yuǎn)紅外光線能量輻射至食材的上表面,同時(shí)也可以使這些遠(yuǎn)紅外光線能量在烤盤(pán)上分布的更加均勻。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及烹飪器具技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種烤盤(pán)組件及煎烤機(jī)。
背景技術(shù)
相關(guān)現(xiàn)有技術(shù)中披露的煎烤機(jī)中,上下烤盤(pán)的加熱方式為間接電加熱方式,即,由加熱管將電能轉(zhuǎn)化為熱能進(jìn)而傳導(dǎo)至烤盤(pán),或者將加熱管固定至盤(pán)狀的加熱盤(pán)上,以通過(guò)加熱盤(pán)對(duì)加熱管的熱量進(jìn)行勻化,然后通過(guò)加熱盤(pán)傳導(dǎo)至烤盤(pán)上。這種方式中,煎烤機(jī)的上下烤盤(pán)均需要與食材表面直接接觸,才能完成雙面煎烤,由于食材受到上烤盤(pán)的壓力,口感不夠松脆。因此,為了提升食材的口感,一些煎烤機(jī)中采用遠(yuǎn)紅外加熱裝置作為光熱元件,直接通過(guò)遠(yuǎn)紅外光線輻射的形式進(jìn)行煎烤熟化,這種結(jié)構(gòu)的煎烤機(jī),遠(yuǎn)紅外加熱裝置的遠(yuǎn)紅外光線可以滲透至食材內(nèi)一定深度,采用遠(yuǎn)紅外加熱裝置的烤盤(pán)組件與食材無(wú)需接觸即可實(shí)現(xiàn)對(duì)食材的烘烤,食材的口感更佳蓬松。
但是,采用遠(yuǎn)紅外加熱裝置的煎烤機(jī)中,由于遠(yuǎn)紅外光線具有很好的滲透效果,遠(yuǎn)紅外加熱裝置設(shè)置的不合理,就很容易出現(xiàn)上色不均勻或不上色問(wèn)題。
實(shí)用新型內(nèi)容
基于此,有必要針對(duì)上述問(wèn)題,提供一種烤盤(pán)組件及煎烤機(jī),該烤盤(pán)組件能夠改善食材的烘烤上色情況。
一種烤盤(pán)組件,所述烤盤(pán)組件包括上蓋、至少部分透光的烤盤(pán)、固定至所述上蓋的反射罩,以及設(shè)置于所述反射罩與所述烤盤(pán)之間遠(yuǎn)紅外加熱管,其中,所述遠(yuǎn)紅外加熱管彎曲呈預(yù)定形狀,所述遠(yuǎn)紅外加熱管的外緣圍成區(qū)域在所述烤盤(pán)上的投影面積為A,所述烤盤(pán)的工作面積為B,兩者之間滿足如下關(guān)系:1/10≤A/B≤7/10。
進(jìn)一步地,所述最大輻射面積A與所述工作面積B之間滿足如下關(guān)系:3/10≤A/B≤6/10。
如此設(shè)置,遠(yuǎn)紅外加熱管向外輻射的遠(yuǎn)紅外光線,部分直接輻射至烤盤(pán)上,另外的部分被反射罩反射至烤盤(pán)上,如此使得烤盤(pán)上的遠(yuǎn)紅外光線能量分布較為均勻,烤盤(pán)的工作面積B是烤盤(pán)實(shí)際用于煎烤食材的面積,限定投影面積A與該工作面積B的比值,可以使盡可能多的遠(yuǎn)紅外光線能量輻射至食材的上表面,同時(shí)也可以使這些遠(yuǎn)紅外光線能量在烤盤(pán)上分布的更加均勻。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述烤盤(pán)為微晶玻璃板。
進(jìn)一步地,所述烤盤(pán)的工作面積為所述微晶玻璃板的煎烤面積。
如此設(shè)置,微晶玻璃材質(zhì)的透光性好,機(jī)械強(qiáng)度高且耐高溫,適合于配合遠(yuǎn)紅外加熱裝置用作烤盤(pán)。
所述反射罩具有至少一個(gè)朝向所述烤盤(pán)延伸的弧面凸起,所述弧面凸起自所述遠(yuǎn)紅外加熱管所環(huán)繞的區(qū)域外凸所述反射罩除所述弧面凸起以外的部分呈朝向所述上蓋方向彎曲的弧面設(shè)置。
如此設(shè)置,弧面凸起的設(shè)置可以避免遠(yuǎn)紅外光線在遠(yuǎn)紅外加熱管環(huán)繞的區(qū)域內(nèi)交叉,導(dǎo)致局部遠(yuǎn)紅外光線能量過(guò)高,同時(shí),遠(yuǎn)紅外加熱管的外表面為弧形表面反射罩除弧面凸起的部分呈弧面設(shè)置,可以使反射罩的這部分內(nèi)表面與遠(yuǎn)紅外加熱管外表面之間更接近等間距設(shè)置,從而使得輻射至反射罩的遠(yuǎn)紅外光線能量更加均勻,最終使食材的上色更均勻。
在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述遠(yuǎn)紅外加熱管與所述烤盤(pán)的內(nèi)表面之間還設(shè)置有擴(kuò)散罩,所述擴(kuò)散罩上均勻設(shè)置有若干透孔,所述擴(kuò)散罩設(shè)置為使得所述遠(yuǎn)紅外加熱管向所述烤盤(pán)輻射的遠(yuǎn)紅外光線能夠通過(guò)所述透孔定向射出。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于浙江紹興蘇泊爾生活電器有限公司,未經(jīng)浙江紹興蘇泊爾生活電器有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201921405314.4/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 上一篇:一種局放器
- 下一篇:煲體和具有其的烹飪器具





