[實用新型]微圖文轉(zhuǎn)印用真空層壓裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201921385154.1
• 申請日: 2019-08-23
• 公開（公告）號: CN210348194U
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 馮煜;周永南;袁順年
• 申請（專利權(quán)）人: 江陰通利光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及微圖文轉(zhuǎn)印用真空層壓裝置，其特征在于，包括裝置主體和壓蓋，裝置主體包括工作臺面、若干組支撐腳、定位部件和壓板，壓蓋包括壓蓋主體、硅膠墊，在壓蓋主體的下沿邊緣設(shè)有若干第一限位塊和若干安裝座內(nèi)嵌槽，第一限位塊設(shè)有插銷孔；工作臺面包括長方形滑槽、縱向滾珠絲杠滑道、橫向滾珠絲杠安裝孔、若干壓蓋安裝座、抽真空孔；定位部件包括滑軌、橫向滾珠絲杠、第二限位塊、縱向滾珠絲杠滑槽、縱向滾珠絲杠、第一定位組件和第二定位組件；壓板設(shè)有若干吸附孔。本實用新型的微圖文轉(zhuǎn)印用真空層壓裝置，解決了光掩模版和薄膜基板快速精準(zhǔn)對位，以及壓合過程中由于受力過大而導(dǎo)致光掩模版受損的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及微圖文轉(zhuǎn)印設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及微圖文轉(zhuǎn)印用真空層壓裝置。

背景技術(shù)

隨著科技的飛速發(fā)展，微圖文轉(zhuǎn)印技術(shù)被廣泛用于電子元器件、高密度磁盤介質(zhì)、防偽薄膜等領(lǐng)域，常用的微圖轉(zhuǎn)印文技術(shù)主要分為接觸式光刻和非接觸式光刻兩種，其中，接觸式光刻要求在曝光時將掩膜版壓在襯底基片的光刻膠上，因此，需要用層壓機進行對壓。然而，現(xiàn)有的層壓機進行對壓操作時，常常難以將掩膜版和襯底基片進行精準(zhǔn)對位，而且層壓過程中容易因為受力過大或不均而對掩膜版和襯底基片造成損傷。

中國公開號為CN 208240707 U公開的層壓裝置，包括基板和頂板，所述基板的上端面設(shè)有第一層壓凹槽，所述基板與所述頂板之間設(shè)有位于所述第一層壓凹槽的外周的內(nèi)密封墊和位于所述內(nèi)密封墊外的外密封墊，所述基板、所述頂板、所述內(nèi)密封墊與所述外密封墊構(gòu)成密封腔，所述基板下端面設(shè)有與所述第一層壓凹槽連通的第一抽真空孔以及與所述密封腔連通的第二抽真空孔；通過控制抽真空度來實現(xiàn)層壓力度，保證層壓效果，但是，此種層壓裝置沒有定位部件，因此，對片材的對位比較困難，且容易在對壓過程中產(chǎn)生移位現(xiàn)象，從而影響轉(zhuǎn)印的效果。

因此，有必要對現(xiàn)有的層壓裝置進行改進，以解決上述問題。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提供微圖文轉(zhuǎn)印用真空層壓裝置，以實現(xiàn)光掩模版和薄膜基板快速精準(zhǔn)地對位，以及解決壓合過程中由于受力過大而導(dǎo)致光掩模版受損的問題。

為達(dá)到上述實用新型的目的，本實用新型提供的技術(shù)方案為：微圖文轉(zhuǎn)印用真空層壓裝置，包括裝置主體和壓蓋，所述裝置主體包括工作臺面、設(shè)置于工作臺面底部兩側(cè)的若干組支撐腳、定位部件和壓板；所述壓蓋包括壓蓋主體及其設(shè)置于壓蓋主體內(nèi)表面的硅膠墊，所述硅膠墊的厚度為1-2cm；所述壓蓋可相對裝置主體翻轉(zhuǎn)270°，且壓蓋可停留在0°或270°位置；

在所述壓蓋主體的下沿邊緣設(shè)有若干第一限位塊和若干安裝座內(nèi)嵌槽，所述第一限位塊與安裝座內(nèi)嵌槽交替設(shè)置，且所述第一限位塊設(shè)有插銷孔；

所述工作臺面為上方敞口的長方體設(shè)計，包括設(shè)置于工作臺面左、右兩側(cè)面內(nèi)壁的長方形滑槽，內(nèi)置于工作臺面前側(cè)面并與水平面相平行的縱向滾珠絲杠滑道，內(nèi)置于工作臺面右側(cè)面的橫向滾珠絲杠安裝孔，設(shè)置在工作臺面后側(cè)面頂部的若干壓蓋安裝座，以及內(nèi)置于工作臺面兩側(cè)面并貫通至長方形滑槽的抽真空孔；

所述定位部件，水平設(shè)置在工作臺面的內(nèi)部，呈“H”型設(shè)計，包括滑軌、平行于滑軌設(shè)置的橫向滾珠絲杠、套接在橫向滾珠絲杠兩端的第二限位塊、架設(shè)在滑軌和橫向滾珠絲杠上方的縱向滾珠絲杠滑槽、設(shè)置在縱向滾珠絲杠滑槽內(nèi)部的縱向滾珠絲杠、固定設(shè)置在滑軌左端上表面的第一定位組件和套接在縱向滾珠絲杠上的第二定位組件；

所述壓板為長方形設(shè)計，且所述壓板的長度和寬度均與工作臺面的內(nèi)長和內(nèi)寬相一致，所述壓板設(shè)置在所述長方形滑槽的上端，壓板位于長方形滑槽所在的區(qū)域設(shè)有若干吸附孔。

進一步地，所述長方形滑槽呈水平設(shè)置，且長方形滑槽的一端與工作臺面的前側(cè)面內(nèi)壁固定在一起，另一端與工作臺面的后側(cè)面的內(nèi)壁固定在一起，且所述長方形滑槽的頂端距工作臺面頂端0.5-1cm。