[實(shí)用新型]一種雙面研磨拋光機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201921366349.1
• 申請(qǐng)日: 2019-08-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN210819062U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉寧嶸;胡彪
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 寧波新宇硬質(zhì)合金密封有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B24B37/08
• 分類(lèi)號(hào): B24B37/08;B24B37/34
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

本實(shí)用新型涉及一種雙面研磨拋光機(jī)，涉及研磨拋光設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有拋光機(jī)需要使用研磨液的問(wèn)題，其包括下研磨盤(pán)上靠近上研磨盤(pán)的一側(cè)設(shè)置有用于研磨工件的第一研磨塊，上研磨盤(pán)上靠近下研磨盤(pán)的一側(cè)設(shè)置有第二研磨塊，第一研磨塊與第二研磨塊的表面上均做過(guò)噴砂處理；上研磨盤(pán)與下研磨盤(pán)之間設(shè)置有若干用于固定工件的齒輪盤(pán)，齒輪盤(pán)上設(shè)置有若干供工件安裝的安裝孔；傳動(dòng)軸上遠(yuǎn)離電機(jī)的一端設(shè)置有軸承，軸承上設(shè)置有用于蓋合傳動(dòng)軸和軸承的套筒。本實(shí)用新型具有安裝方便、清理簡(jiǎn)單的效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及研磨拋光設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種雙面研磨拋光機(jī)。

背景技術(shù)

研磨拋光機(jī)主要用于兩面平行的晶體或者其他的機(jī)械零件進(jìn)行研磨，特別是薄脆性材料的加工。適用于各種材質(zhì)的機(jī)械金屬密封環(huán)、陶瓷片、氣缸活塞環(huán)、油泵葉片軸承端面，以及硅、石英晶體、藍(lán)寶石、玻璃等材料的平面研磨和拋光。

現(xiàn)有的研磨拋光機(jī)在研磨操作時(shí)，要向研磨腔內(nèi)加入研磨液，研磨液有潤(rùn)滑油、金屬砂、等組織構(gòu)成，在研磨機(jī)高速運(yùn)轉(zhuǎn)下對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行研磨，以達(dá)到拋光的目的。

上述中的現(xiàn)有技術(shù)方案存在以下缺陷：研磨液的制作,需要事先將潤(rùn)滑油與金屬砂按照規(guī)定的比例配置好，一旦在研磨液使用完之后，需要將研磨液進(jìn)行清理，由于金屬砂與潤(rùn)滑油混合后呈黏絮狀，因此導(dǎo)致清洗的工作較大，還有改進(jìn)的空間。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種雙面研磨拋光機(jī)，安裝方便、容易清理。

本實(shí)用新型的上述實(shí)用新型目的是通過(guò)以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的：

一種雙面研磨拋光機(jī)，包括操作臺(tái)、設(shè)置于操作臺(tái)上的電機(jī)、設(shè)置于操作臺(tái)上且通過(guò)電機(jī)帶動(dòng)的傳動(dòng)軸、設(shè)置于操作臺(tái)上且用于研磨工件的下研磨盤(pán)、與下研磨盤(pán)配合的上研磨盤(pán)，所述下研磨盤(pán)上靠近上研磨盤(pán)的一側(cè)設(shè)置有用于研磨工件的第一研磨塊，所述上研磨盤(pán)上靠近下研磨盤(pán)的一側(cè)設(shè)置有與第一研磨塊同步配合的第二研磨塊；

所述上研磨盤(pán)與下研磨盤(pán)之間設(shè)置有若干用于固定工件的齒輪盤(pán)，所述齒輪盤(pán)上設(shè)置有若干供工件安裝的安裝孔；

所述傳動(dòng)軸上靠近上研磨盤(pán)的一端設(shè)置有與齒輪盤(pán)相互嚙合的傳動(dòng)齒輪，所述操作臺(tái)上靠近齒輪盤(pán)的一側(cè)設(shè)置有與齒輪盤(pán)相互嚙合限位的限位齒環(huán)。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，第一研磨塊與第二研磨塊相互配合，使得工件的研磨拋光效果更好，提高研磨拋光的效率，噴砂處理后的第一研磨塊與第二研磨塊對(duì)工件的研磨效果更好，進(jìn)一步提高了對(duì)工件的研磨效果，齒輪盤(pán)的設(shè)置，使工件之間不會(huì)碰撞抵觸，減少工件相互之間碰撞而造成的損壞；傳動(dòng)齒輪與限位齒環(huán)相互配合，使得齒輪盤(pán)在實(shí)際運(yùn)轉(zhuǎn)中不易脫離，加強(qiáng)齒輪盤(pán)安裝的穩(wěn)定性。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述傳動(dòng)軸上遠(yuǎn)離電機(jī)的一端設(shè)置有軸承，所述軸承上設(shè)置有用于蓋合傳動(dòng)軸和軸承的套筒。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，軸承與套筒的相互配合，使得電機(jī)在帶動(dòng)傳動(dòng)軸旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，套筒不會(huì)跟隨傳動(dòng)軸一起轉(zhuǎn)動(dòng)，在上研磨盤(pán)壓緊在工件上時(shí)，上研磨盤(pán)不會(huì)跟隨傳動(dòng)軸旋轉(zhuǎn)，提高研磨拋光效果。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述上研磨盤(pán)上設(shè)置有與套筒相互卡接限位的限位塊，所述套筒上設(shè)置有與限位塊相互卡接限位的限位槽。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，限位塊與限位槽相互配合，使得上研磨盤(pán)與下研磨盤(pán)能夠?qū)Φ母訙?zhǔn)確，降低安裝難度，且限位塊與限位槽的設(shè)置，使得套筒不會(huì)與傳動(dòng)軸一同旋轉(zhuǎn)，提高拋光研磨效率。

本實(shí)用新型進(jìn)一步設(shè)置為：所述第一研磨塊與第二研磨塊上靠近工件的一側(cè)均設(shè)置有紋路。

通過(guò)采用上述技術(shù)方案，由于第一研磨塊與第二研磨塊作用在工件上的壓力相同，防護(hù)紋路的設(shè)置使得第一研磨塊與第二研磨塊作用在工件上的接觸面積減小，從而壓強(qiáng)變大，所以防護(hù)紋路的設(shè)置使得研磨拋光的效果更好。