[實用新型]一種光阻供應(yīng)裝置及涂膠設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921364688.6 | 申請日: | 2019-08-21 |
| 公開(公告)號: | CN210181385U | 公開(公告)日: | 2020-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 程龍;劉運田;劉玉興;楊瀾 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京北旭電子材料有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/16 | 分類號: | G03F7/16 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 李欣 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 供應(yīng) 裝置 涂膠 設(shè)備 | ||
1.一種光阻供應(yīng)裝置,其特征在于,包括:支架框及光阻桶,所述光阻桶懸空固定于所述支架框內(nèi);
所述光阻桶的桶底向外凸出且形成有最低點,所述最低點設(shè)置有用于連接光阻涂布機臺的出料端口;
所述光阻桶的頂部設(shè)置有進(jìn)料端口以及用于調(diào)節(jié)所述光阻桶內(nèi)壓強的穩(wěn)壓結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻供應(yīng)裝置,其特征在于,所述穩(wěn)壓結(jié)構(gòu)包括進(jìn)氣端口、排氣端口以及自動穩(wěn)壓器。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光阻供應(yīng)裝置,其特征在于,所述光阻桶的頂部設(shè)有上封頭,所述進(jìn)料端口、所述進(jìn)氣端口、所述排氣端口以及所述自動穩(wěn)壓器均設(shè)置于所述上封頭上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光阻供應(yīng)裝置,其特征在于,所述上封頭設(shè)置有清洗蓋,所述清洗蓋內(nèi)側(cè)設(shè)置有用于清洗所述光阻桶內(nèi)部的清洗組件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的光阻供應(yīng)裝置,其特征在于,所述光阻桶的內(nèi)壁覆有四氟樹脂膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的光阻供應(yīng)裝置,其特征在于,所述光阻桶的桶底為倒圓錐形。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻供應(yīng)裝置,其特征在于,所述支架框包括用于安裝所述光阻桶的板框以及設(shè)置于所述板框底部的底托架;
所述板框的頂部設(shè)有吊裝口,所述底托架設(shè)置有叉車口。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光阻供應(yīng)裝置,其特征在于,所述板框的頂部還設(shè)置有防滑板,所述防滑板在所述底托架上的正投影與所述光阻桶在所述底托架上的正投影有重疊。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光阻供應(yīng)裝置,其特征在于,所述底托架的底部還設(shè)置有與所述出料端口對應(yīng)的出料口托盤。
10.一種涂膠設(shè)備,其特征在于,包括光阻涂布機臺以及如權(quán)利要求1-9中任一項所述的光阻供應(yīng)裝置,所述光阻供應(yīng)裝置的出料端口與所述光阻涂布機臺相連接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于京東方科技集團股份有限公司;北京北旭電子材料有限公司,未經(jīng)京東方科技集團股份有限公司;北京北旭電子材料有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201921364688.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 供應(yīng)原材料的分配設(shè)備及方法
- 化學(xué)液供應(yīng)與回收裝置
- 電源供應(yīng)電路、電源供應(yīng)系統(tǒng)以及電源供應(yīng)方法
- 圖像形成裝置及其功率供應(yīng)控制方法
- 液體供應(yīng)裝置及其控制方法
- 用于供應(yīng)棒狀元件的供應(yīng)系統(tǒng)、供應(yīng)單元、供應(yīng)器和方法
- 電力物資供應(yīng)管控方法、裝置和電子設(shè)備
- 材料供應(yīng)裝置、材料供應(yīng)系統(tǒng)及材料供應(yīng)方法
- 材料供應(yīng)裝置、材料供應(yīng)系統(tǒng)
- 供應(yīng)裝置及供應(yīng)系統(tǒng)
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





