[實(shí)用新型]一種環(huán)狀型氣流分配器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201921337169.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-08-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210473479U | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊科;龔小渝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 貴陽(yáng)睿億泰醫(yī)特工程有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01D53/02 | 分類號(hào): | B01D53/02 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 550002 貴州省貴陽(yáng)市南明區(qū)沙*** | 國(guó)省代碼: | 貴州;52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 環(huán)狀 氣流 分配器 | ||
本實(shí)用新型公開了一種環(huán)狀型氣流分配器,包括基盤,基盤的上部設(shè)有吸附塔,吸附塔下端的中心焊接有安裝環(huán),安裝環(huán)的上表面與吸附塔的內(nèi)部相連通,基盤上表面的中心焊接有豎直向上的分配筒,分配筒的上端貫穿安裝環(huán)中心的環(huán)孔并延伸至吸附塔的內(nèi)部,分配筒上端的內(nèi)環(huán)面焊接有上端蓋,分配筒下端的內(nèi)環(huán)面焊接有下端蓋,下端蓋的中心焊接有與分配筒內(nèi)部相連通的第一連接管,第一連接管的下端貫穿基盤的盤體并延伸至基盤的下方,分配筒位于安裝環(huán)上部的筒體部分開設(shè)有均勻分布的氣流孔。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,便于進(jìn)行安裝,有利于進(jìn)行安裝使用。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及工業(yè)生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種環(huán)狀型氣流分配器。
背景技術(shù)
在工業(yè)生產(chǎn)的過程中,會(huì)使用到吸附塔,吸附塔在使用的過程中,氣體為通過吸附塔底部進(jìn)入吸附塔內(nèi),并在吸附塔內(nèi)上升,并最終從吸附塔的上端排出。
傳統(tǒng)氣體在通過吸附塔下端進(jìn)入吸附塔內(nèi)部時(shí),多為一根豎直管道從吸附塔的底部插入吸附塔內(nèi)部,氣體從吸附塔內(nèi)部的管道上端的開口直接進(jìn)入吸附塔內(nèi),氣體從管道上端的開口直接進(jìn)入吸附塔內(nèi)的過程中,會(huì)造成氣體在吸附塔內(nèi)部下端的中心的流速過快、氣體在吸附塔內(nèi)部下端的外圍的流速較慢,從而造成了氣體不能夠在吸附塔內(nèi)部的下端實(shí)現(xiàn)均勻的上升,進(jìn)而不利于氣體在吸附塔內(nèi)部的下端的反應(yīng)的進(jìn)行。為此,我們提出了一種環(huán)狀型氣流分配器。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn),而提出的一種環(huán)狀型氣流分配器。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用了如下技術(shù)方案:
一種環(huán)狀型氣流分配器,包括基盤,所述基盤的上部設(shè)有吸附塔,所述吸附塔下端的中心焊接有安裝環(huán),所述安裝環(huán)的上表面與吸附塔的內(nèi)部相連通,所述安裝環(huán)的下表面開設(shè)有均勻分布的螺紋孔,所述基盤下表面對(duì)應(yīng)螺紋孔的部分設(shè)有連接螺栓,所述連接螺栓的上端貫穿基盤的盤體并螺紋連接至對(duì)應(yīng)的螺紋孔內(nèi),所述基盤上表面的中心焊接有豎直向上的分配筒,所述分配筒的上端貫穿安裝環(huán)中心的環(huán)孔并延伸至吸附塔的內(nèi)部,所述分配筒上端的內(nèi)環(huán)面焊接有上端蓋,所述分配筒下端的內(nèi)環(huán)面焊接有下端蓋,所述下端蓋的中心焊接有與分配筒內(nèi)部相連通的第一連接管,所述第一連接管的下端貫穿基盤的盤體并延伸至基盤的下方,所述分配筒位于安裝環(huán)上部的筒體部分開設(shè)有均勻分布的氣流孔。
優(yōu)選的,所述安裝環(huán)下部的環(huán)面以及基盤上部的環(huán)面均設(shè)有安裝臺(tái),所述安裝環(huán)的下部及基盤的上部之間通過安裝臺(tái)套設(shè)有密封環(huán),所述密封環(huán)位于連接螺栓的內(nèi)側(cè),所述密封環(huán)的上表面與安裝環(huán)的表面相貼合,所述密封環(huán)的下表面與基盤的表面相貼合,所述安裝環(huán)和基盤的相接處位于密封環(huán)的內(nèi)環(huán)面的中部。
優(yōu)選的,所述分配筒位于安裝環(huán)的環(huán)孔內(nèi)的部分套設(shè)有密封套筒,所述密封套筒的外表面與安裝環(huán)的內(nèi)環(huán)面相接觸。
優(yōu)選的,所述第一連接管的下端焊接有呈L型的第二連接管,所述第二連接管的另一端呈水平狀態(tài)并焊接有連接頭,所述連接頭與第二連接管的端部之間相連通。
優(yōu)選的,所述分配筒上同一水平面上的氣流孔之間呈環(huán)式分散狀。
本實(shí)用新型提出的一種環(huán)狀型氣流分配器,有益效果在于:本方案在使用的過程中,氣體依次通過連接頭、第二連接管、第一連接管進(jìn)入分配筒內(nèi),并從分配筒的氣流孔流動(dòng)至吸附塔內(nèi)部的下端,氣體在經(jīng)過分配筒上的氣流孔并流動(dòng)至吸附塔內(nèi)部時(shí),結(jié)合同一水平面之間的氣流孔的分布,使得氣體能夠形成環(huán)狀型氣流,且氣體脫離氣流孔時(shí)的流動(dòng)方向?yàn)樗綇较驙顟B(tài),因此使得氣流能夠向吸附塔下端內(nèi)部的外圍進(jìn)行擴(kuò)散并充滿吸附塔內(nèi)部的下端,此時(shí)在當(dāng)氣流向吸附塔內(nèi)部的上端進(jìn)行流動(dòng)時(shí),能夠使氣流在吸附塔內(nèi)部的下端實(shí)現(xiàn)均勻的向上流動(dòng),進(jìn)而有利于氣體在吸附塔內(nèi)部的下端的反應(yīng)的進(jìn)行,且整個(gè)分配器的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,便于進(jìn)行安裝,進(jìn)而使得整個(gè)分配器有利于進(jìn)行安裝使用。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型提出的一種環(huán)狀型氣流分配器的裝配結(jié)構(gòu)示意圖;
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