[實用新型]一種光學多層薄膜

有效

• 申請號: 201921318695.2
• 申請日: 2019-08-14
• 公開（公告）號: CN211215020U
• 公開（公告）日: 2020-08-11
• 發明（設計）人: 卜軼坤;尚士普;趙發才;曹紅飛
• 申請（專利權）人: 吉林科普源醫療器械有限公司
• 主分類號: A61N5/06
• 分類號: A61N5/06;G02B5/28;G02B5/00
• 代理公司: 北京彭麗芳知識產權代理有限公司 11407
• 代理人: 彭麗芳

1.一種光學多層薄膜，其特征在于：所述光學多層薄膜由二氧化硅層和二氧化鈦層交替組成，總層數為50層，總物理厚度3063nm。

2.一種包含權利要求1所述光學多層薄膜的光波輻照過濾裝置，其特征在于所述裝置包括：前置耐高溫石英玻璃和后置耐高溫石英玻璃；所述前置耐高溫石英玻璃和所述后置耐高溫石英玻璃的外側面鍍有所述光學多層薄膜；所述前置耐高溫石英玻璃和所述后置耐高溫石英玻璃貼合在兩塊齒輪狀散熱片圓形凹槽中；其中所述前置耐高溫石英玻璃鍍有所述光學多層薄膜的面向光源一側，所述后置耐高溫石英玻璃鍍有所述光學多層薄膜的面向外；所述前置耐高溫石英玻璃和所述后置耐高溫石英玻璃放置于兩片貼有玻璃、中間通透的齒輪狀散熱片中；所述兩片散熱片貼合固定，中間保留的縫隙用去離子水填充直至充滿，形成離子液體層。

3.如權利要求1所述光學多層薄膜，其特征在于，所述光學多層薄膜，其內部結構如下：

基底材料：玻璃

第1層：二氧化鈦，物理厚度：11.40nm，

第2層：二氧化硅，物理厚度：82.98nm，

第3層：二氧化鈦，物理厚度：27.40nm，

第4層：二氧化硅，物理厚度：55.50nm，

第5層：二氧化鈦，物理厚度：35.36nm，

第6層：二氧化硅，物理厚度：44.06nm，

第7層：二氧化鈦，物理厚度：50.18nm，

第8層：二氧化硅，物理厚度：54.50nm，

第9層：二氧化鈦，物理厚度：46.04nm，

第10層：二氧化硅，物理厚度：62.77nm，

第11層：二氧化鈦，物理厚度：27.3nm，

第12層：二氧化硅，物理厚度：53.4nm，

第13層：二氧化鈦，物理厚度：31.54nm，

第14層：二氧化硅，物理厚度：66.11nm，

第15層：二氧化鈦，物理厚度：52.30nm，

第16層：二氧化硅，物理厚度：51.43nm，

第17層：二氧化鈦，物理厚度：63.39nm，

第18層：二氧化硅，物理厚度：51.35nm，

第19層：二氧化鈦，物理厚度：50.08nm，

第20層：二氧化硅，物理厚度：73.97nm，

第21層：二氧化鈦，物理厚度：39.13nm，

第22層：二氧化硅，物理厚度：87.54nm，

第23層：二氧化鈦，物理厚度：45.98nm，

第24層：二氧化硅，物理厚度：72.94nm，

第25層：二氧化鈦，物理厚度：58.23nm，

第26層：二氧化硅，物理厚度：72.86nm，

第27層：二氧化鈦，物理厚度：50.02nm，

第28層：二氧化硅，物理厚度：93.30nm，

第29層：二氧化鈦，物理厚度：45.28nm，

第30層：二氧化硅，物理厚度：81.44nm，

第31層：二氧化鈦，物理厚度：62.7nm，

第32層：二氧化硅，物理厚度：59.64nm，

第33層：二氧化鈦，物理厚度：65.09nm，

第34層：二氧化硅，物理厚度：80.29nm，

第35層：二氧化鈦，物理厚度：42.51nm，

第36層：二氧化硅，物理厚度：105.55nm，

第37層：二氧化鈦，物理厚度：46.02nm，

第38層：二氧化硅，物理厚度：69.49nm，

第39層：二氧化鈦，物理厚度：74.14nm，

第40層：二氧化硅，物理厚度：54.34nm，

第41層：二氧化鈦，物理厚度：55.96nm，

第42層：二氧化硅，物理厚度：106.02nm，

第43層：二氧化鈦，物理厚度：24.51nm，

第44層：二氧化硅，物理厚度：129.06nm，

第45層：二氧化鈦，物理厚度：41.22nm，

第46層：二氧化硅，物理厚度：44.63nm，

第47層：二氧化鈦，物理厚度：133.89nm，

第48層：二氧化硅，物理厚度：20.98nm，

第49層：二氧化鈦，物理厚度：50.21nm，

第50層：二氧化硅，物理厚度：159.92nm。