[實(shí)用新型]一種處理廢氣的系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201921317152.9
• 申請(qǐng)日: 2019-08-14
• 公開（公告）號(hào): CN212017362U
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 秦學(xué)禮;張群;林東安;徐剛;彭定志;孫孝宏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 世源科技工程有限公司;中國電子工程設(shè)計(jì)院有限公司
• 主分類號(hào): B01D53/78
• 分類號(hào): B01D53/78;B01D53/56
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 劉紅彬

1.一種處理廢氣的系統(tǒng)，其特征在于，包括：從上游至下游依次設(shè)置的一氧化氮氧化裝置和二氧化氮還原及酸性廢氣處理裝置；

所述系統(tǒng)還包括進(jìn)風(fēng)管路、排風(fēng)裝置和排風(fēng)管路；所述排風(fēng)裝置設(shè)置在所述二氧化氮還原及酸性廢氣處理裝置的下游，所述排風(fēng)管路設(shè)置在所述排風(fēng)裝置的下游；所述進(jìn)風(fēng)管路設(shè)置在所述一氧化氮氧化裝置的上游、并與所述一氧化氮氧化裝置連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述一氧化氮氧化裝置包括外殼、噴淋口、循環(huán)液儲(chǔ)存器、循環(huán)液泵，液位計(jì)、氧化還原電位儀、電導(dǎo)率儀，氧化劑供液管、補(bǔ)水管、排污管，用于控制補(bǔ)充氧化劑溶液的第一閥門、用于控制補(bǔ)水的第二閥門、用于控制污水排放的第三閥門、自動(dòng)控制器，用于氮氧化物廢氣進(jìn)入的氣體入口、用于排出處理后的廢氣的氣體出口、循環(huán)液收集口；

所述外殼內(nèi)設(shè)置有所述噴淋口，所述外殼的上游設(shè)置有所述氣體入口，下游設(shè)置有所述氣體出口；所述外殼與所述循環(huán)液儲(chǔ)存器之間設(shè)置有循環(huán)液收集口，所述循環(huán)液泵將所述循環(huán)液儲(chǔ)存器內(nèi)的循環(huán)液泵入、并由噴淋口進(jìn)入到所述外殼中；

所述循環(huán)液儲(chǔ)存器與所述液位計(jì)、所述氧化還原電位儀、所述電導(dǎo)率儀這三者分別連接，所述自動(dòng)控制器與所述液位計(jì)電連接，所述自動(dòng)控制器與所述第二閥門電連接，所述自動(dòng)控制器與所述氧化還原電位儀電連接，所述自動(dòng)控制器與所述第一閥門電連接，所述自動(dòng)控制器與所述電導(dǎo)率儀電連接，所述自動(dòng)控制器與第三閥門電連接；所述第一閥門設(shè)置在所述氧化劑供液管上，所述第二閥門設(shè)置在所述補(bǔ)水管上，所述第三閥門設(shè)置在所述排污管上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述二氧化氮還原及酸性廢氣處理裝置包括外殼、噴淋口、循環(huán)液儲(chǔ)存器、循環(huán)液泵，液位計(jì)、氧化還原電位儀、電導(dǎo)率儀、pH值測試儀，還原劑供液管、補(bǔ)水管、排污管、氫氧化鈉供液管，用于控制補(bǔ)充還原劑溶液的第一閥門、用于控制補(bǔ)水的第二閥門、用于控制污水排放的第三閥門、用于控制補(bǔ)充氫氧化鈉溶液的第四閥門、自動(dòng)控制器，用于經(jīng)一氧化氮氧化裝置處理后的廢氣進(jìn)入的氣體入口、用于排出處理后的廢氣的氣體出口、循環(huán)液收集口；

所述外殼內(nèi)設(shè)置有所述噴淋口，所述外殼的上游設(shè)置有所述氣體入口，下游設(shè)置有所述氣體出口；所述外殼與所述循環(huán)液儲(chǔ)存器之間設(shè)置有循環(huán)液收集口，所述循環(huán)液泵將所述循環(huán)液儲(chǔ)存器內(nèi)的循環(huán)液泵入、并由噴淋口進(jìn)入到所述外殼中；

所述循環(huán)液儲(chǔ)存器與所述液位計(jì)、所述氧化還原電位儀、所述電導(dǎo)率儀、pH值測試儀這四者分別連接，所述自動(dòng)控制器與所述液位計(jì)電連接，所述自動(dòng)控制器與所述第二閥門電連接，所述自動(dòng)控制器與所述氧化還原電位儀電連接，所述自動(dòng)控制器與所述第一閥門電連接，所述自動(dòng)控制器與所述電導(dǎo)率儀電連接，所述自動(dòng)控制器與第三閥門電連接，所述自動(dòng)控制器與所述pH值測試儀電連接，所述自動(dòng)控制器與第四閥門電連接；所述第一閥門設(shè)置在所述還原劑供液管上，所述第二閥門設(shè)置在所述補(bǔ)水管上，所述第三閥門設(shè)置在所述排污管上，所述第四閥門設(shè)置在所述氫氧化鈉供液管上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述二氧化氮還原及酸性廢氣處理裝置包括：從上游至下游依次設(shè)置的二氧化氮還原裝置以及酸性廢氣處理裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述排風(fēng)裝置設(shè)置在所述酸性廢氣處理裝置的下游。