[實用新型]一種潔凈室有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921314598.6 | 申請日: | 2019-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN210713965U | 公開(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李鵬;肖紅梅;閻冬;王威;王江標;李傳琰;李撥 | 申請(專利權(quán))人: | 世源科技工程有限公司 |
| 主分類號: | E04H1/12 | 分類號: | E04H1/12;E04H5/02;F24F3/16;F24F13/02;G06F17/11 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 萬曉君 |
| 地址: | 100142 北京市海淀*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 潔凈室 | ||
本實用新型涉及生產(chǎn)廠房技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種潔凈室,包括由上到下依次設(shè)置的上技術(shù)夾層、潔凈生產(chǎn)層、下技術(shù)夾層和回風夾道,其中,潔凈生產(chǎn)層和下技術(shù)夾層之間通過支撐件和設(shè)置于支撐件上的活動地板分隔,活動地板由設(shè)置有開孔的活動板和未設(shè)置開孔的固定板拼接而成,活動地板包括由靠近回風夾道一側(cè)向遠離回風夾道一側(cè)排列的多個子區(qū)域,各子區(qū)域內(nèi)的活動板上設(shè)置有多個開孔,且每個子區(qū)域內(nèi)的活動地板的的有效開孔率滿足有效開孔率(N)計算公式;該潔凈室的活動地板包括不同的子區(qū)域,且各子區(qū)域內(nèi)的活動地板的有效開孔率滿足有效開孔率(N)計算公式,從而實現(xiàn)了潔凈生產(chǎn)層內(nèi)的氣流調(diào)節(jié)、且成本低。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及生產(chǎn)廠房技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種潔凈室。
背景技術(shù)
電子工業(yè)的半導體生產(chǎn)、平板顯示生產(chǎn)、光電子器件等都需要用到潔凈生產(chǎn)環(huán)境,其中凈化級別在6級或更高的潔凈等級的潔凈室通常會采用垂直單向流的潔凈室形式。此種潔凈室包括活動地板及位于活動地板以下的下技術(shù)夾層、潔凈生產(chǎn)層和吊頂以上的上技術(shù)夾層。其中活動地板一般采用高架地板開孔地板或開孔蓋板,現(xiàn)有潔凈室的架空地板開孔地板或開孔蓋板布置方式為根據(jù)房間平均風速均勻布置開孔地板或開孔蓋板或根據(jù)吊頂送風風口風量布置相應地面開孔地板或開孔蓋板。但是,隨著半導體及平板顯示器件等電子器件及設(shè)備的制造向更高世代發(fā)展,所需要的潔凈廠房的面積也越來越大,同時工藝設(shè)備的布置更加密集,如繼續(xù)采用單一的開孔率的開孔地板或開孔蓋板進行均勻布置,將會造成房間氣流組織不利,在密集設(shè)備端出現(xiàn)大量渦旋氣流;同時由于下技術(shù)夾層的回風氣流造成系統(tǒng)整體壓力的不平衡,在遠離回風夾道端的潔凈室內(nèi)會產(chǎn)生大量偏斜氣流,造成潔凈室內(nèi)橫向氣流增大,影響房間潔凈度及溫濕度的管控。
實用新型內(nèi)容
本實用新型提供了一種潔凈室,上述潔凈室的活動地板包括不同的子區(qū)域,且各子區(qū)域內(nèi)的活動地板的有效開孔率滿足有效開孔率(N)計算公式,從而實現(xiàn)了潔凈生產(chǎn)層內(nèi)的氣流調(diào)節(jié)、且成本低。
為達到上述目的,本實用新型提供以下技術(shù)方案:
一種潔凈室,包括由上到下依次設(shè)置的上技術(shù)夾層、潔凈生產(chǎn)層、下技術(shù)夾層,還包括連通上技術(shù)夾層及下技術(shù)夾層的回風夾道,其中,潔凈生產(chǎn)層和下技術(shù)夾層之間通過支撐件和設(shè)置于所述支撐件上的活動地板分隔,所述活動地板由設(shè)置有開孔的活動板和未設(shè)置開孔的固定板拼接而成,所述活動地板包括由靠近回風夾道一側(cè)向遠離回風夾道一側(cè)排列的多個子區(qū)域,各所述子區(qū)域內(nèi)的活動板上設(shè)置有多個開孔,且每個所述子區(qū)域內(nèi)的活動地板的有效開孔率(N)滿足計算公式:
N:潔凈室在當前子區(qū)域內(nèi)的活動地板的有效開孔率(%);
F:當前子區(qū)域內(nèi)總循環(huán)空氣量(m3/h);
A:當前子區(qū)域內(nèi)的活動地板總面積(m2);
B:當前子區(qū)域內(nèi)的設(shè)備基礎(chǔ)面積(m2);
C:當前子區(qū)域內(nèi)的工藝設(shè)備底座遮擋通風面積(m2);
V:人為設(shè)定的活動板上的開孔口斷面風速(m/s)。
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