[實(shí)用新型]一種微型電子器件的整片晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201921308549.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-08-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210273992U | 公開(公告)日: | 2020-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉敬勇;朱衛(wèi)俊;沈得田;李勇;林毅;馬杰;王祥邦;於保偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中電科技德清華瑩電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H03H3/08 | 分類號(hào): | H03H3/08;H03H9/02;H03H9/64 |
| 代理公司: | 杭州賽科專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33230 | 代理人: | 付建中 |
| 地址: | 310000 浙江省*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 微型 電子器件 整片晶圓級(jí) 封裝 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種微型電子器件的整片晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:包括基片和多層膜結(jié)構(gòu),所述基片的表面制作有表面波換能器,基片上至少設(shè)置有一個(gè)用于球焊的電極,以及相應(yīng)的焊球,所述多層膜結(jié)構(gòu)包括有機(jī)介質(zhì)膜一和有機(jī)介質(zhì)膜二,基片和多層膜結(jié)構(gòu)之間的組合關(guān)系從下到上依次為基片、制作于基片表面的表面波換能器、有機(jī)介質(zhì)膜一、有機(jī)介質(zhì)膜二,所述有機(jī)介質(zhì)膜一和有機(jī)介質(zhì)膜二上貫穿設(shè)置有與電極對(duì)應(yīng)的通孔,焊球通過(guò)通孔與電極連接,所述有機(jī)介質(zhì)膜一上對(duì)應(yīng)于表面波換能器處設(shè)置有通槽,有機(jī)介質(zhì)膜一與基片重疊時(shí)表面波換能器置于通槽內(nèi),有機(jī)介質(zhì)膜二的下表面與有機(jī)介質(zhì)膜一的上表面重疊,通過(guò)有機(jī)介質(zhì)膜二的下表面與通槽進(jìn)行上端封閉,通過(guò)有機(jī)介質(zhì)膜二和基片對(duì)通槽進(jìn)行上下兩端封閉形成密封腔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微型電子器件的整片晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的密封腔內(nèi)設(shè)置有多個(gè)隔板,通過(guò)隔板將密封腔分隔為多個(gè)腔體,隔板設(shè)置于沒有表面波有效激發(fā)、傳播和接收區(qū)域的基片表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微型電子器件的整片晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的基片為壓電單晶晶片。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微型電子器件的整片晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的表面波換能器為聲表面波換能器。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微型電子器件的整片晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的焊球由錫、金或金錫合金制成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微型電子器件的整片晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的有機(jī)介質(zhì)膜一的厚度為10-50μm,有機(jī)介質(zhì)膜二的厚度為10-50μm,所述的有機(jī)介質(zhì)膜一和有機(jī)介質(zhì)膜二均為可光敏有機(jī)介質(zhì)膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微型電子器件的整片晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的多層膜結(jié)構(gòu)還包括由金屬材料或合金材料構(gòu)成的第三層膜,第三層膜覆蓋設(shè)置在有機(jī)介質(zhì)膜的上表面、以及基片上未被多層膜結(jié)構(gòu)遮蓋的表面處,第三層膜的厚度為0.1-5μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種微型電子器件的整片晶圓級(jí)封裝結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的多層膜結(jié)構(gòu)還包含完全覆蓋第三層膜的第四層介質(zhì)層,第四介質(zhì)層由無(wú)機(jī)非金屬構(gòu)成,第四介質(zhì)層的厚度為0.1-5μm。
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