[實用新型]一種真空鍍膜機及其加熱裝置有效
| 申請號： | 201921298720.5 | 申請日： | 2019-08-12 |
| 公開（公告）號： | CN211595770U | 公開（公告）日： | 2020-09-29 |
| 發明（設計）人： | 仲苗苗;潘世榮;田苗;孫紅霞 | 申請（專利權）人： | 領凡新能源科技（北京）有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京智晨知識產權代理有限公司 11584 | 代理人： | 張婧 |
| 地址： | 101407 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空鍍膜 及其 加熱 裝置 | ||
1.一種真空鍍膜機的加熱裝置，其特征在于，包括：
真空腔室，所述真空腔室的壁上具有用于基片通過的入口和出口；
若干個加熱單元，所述若干個加熱單元沿基片的傳送方向依次設置在所述真空腔室內，每一個所述的加熱單元均包括至少三個可獨立控制溫度的加熱部，所述至少三個加熱部與所述基片的待加熱位置相對應。
2.根據權利要求1所述的真空鍍膜機的加熱裝置，其特征在于，所述若干個加熱單元的加熱溫度沿基片的傳送方向依次遞減。
3.根據權利要求1所述的真空鍍膜機的加熱裝置，其特征在于，所述加熱部包括至少一個加熱件和至少一個溫度檢測裝置，所述加熱件與控制器電連接，所述溫度檢測裝置的檢測端伸入到所述加熱部內。
4.根據權利要求3所述的真空鍍膜機的加熱裝置，其特征在于，所述加熱件為電熱絲，所述溫度檢測裝置為熱電偶。
5.根據權利要求1所述的真空鍍膜機的加熱裝置，其特征在于，所述加熱裝置包括8-15個加熱單元，靠近所述真空腔室入口處的至少四個加熱單元的加熱溫度保持為700-1000℃；靠近所述真空腔室出口處的至少四個加熱單元的加熱溫度沿基片的傳送方向依次遞減，且最后一個加熱單元的加熱溫度保持為400-600℃。
6.根據權利要求1所述的真空鍍膜機的加熱裝置，其特征在于，所述若干個加熱單元沿基片的傳送方向等間距排列。
7.根據權利要求1所述的真空鍍膜機的加熱裝置，其特征在于，所述若干個加熱單元以及基片均豎直放置在所述真空腔室內，所述基片與所述若干個加熱單元依次對應。
8.根據權利要求1-7中任意一項所述的真空鍍膜機的加熱裝置，其特征在于，所述加熱單元呈管狀。
9.根據權利要求1-7中任意一項所述的真空鍍膜機的加熱裝置，其特征在于，所述加熱單元的寬度不小于所述基片的寬度。
10.一種真空鍍膜機，其特征在于，所述真空鍍膜機包括如權利要求1-9中任意一項所述的加熱裝置。
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