[實(shí)用新型]沉淀裝置及絮凝沉淀預(yù)處理設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201921292609.5
• 申請(qǐng)日: 2019-08-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN210521865U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 顏飛;孫勇;陸祖安;李浩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)電建集團(tuán)核電工程有限公司
• 主分類號(hào): B01D21/02
• 分類號(hào): B01D21/02;B01D21/08;C02F1/52
• 代理公司: 北京超成律師事務(wù)所 11646
• 代理人: 陳治位

1.一種沉淀裝置，其特征在于，包括：沉淀主體、沉淀池和集水槽；

所述沉淀池位于所述沉淀主體的底部，所述集水槽位于所述沉淀主體遠(yuǎn)離所述沉淀池的一側(cè)，且沿著所述集水槽延伸的端部通過(guò)緊固件與所述沉淀主體的側(cè)壁連接；所述集水槽的底部開(kāi)設(shè)有通孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉淀裝置，其特征在于，還包括沉淀板和第一排泥裝置；

所述沉淀板位于所述集水槽和所述沉淀池之間，且所述沉淀板與所述沉淀主體連接，所述集水槽的通孔位于所述集水槽靠近所述沉淀板的一側(cè)；

所述沉淀池呈錐形，所述第一排泥裝置的一端與所述沉淀池的內(nèi)部底端連通。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉淀裝置，其特征在于，所述集水槽內(nèi)的通孔沿著所述集水槽的長(zhǎng)度方向設(shè)置有多個(gè)，任意兩個(gè)所述通孔的間距范圍為1.5m-2m。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沉淀裝置，其特征在于，所述集水槽呈U型結(jié)構(gòu)，U型的所述集水槽的兩側(cè)邊對(duì)稱設(shè)置有進(jìn)水孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的沉淀裝置，其特征在于，所述沉淀板包括斜板、連接管、托管和固定部；

所述斜板設(shè)置有多個(gè)，多個(gè)所述斜板呈平行設(shè)置，且任意一個(gè)所述斜板相對(duì)于地面呈傾斜設(shè)置；

所述托管與所述沉淀主體連接，多個(gè)所述斜板用于放置于所述托管上，且所述固定部用于將所述斜板、所述連接管和所述托管三者連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的沉淀裝置，其特征在于，還包括架板；

所述架板放置于所述托管上，且所述斜板能夠與所述架板抵接，以使所述斜板相對(duì)于地面呈傾斜設(shè)置，所述斜板相對(duì)于地面的傾斜角度范圍是55°-65°。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的沉淀裝置，其特征在于，所述固定部包括固定繩；

所述固定繩通過(guò)雙環(huán)結(jié)捆綁的方式將所述斜板、所述連接管和所述托管三者連接。

8.一種絮凝沉淀預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，包括：星形絮凝裝置、集水渠和如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的沉淀裝置；

所述星形絮凝裝置的一端與原水接管連通，所述星形絮凝裝置的另一端與所述沉淀裝置連通，所述星形絮凝裝置用于將原水處理后傳遞至所述沉淀裝置內(nèi)；

所述集水渠位于所述沉淀裝置的一側(cè)，且所述集水槽與所述集水渠連通，用于將所述沉淀裝置處理后的水輸送至所述集水渠內(nèi)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的絮凝沉淀預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，所述星形絮凝裝置包括絮凝單元格、絮凝池和第二排泥裝置；

所述絮凝單元格位于所述絮凝池的頂部，所述絮凝單元格內(nèi)包括有多個(gè)翼片，所述翼片用于對(duì)進(jìn)入至所述絮凝池內(nèi)的原水進(jìn)行斷面切削，以使原水內(nèi)的沉淀物落入之所述絮凝池內(nèi)；

所述絮凝池呈錐形，所述第二排泥裝置的一端與所述絮凝池的內(nèi)部底端連通。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的絮凝沉淀預(yù)處理設(shè)備，其特征在于，還包括排泥渠；

所述排泥渠位于所述星形絮凝裝置和所述沉淀裝置的同一側(cè)，且所述排泥渠分別與所述沉淀主體和所述絮凝池的外側(cè)壁連接，所述沉淀裝置的第一排泥裝置和所述星形絮凝裝置的第二排泥裝置的出口端均位于所述排泥渠的頂部。