[實用新型]一種紗線利用等離子體處理上漿的設備

有效

• 申請號: 201921253077.4
• 申請日: 2019-08-05
• 公開（公告）號: CN211897559U
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發明（設計）人: 王錫彬
• 申請（專利權）人: 南通科沃紡織有限公司;南通海潤紡織有限公司
• 主分類號: D06M10/02
• 分類號: D06M10/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種紗線利用等離子體處理上漿的設備，其特征在于：從前往后依次為等離子體處理紗線裝置、高壓電極、地電極、導向軸、轉動架、分紗裝置、分紗導向軸、上漿室、車頭裝置、動力機構以及控制機構，所述等離子體處理紗線裝置內設有高壓電極和地電極，所述導向軸設于等離子體處理紗線裝置上下兩側，所述轉動架共有兩個，所述轉動架分別設于等離子體處理紗線裝置、分紗裝置之間和上漿室、車頭裝置之間，所述分紗裝置內設有多個分紗導向軸，所述上漿室設于分紗裝置的后端，所述上漿室的后端設有車頭裝置，所述車頭裝置內設有動力機構，所述車頭裝置的上表面設有控制機構。

2.根據權利要求1所述的一種紗線利用等離子體處理上漿的設備，其特征在于：所述等離子體處理紗線裝置內共設有六組電極結構，所述電極結構兩兩對應分別設置在等離子體處理紗線裝置兩側，所述電極結構包括高壓電源、高壓電極、地電極、介質阻擋層以及排氣罩為一組電極結構。

3.根據權利要求2所述的一種紗線利用等離子體處理上漿的設備，其特征在于：所述高壓電源設于所述等離子體處理紗線裝置外側，所述高壓電極、地電極設于所述等離子體處理紗線裝置內側，所述高壓電極、地電極與所述高壓電源相連接，所述介質阻擋層設于高壓電極與地電極之間，所述排氣罩設于高壓電源與等離子體處理紗線裝置之間。

4.根據權利要求1所述的一種紗線利用等離子體處理上漿的設備，其特征在于：所述等離子體處理紗線裝置內還設有導向軸、進氣管道、上支撐板、下支撐板以及支撐架。

5.根據權利要求4所述的一種紗線利用等離子體處理上漿的設備，其特征在于：所述導向軸共有四個，所述導向軸兩兩對應分別設置在上支撐板與下支撐板之間。

6.根據權利要求4所述的一種紗線利用等離子體處理上漿的設備，其特征在于：所述上支撐板與所述下支撐板之間設有支撐架，所述進氣管道設于上支撐板的上表面。

7.根據權利要求1所述的一種紗線利用等離子體處理上漿的設備，其特征在于：所述轉動架包括轉動軸、轉動支架以及轉動底板，所述轉動軸軸通過轉動支架設于所述轉動底板上。

8.根據權利要求1所述的一種紗線利用等離子體處理上漿的設備，其特征在于：所述分紗導向軸包括第一分紗導向軸、第二分紗導向軸、第三分紗導向軸、第四分紗導向軸和第五分紗導向軸，所述第四分紗導向軸共有兩個，所述第五分紗導向軸共有兩個，所述第一分紗導向軸和第二分紗導向軸呈三角結構，所述第二分紗導向軸后端連接有第四分紗導向軸，所述第三分紗導向軸后端連接有第五分紗導向軸。

9.根據權利要求1所述的一種紗線利用等離子體處理上漿的設備，其特征在于：所述上漿室包括漿液槽、漿液噴嘴以及漿液回收孔，所述漿液噴嘴上下均勻排布在上漿室內，所述漿液回收孔設于上漿室的下方，所述漿液槽設于漿液回收孔的下方。

10.據權利要求1所述的一種紗線利用等離子體處理上漿的設備，其特征在于：所述車頭裝置包括導紗輯、張力輯、織軸以及伸縮箱，所述導紗輯設于車頭裝置上端，所述導紗輯后端分別為張力輯和織軸，所述伸縮箱設于張力輯和織軸之間。