[實用新型]一種陶瓷真空鍍銅動力基材擺放架

有效

• 申請號: 201921246168.5
• 申請日: 2019-08-03
• 公開（公告）號: CN210596247U
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發明（設計）人: 喬利杰;宋述兵;楊會生;龐曉露;王瑞俊;鄭寶林
• 申請（專利權）人: 山東司萊美克新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種陶瓷真空鍍銅動力基材擺放架，包括真空艙室，所述真空艙室頂部和底部設置有外倉；所述外倉內側安裝有鏈條驅動盤；所述鏈條驅動盤其驅動軸活動嵌入到真空艙室；底部得分所述鏈條驅動盤通過動力機構驅動；所述外倉遠離真空艙室一側通過密封板密封；兩正對所述驅動軸之間可拆卸安裝有基材擺放架；所述鏈條驅動盤包括凹型的圓盤；所述圓盤頂部設置有封板；所述圓盤內側間隔排列有一環從動鏈盤；所述從動鏈盤之間設置有一驅動鏈盤；本實用新型的陶瓷真空鍍銅動力基材擺放架，陶瓷基材外部裝載后送入到真空艙室內進行圓周運轉鍍膜，鍍膜裝載簡單，轉向和轉動頻率可選擇獨立的鏈條驅動盤進行控制。

技術領域

本實用新型涉及一種陶瓷鍍銅預處理設備，具體涉及一種陶瓷真空鍍銅動力基材擺放架，屬于真空鍍膜技術領域。

背景技術

真空鍍膜是指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程；它的作用是可以使某些有特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能；PVD基本方法：真空蒸發、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）；真空蒸發鍍膜一般應用于純度極高的膜、絕緣物的蒸鍍和高熔點物質的蒸鍍，其是在真空情況下，將所要蒸鍍的材料利用加熱設備加熱到融化溫度，使原子蒸發，到達并附著在基板表面上的一種鍍膜方式；基材鍍膜時，先需要將基材裝載到基材架上，然后關閉艙門并將真空度和溫度控制到預設值時，才能進行后續鍍膜操作，現有的真空鍍膜往往針對柔性片材，如中國專利申請號：201410759054.6，公開了一種鍍銅薄膜的生產工藝，能夠在塑料薄膜層上單面或雙面鍍銅膜，鍍層厚度為0.1~1微米，鍍銅薄膜的生產工藝包括銅塊的融化和薄膜的卷繞鍍，其中銅塊的融化是將純度為99.95%以上的銅放入到高頻感應蒸發鍍膜電源的坩堝中；并按照重量份計算，相對于銅的比例為300~500：1的比例加入催化劑；將鍍銅腔室密封，利用4000~8000Hz的高頻對高頻感應蒸發鍍膜電源坩堝中的銅加熱，加熱溫度在1800~2400℃，直至融化，但現有技術中，對陶瓷類鍍膜制程中，還沒有比較高效的基材擺放架。

實用新型內容

為解決上述問題，本實用新型提出了一種陶瓷真空鍍銅動力基材擺放架，采用圓周運轉結構，對陶瓷基材進行裝載和鍍膜，鍍膜裝載簡單，且能夠高效鍍膜。

本實用新型的陶瓷真空鍍銅動力基材擺放架，通過在現有的真空艙室基礎上，上下設置獨立的密封倉，其密封倉嚴格密封，不會造成真空艙室真空度損失，并在密封倉內分別設置同型號的鏈條驅動盤；鏈盤驅動盤的每一轉軸通過鏈條傳動實現獨立轉動，其可根據陶瓷基板具體要求，設置內部齒盤同型號或不同齒徑結構，同時也可根據要求，選擇同向運轉或部分反向運轉安裝；其能夠根據陶瓷基材要求進行靈活選擇組裝應用；不同陶瓷基材對鏈條驅動盤的不同要求，可直接將其拆卸更換，更換簡單，更換效率高；陶瓷基材裝載時，是在真空艙室外部進行，完成陶瓷基材裝載后，整整個基材擺放架送入到真空艙室內進行組裝即可；其結構具體如下：包括真空艙室，所述真空艙室頂部和底部設置有外倉；所述外倉內側安裝有鏈條驅動盤；所述鏈條驅動盤其驅動軸活動嵌入到真空艙室；底部得分所述鏈條驅動盤通過動力機構驅動；所述外倉遠離真空艙室一側通過密封板密封；兩正對所述驅動軸之間可拆卸安裝有基材擺放架；所述鏈條驅動盤包括凹型的圓盤；所述圓盤頂部設置有封板；所述圓盤內側間隔排列有一環從動鏈盤；所述從動鏈盤之間設置有一驅動鏈盤；所述驅動鏈盤和從動鏈盤通過環形鏈條形成一閉環；所述從動鏈盤兩端分別安裝到封板和圓盤其軸承上；所述驅動鏈盤和從動鏈盤靠近封板一端的所述驅動軸延伸出封板；頂部的所述驅動鏈盤與動力機構安裝；動力機構帶動驅動鏈盤轉動，驅動鏈盤通過環形鏈條驅動從動鏈盤轉動，從而實現整組基材擺放架轉動，實現動態鍍膜。

進一步地，所述動力機構包括驅動電機，及與驅動電機安裝的減速箱；所述減速箱輸出端與底部的所述驅動鏈盤通過聯軸器安裝，驅動電機驅動減速箱動作，減速箱給驅動鏈盤動力，驅動鏈盤通過鏈條給各個從動鏈盤轉動的動力。