[實用新型]一種正電子放射性藥品合成模塊尾氣處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921237848.0 | 申請日: | 2019-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN211328763U | 公開(公告)日: | 2020-08-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王成;杜富強(qiáng);劉建軍 | 申請(專利權(quán))人: | 上海交通大學(xué)醫(yī)學(xué)院附屬仁濟(jì)醫(yī)院 |
| 主分類號: | B01D53/00 | 分類號: | B01D53/00 |
| 代理公司: | 上海旭誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31220 | 代理人: | 鄭立 |
| 地址: | 200001 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 正電子 放射性 藥品 合成 模塊 尾氣 處理 裝置 | ||
本實用新型公開了一種正電子放射性藥品合成模塊尾氣處理裝置,涉及放射性尾氣處理領(lǐng)域,所述尾氣處理裝置包括管路和冷阱,所述管路分別連接所述正電子放射性藥品合成模塊和所述冷阱。本實用新型利用實驗室常用材料即可組裝設(shè)備,且體積小,降低了設(shè)備的購置及使用成本;同時能將不容易處理的放射性廢氣或者氣溶膠轉(zhuǎn)變?yōu)榉派湫詮U液,減少了正電子放射性廢氣的處理流程;且適用范圍廣泛,可用于正電子藥物自動化合成模塊,對多種放射性核素及合成中所揮發(fā)的乙腈等有機(jī)溶劑均可吸收并且儲存于冷阱中。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及放射性尾氣處理領(lǐng)域,尤其涉及一種正電子放射性藥品合成模塊尾氣處理裝置。
背景技術(shù)
放射性藥品,尤其是正電子(PET)放射性藥品在合成過程中產(chǎn)生較多的放射性氣體(包括合成過程中的放射性氣溶膠、放射性氣體及放射性尾氣等)。如果將這些氣體直接排入到大氣將造成局部環(huán)境的放射性污染增高。目前大多數(shù)的放射性藥物合成模塊都僅僅專注于將放射性藥品生產(chǎn)出來,或者通過優(yōu)化加樣流程、減少模塊體積等技術(shù)手段的改進(jìn)不斷提升放射性藥品的放射化學(xué)產(chǎn)率。但對于合成中產(chǎn)生的放射性氣體的處理則很少涉及。
目前市面主流的正電子(PET)放射性藥品合成模塊中的尾氣吸收,主要是通過真空泵將放射性的廢氣收集到儲氣罐中,待放射性氣體衰變到10個半衰期后直接排放到大氣中。這種方法的一個缺陷就是增加了設(shè)備的購置成本,還需要特定的房間來放置儲氣罐等裝置。或者是直接將放射性廢棄排放到合成熱室中,即污染環(huán)境也對藥物合成人員造成輻射損傷。
因此,本領(lǐng)域的技術(shù)人員致力于開發(fā)一種簡便、高效、快速的放射性尾氣吸收裝置。
實用新型內(nèi)容
有鑒于現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷,本實用新型所要解決的技術(shù)問題是簡便、高效、快速的處理正電子(PET)放射性藥品合成模塊中的放射性尾氣。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供了一種正電子放射性藥品合成模塊尾氣處理裝置,其特征在于,所述尾氣處理裝置包括管路和冷阱,所述管路分別連接所述正電子放射性藥品合成模塊和所述冷阱。
進(jìn)一步地,所述冷阱包括導(dǎo)氣管和制冷部件,所述導(dǎo)氣管置于所述制冷部件中。
進(jìn)一步地,所述導(dǎo)氣管優(yōu)選為冷凝管。
進(jìn)一步地,所述冷凝管設(shè)置球狀凸起。
進(jìn)一步地,所述制冷部件優(yōu)選為杜瓦瓶。
進(jìn)一步地,所述杜瓦瓶包括殼體、內(nèi)腔和瓶蓋,所述瓶蓋置于殼體頂部,所述導(dǎo)氣管穿過所述瓶蓋置于所述內(nèi)腔中。
進(jìn)一步地,所述殼體內(nèi)盛放制冷劑。
進(jìn)一步地,所述制冷劑包括但不限于液氮。
進(jìn)一步地,所述瓶蓋可以打開,方便注入所述制冷劑。
進(jìn)一步地,所述管路適配所述正電子放射性藥品合成模塊。
本實用新型的技術(shù)效果如下:
(1)利用實驗室常用材料液氮、杜瓦瓶、冷阱等即可組裝設(shè)備,體積小,可直接安裝在放置正電子藥物自動化合成模塊的熱室內(nèi)部,降低了設(shè)備的購置及使用成本;
(2)能將不容易處理的放射性廢氣或者氣溶膠轉(zhuǎn)變?yōu)榉派湫詮U液,待衰變到一定劑量后可直接將冷阱中的放射性廢液排放到衰變池中,減少了正電子放射性廢氣的處理流程;
(3)適用范圍廣泛,可適用于多種國產(chǎn)的和國外的正電子藥物自動化合成模塊;同時可以適用于多種放射性核素,尤其是回旋加速器產(chǎn)生的短周期的放射性核素,如11C、18F、13N、15O等,同時合成中所揮發(fā)的乙腈、四氫呋喃、二甲基甲酰胺、二甲基亞砜等有機(jī)溶劑均可被該裝置吸收,并且儲存于冷阱中。
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