[實用新型]一種研磨盤清洗裝置

有效

• 申請號: 201921230506.6
• 申請日: 2019-07-31
• 公開（公告）號: CN210847432U
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發明（設計）人: 田超
• 申請（專利權）人: 重慶兩江聯創電子有限公司
• 主分類號: B08B3/10
• 分類號: B08B3/10
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 何世磊

1.一種研磨盤清洗裝置，應用于清洗研磨盤，其特征在于，包括上板、下板和清洗槽，所述上板和下板之間通過支撐柱連接，所述上板朝下安裝有第一轉動組件，所述第一轉動組件的轉動桿用于安裝所述研磨盤，所述第一轉動組件用于控制所述研磨盤轉動，所述下板上設有伸縮組件，所述伸縮組件朝上設有伸縮桿，所述清洗槽設置在所述伸縮桿的頂部，所述清洗槽的開口朝上設置，所述清洗槽內設有清洗液，所述清洗液用于溶解所述研磨盤上的拋光皮，所述伸縮組件用于改變所述清洗槽的高度，使所述研磨盤浸入或脫離所述清洗液。

2.根據權利要求1所述的研磨盤清洗裝置，其特征在于，所述轉動桿的末端設有安裝部，所述安裝部較所述轉動桿的通徑小，所述安裝部用于安裝所述研磨盤，所述安裝部上設有螺母，所述安裝部與所述螺母螺紋配合，所述螺母用于固定所述研磨盤。

3.根據權利要求1所述的研磨盤清洗裝置，其特征在于，所述伸縮桿與所述清洗槽的連接處設有加強筋。

4.根據權利要求1所述的研磨盤清洗裝置，其特征在于，所述支撐柱為3個以上。

5.根據權利要求4所述的研磨盤清洗裝置，其特征在于，所述支撐柱均設置在所述上板的等分線的一側。

6.根據權利要求1所述的研磨盤清洗裝置，其特征在于，所述上板上設有第二轉動組件，所述第二轉動組件向下設有清潔盤，所述第二轉動組件用于帶動所述清潔盤轉動，所述第二轉動組件通過調節桿與所述上板連接，所述調節桿用于調節所述清潔盤的高度。

7.根據權利要求6所述的研磨盤清洗裝置，其特征在于，所述調節桿貫穿所述上板，所述調節桿上均勻設有若干定位孔，所述定位孔用于插入插銷。

8.根據權利要求7所述的研磨盤清洗裝置，其特征在于，所述調節桿的截面為多邊形結構或橢圓形結構。

9.根據權利要求6所述的研磨盤清洗裝置，其特征在于，所述清潔盤邊緣為齒狀結構。

10.根據權利要求6所述的研磨盤清洗裝置，其特征在于，所述清潔盤的內部設有若干清潔孔。