[實用新型]一種三維系統級集成硅基扇出型封裝結構有效
| 申請號: | 201921225002.5 | 申請日: | 2019-07-31 |
| 公開(公告)號: | CN210223949U | 公開(公告)日: | 2020-03-31 |
| 發明(設計)人: | 王成遷;明雪飛;吉勇 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第五十八研究所 |
| 主分類號: | H01L21/60 | 分類號: | H01L21/60;H01L21/768;H01L21/54;H01L21/52;H01L23/48;H01L23/485 |
| 代理公司: | 無錫派爾特知識產權代理事務所(普通合伙) 32340 | 代理人: | 楊立秋 |
| 地址: | 214000 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 三維 系統 集成 硅基扇出型 封裝 結構 | ||
1.一種三維系統級集成硅基扇出型封裝結構,包括硅基(101),其特征在于,
所述硅基(101)的第一面沉積有截止層(102);
所述硅基(101)的第二面刻蝕有TSV通孔和凹槽,所述TSV通孔中制作有背面第一層重布線(105),所述凹槽中埋有橋芯片(301);
所述背面第一層重布線(105)依次通過背面第二層重布線(107)和微凸點(306)與高密度I/O異質芯片焊接;
所述硅基(101)的第一面依次形成有正面重布線(110)、阻焊層(111)和凸點(112),所述正面重布線(110)與所述背面第一層重布線(105)連接。
2.如權利要求1所述的三維系統級集成硅基扇出型封裝結構,其特征在于,所述硅基(101)和所述橋芯片(301)之間填充有干膜材料(106)。
3.如權利要求2所述的三維系統級集成硅基扇出型封裝結構,其特征在于,所述干膜材料(106)為包括樹脂類和聚酰亞胺類在內的聚合物材質。
4.如權利要求1所述的三維系統級集成硅基扇出型封裝結構,其特征在于,所述硅基(101)的第二面塑封有塑封材料(108),所述塑封材料(108)包裹所述第二層重布線(107)、所述微凸點(306)和所述高密度I/O異質芯片。
5.如權利要求4所述的三維系統級集成硅基扇出型封裝結構,其特征在于,所述塑封材料(108)是包括樹脂類和聚酰亞胺類在內的聚合物。
6.如權利要求1所述的三維系統級集成硅基扇出型封裝結構,其特征在于,所述截止層(102)的材質為無機材料的一種或多種,或金屬材料的一種或多種,其厚度不小于0.1μm,
所述無機材料包括SiO2、SiC和SiN;
所述金屬材料包括Al、Cu、Ni、Sn和Au。
7.如權利要求1所述的三維系統級集成硅基扇出型封裝結構,其特征在于,所述凹槽大小根據埋入芯片尺寸決定,其深度至少為10μm;所述TSV通孔深度與所述凹槽一致,所述凹槽和所述TSV通孔數量均在一個以上。
8.如權利要求1所述的三維系統級集成硅基扇出型封裝結構,其特征在于,所述橋芯片(301)通過粘合膠(303)埋入凹槽,所述凹槽中埋入一顆或多顆橋芯片;所述橋芯片(301)的焊盤朝外,埋入橋芯片(301)后所述橋芯片(301)形成的高度與所述硅基(101)平面的高度誤差不超過5μm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





