[實用新型]一種利用擾流輔助晶體生長的鑄錠裝置

有效

• 申請號: 201921132429.0
• 申請日: 2019-07-18
• 公開（公告）號: CN210237839U
• 公開（公告）日: 2020-04-03
• 發明（設計）人: 尹長浩
• 申請（專利權）人: 尹長浩
• 主分類號: C30B28/06
• 分類號: C30B28/06;C30B29/06
• 代理公司: 連云港潤知專利代理事務所 32255
• 代理人: 劉喜蓮

1.一種利用擾流輔助晶體生長的鑄錠裝置，其特征在于：包括內置有坩堝的鑄錠爐，在鑄錠爐內設置有攪拌軸，攪拌軸通過傳動機構與配套的驅動裝置相接，在鑄錠爐的爐蓋上固定安裝有用于帶動驅動裝置升降的升降機構；在鑄錠爐的爐蓋上固定設有與攪拌軸相配套的動態密封機構，在攪拌軸的下部固定安裝有用于攪動坩堝內熔體的石墨攪拌葉片，在石墨攪拌葉片上固定復合有陶瓷涂層或陶瓷殼層。

2.根據權利要求1所述的一種利用擾流輔助晶體生長的鑄錠裝置，其特征在于：所述升降機構包括豎向設置的絲杠導軌，絲杠導軌通過支架固定安裝在鑄錠爐爐蓋上，在絲杠導軌上安裝有絲杠滑塊，在絲杠導軌頂部的支架上固定安裝有配套的絲杠電機用于驅動絲杠滑塊升降，所述的驅動裝置通過支架固定連接在絲杠滑塊上。

3.根據權利要求1所述的一種利用擾流輔助晶體生長的鑄錠裝置，其特征在于：所述的升降機構包括豎向設置的直線導軌，直線導軌通過支架固定安裝在鑄錠爐爐蓋上，在直線導軌上滑動安裝有導軌滑塊，在直線導軌頂部的支架上固定安裝有伸縮氣缸，伸縮氣缸的活塞桿與導軌滑塊固定相連接，所述的驅動裝置通過支架固定連接在導軌滑塊上。

4.根據權利要求1所述的一種利用擾流輔助晶體生長的鑄錠裝置，其特征在于：所述的動態密封機構為磁流體密封、機械密封、正壓氣體保護密封、負壓密封中的一種或幾種組合。

5.根據權利要求1所述的一種利用擾流輔助晶體生長的鑄錠裝置，其特征在于：所述的驅動裝置為驅動電機。

6.根據權利要求1所述的一種利用擾流輔助晶體生長的鑄錠裝置，其特征在于：所述攪拌軸的豎向投影位于坩堝的中心處。