[實用新型]一種真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201921044567.3
• 申請日: 2019-07-05
• 公開（公告）號: CN211112183U
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發明（設計）人: 陳學兵;王光輝
• 申請（專利權）人: 蘇州駿萊機電有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 蘇州廣正知識產權代理有限公司 32234
• 代理人: 孫茂義

本實用新型公開了一種真空鍍膜裝置，包括：鍍膜裝置本體、夾持裝置、真空裝置、冷卻裝置和鍍膜噴管裝置，所述鍍膜裝置本體兩側設置有夾持裝置，所述真空裝置設置在鍍膜裝置本體的頂部，所述冷卻裝置設置在鍍膜裝置本體的底部一側，所述鍍膜噴管裝置設置在鍍膜裝置本體內部上端，所述鍍膜噴管裝置連接于蒸鍍源輸送管上。通過上述方式，本實用新型提供的真空鍍膜裝置，將傳統鍍膜裝置的單個鍍膜源，分散成若干噴頭，可以大大提高蒸鍍的均勻性，提高鍍膜層的平整度，提高產品品質，另外，將大部分蒸鍍組件安裝在蒸鍍釜封頭內，可以方便對設備的檢修，降低使用成本。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜領域，特別是涉及一種真空鍍膜裝置。

背景技術

鍍膜技術廣泛應用于各種工件上，鍍膜不僅能保護工件，防止工件磨損、氧化，而且使工件表面光滑，裝飾性強；在薄膜制備過程中，需要很強的功率才能使金屬原料從固體狀態蒸發汽化，在真空鍍膜工藝中，加熱裝置是一種重要的蒸發設備。加熱裝置使其中的物質蒸發，蒸發物質的原子或分子就會以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。但是，在鍍膜過程中，容易出現鍍膜層不均勻，鍍膜質量不高等缺點。

發明內容

本實用新型主要解決的技術問題是提供一種真空鍍膜裝置，使得鍍膜層均勻。

為解決上述技術問題，本實用新型采用的一個技術方案是：提供一種真空鍍膜裝置，包括：鍍膜裝置本體、夾持裝置、真空裝置、冷卻裝置和鍍膜噴管裝置，所述鍍膜裝置本體兩側設置有夾持裝置，所述真空裝置設置在鍍膜裝置本體的頂部，所述冷卻裝置設置在鍍膜裝置本體的底部一側，所述鍍膜噴管裝置設置在鍍膜裝置本體內部上端，所述鍍膜噴管裝置連接于蒸鍍源輸送管上，所述鍍膜噴管裝置包括：蒸鍍源分配管、噴頭接頭和噴頭，所述蒸鍍源分配管上連接有多個噴頭接頭，所述噴頭接頭上連接有噴頭，所述蒸鍍源分配管通過支架固定在鍍膜裝置本體內部上端。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述夾持裝置包括：液壓推動器、伸縮桿和夾持板，所述伸縮桿的一端與液壓推動器連接，所述伸縮桿的另一端與夾持板連接。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述真空裝置包括：真空管、真空泵和真空泵固定座，所述真空管的一端與鍍膜裝置本體連接，所述真空管的另一端與真空泵連接，所述真空泵固定安裝于真空泵固定座上。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述冷卻裝置包括冷風機和風嘴，所述冷風機和風嘴相連接。

在本實用新型一個較佳實施例中，所述鍍膜裝置本體底部設置有支撐腳。

本實用新型的有益效果是：本實用新型指出的一種真空鍍膜裝置，將傳統鍍膜裝置的單個鍍膜源，分散成若干噴頭，可以大大提高蒸鍍的均勻性，提高鍍膜層的平整度，提高產品品質，另外，將大部分蒸鍍組件安裝在蒸鍍釜封頭內，可以方便對設備的檢修，降低使用成本。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例中的技術方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其它的附圖，其中：

圖1是本實用新型一種真空鍍膜裝置一較佳實施例的結構示意圖。

具體實施方式

下面將對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

請參閱圖1，本實用新型實施例包括：