[實用新型]一種可控勻膠機注膠系統

有效

• 申請號: 201921018807.2
• 申請日: 2019-07-03
• 公開（公告）號: CN210230517U
• 公開（公告）日: 2020-04-03
• 發明（設計）人: 柳亞鵬;張建華
• 申請（專利權）人: 陜西理工大學
• 主分類號: B05C11/10
• 分類號: B05C11/10;B01D35/02
• 代理公司: 北京卓恒知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11394
• 代理人: 王珂瑜

本實用新型公開了一種可控勻膠機注膠系統，具有機架和固定在所述機架上的注膠系統，所述注膠系統包括驅動部，所述驅動部包括電動推桿和計算機，所述電動推桿與所述計算機連接；注膠部，所述注膠部與所述驅動部連接，所述注膠部包括注膠筒、活塞、出膠管、過濾器和注膠管，所述活塞設置在所述注膠筒內，所述出膠管設置在所述注膠筒上，所述過濾器分別與所述出膠管和所述注膠管連接；儲膠部，所述儲膠部與所述注膠部連接，所述儲膠部包括儲氣囊、儲膠箱和連通管，所述儲氣囊與所述儲膠箱連接，所述連通管與所述儲膠箱連接。

技術領域

本實用新型涉及勻膠設備領域，具體涉及一種可控勻膠機注膠系統。

背景技術

通常，在制造半導體器件時，半導體襯底上光刻膠的均勻性是非常關鍵的質量參數。如果所述光刻膠沒有被均勻涂覆，則在后續工藝中會導致分辨率差等問題，從而直接影響光刻效果。

用來均勻涂覆光刻膠的方法包括旋涂(Spin Coating)法，旋涂法是在圓盤形支撐體上放置晶圓，并在所述晶圓中央滴落光刻膠之后使基板旋轉，從而在離心力的作用下使光刻膠平鋪晶圓表面。

現有技術中，通常采用兩種涂膠方式，靜態涂膠和動態涂膠。其中，靜態涂膠是指，光刻膠在硅片靜止時被滴在硅片中央，靜止滴膠后，硅片首先低速旋轉，使光刻膠均勻鋪開，一旦光刻膠到達硅片邊緣，轉速被加速到設定的轉動速度。另一種方法，動態涂膠是在硅片慢速旋轉(例如100-200rpm)時滴膠，這是為了均勻覆蓋硅片，然后加速到設定的轉速。

目前現有涂膠設備要么結構簡陋，自動化程度低，工人勞動強度大；要么結構復雜，成本高昂，不利于推廣。并且在涂膠過程中往往產生膠液未涂滿襯底、涂膠四周呈現放射狀條紋和厚度不均等缺陷，直接影響涂膠質量。以上缺陷從注膠系統方面分析得出：膠液未涂滿襯底和厚度不均的原因主要為注膠量不足和注膠量不合適造成；涂膠四周呈現放射狀條紋原因主要為膠液噴射速度過高和涂膠中有顆粒。

中國專利(CN205436197U)公開了一種自動硅片勻膠機用涂膠裝置，包括包括膠管、點膠機、真空吸盤、調速電機、升降氣缸、主軸套管、升降板、導軌和滑塊，硅片放置后，通過氣道抽真空，從而起到真空吸附作用，調速電機可以使涂膠工位高速旋轉硅片，從而使膠液均勻覆蓋整個硅片，控制調速電機速度即可控制涂膠厚度和均勻度，升降氣缸控制涂膠工位的升降從而完成取片任務。此專利自動化程度較高，但是此專利無法自動控制注膠量，并且未對膠液內的顆粒等雜質做出處理。

因此，本專利設計一種能夠自動控制注膠量、注膠速度和過濾膠液內雜質，并且能夠檢測注膠量是否符合要求的一種可控勻膠機注膠系統。

實用新型內容

為了克服上述缺陷，本實用新型提供一種可控勻膠機注膠系統，具體采用如下的技術方案：

一種可控勻膠機注膠系統，具有機架和固定在所述機架上的注膠系統，所述注膠系統包括：

驅動部，所述驅動部包括電動推桿和計算機，所述電動推桿與所述計算機連接。

注膠部，所述注膠部與所述驅動部連接，所述注膠部包括注膠筒、活塞、出膠管、過濾器和注膠管，所述活塞設置在所述注膠筒內，所述出膠管設置在所述注膠筒上，所述過濾器分別與所述出膠管和所述注膠管連接。

儲膠部，所述儲膠部與所述注膠部連接，所述儲膠部包括儲氣囊、儲膠箱和連通管，所述儲氣囊與所述儲膠箱連接，所述連通管與所述儲膠箱連接。

優選地，所述注膠筒呈筒狀，所述注膠筒一端開放，另一端封閉，所述注膠筒由透明耐高壓材質構成。

優選地，所述活塞為橡膠材質，所述活塞直徑大于所述注膠筒內徑；所述活塞一端與所述電動推桿固定連接。

優選地，所述注膠筒外壁上設置有多條等間距刻度線。