[實用新型]粉倉及包含該粉倉的處理盒有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201921017164.X | 申請日: | 2019-07-02 |
| 公開(公告)號: | CN210109556U | 公開(公告)日: | 2020-02-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李海卡;郭銘豪 | 申請(專利權(quán))人: | 納思達股份有限公司 |
| 主分類號: | G03G15/08 | 分類號: | G03G15/08 |
| 代理公司: | 北京匯思誠業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11444 | 代理人: | 王剛;龔敏 |
| 地址: | 519060 廣東省珠海市香洲區(qū)珠海大道3883號01棟2*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 包含 處理 | ||
本實用新型提供了一種粉倉及包含該粉倉的處理盒,粉倉可拆卸的安裝于電子成像裝置,所述粉倉包含框架、隔板,和密封塞安裝槽,密封塞安裝槽用于安裝密封塞,密封塞安裝槽包含上邊;隔板靠近密封塞安裝槽一側(cè)的端部與上邊向粉倉內(nèi)部延伸的端部在粉倉長度方向的投影不重合,或隔板靠近密封塞安裝槽一側(cè)的端部與上邊向粉倉內(nèi)部延伸的端部在粉倉長度方向的投影存在重合位置,在重合位置密封塞安裝槽一側(cè)的端部與上邊向粉倉內(nèi)部延伸的端部之間的距離可以與密封拉條間隙配合。本申請?zhí)峁┑姆蹅}通過使隔板靠近密封塞安裝槽一側(cè)的端部與上邊向粉倉內(nèi)部延伸的端部之間的相對距離增加,從而使密封拉條抽出時有足夠大的曠量,不會輕易拉斷。
【技術(shù)領(lǐng)域】
本實用新型涉及成像裝置技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種粉倉及包含該粉倉的處理盒。
【背景技術(shù)】
圖像形成裝置是通過電照相成像處理技術(shù)在記錄材料上形成圖像的設(shè)備,例如:電子照相復(fù)印件、激光打印機、電子照相打印機、傳真機、文字處理機等。圖像形成裝置通常包括單色圖像形成裝置和彩色圖像形成裝置。
現(xiàn)有的圖像形成裝置包括主體,以及可拆卸的安裝到主體內(nèi)的粉倉或處理盒。其區(qū)別在于,粉倉是容納顯影劑的倉室,主要包含框架,顯影劑可以儲存在框架內(nèi)部。部分粉倉內(nèi)部還包含旋轉(zhuǎn)輥,如攪拌架或顯影輥,以及力接收部分接收旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力驅(qū)動旋轉(zhuǎn)輥;而處理盒不僅包含粉倉,還包含廢粉倉、顯影輥等部件。在有些電子成像裝置上,廢粉收集的裝置和顯影輥是內(nèi)置在機器內(nèi)部的,可拆卸的只有粉倉;但是,在另一些電子成像裝置上,廢粉收集和設(shè)置顯影輥是通過處理盒的廢粉倉實現(xiàn)的,因此可拆卸的部分是處理盒。
為了在運輸過程中保護粉倉內(nèi)部的顯影劑,通常情況下,粉倉設(shè)置有密封拉條,用于將位于框架內(nèi)部的顯影劑和外界隔離。當用戶拿到粉倉或處理盒,第一次安裝進電子成像裝置之前,拉出密封拉條即可使用。為了防止密封拉條拉出后,顯影劑從密封拉條的安裝孔中泄露,因此在其外側(cè)還設(shè)有密封塞用于密封拉出密封拉條之后造成的孔。
但是,現(xiàn)有技術(shù)的密封拉條在塞有密封塞的粉倉中經(jīng)常會發(fā)生拉斷的現(xiàn)象。這是由于密封拉條和框架之間的相互作用產(chǎn)生了較大的力所導(dǎo)致的,由于現(xiàn)有的粉倉生產(chǎn)過程存在焊接,當焊接不準時會造成密封拉條和框架之間干涉,使密封拉條無法拉出。為解決這樣的問題,修改粉倉模具是一個比較低廉的解決方案。
【實用新型內(nèi)容】
本實用新型提供了一種粉倉及包含該粉倉的處理盒,以解決現(xiàn)有技術(shù)中的粉倉存在密封拉條無法拉出的問題。
本實用新型提供了一種粉倉,所述粉倉可拆卸的安裝于電子成像裝置,所述粉倉可容納顯影劑,所述粉倉可以安裝密封拉條和/或密封塞,所述粉倉包含:
框架,所述框架用于容納顯影劑;
隔板,所述隔板上設(shè)有開口,顯影劑可以從開口流出框架;
密封塞安裝槽,所述密封塞安裝槽用于安裝密封塞,所述密封塞安裝槽包含上邊;
所述隔板靠近所述密封塞安裝槽一側(cè)的端部與所述上邊向粉倉內(nèi)部延伸的端部在粉倉長度方向的投影不重合,或
所述隔板靠近所述密封塞安裝槽一側(cè)的端部與所述上邊向粉倉內(nèi)部延伸的端部在粉倉長度方向的投影存在重合位置,在重合位置所述密封塞安裝槽一側(cè)的端部與所述上邊向粉倉內(nèi)部延伸的端部之間的距離可以與所述密封拉條間隙配合。
優(yōu)選地,所述隔板靠近所述密封塞安裝槽的一側(cè)設(shè)置有斜面。
優(yōu)選地,所述密封塞安裝槽包含下邊,所述下邊與所述上邊相對設(shè)置,所述斜面一端連接所述隔板,另一端指向所述下邊。
優(yōu)選地,所述上邊向粉倉內(nèi)部延伸的延伸部與所述隔板至少有一部分在粉倉長度方向上的投影重合,或所述上邊向粉倉內(nèi)部延伸的延伸部與所述隔板靠近所述密封塞安裝槽一側(cè)的延伸部至少有一部分在粉倉長度方向上的投影重合。
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G03G 電記錄術(shù);電照相;磁記錄
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