[實用新型]一種離子束拋光設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920998634.9
• 申請日: 2019-06-29
• 公開（公告）號: CN210549947U
• 公開（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 常洪興;徐勝
• 申請（專利權(quán)）人: 杰萊特（蘇州）精密儀器有限公司
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及到電鍍技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種離子束拋光設(shè)備。該離子束拋光設(shè)備使用真空泵將真空室獲得一定真空度。打開離子源將沖入真空室內(nèi)的惰性氣體氬氣電離形成等離子體，然后由柵極將離子呈束狀引出并加速，對基板進(jìn)行拋光。電機(jī)帶動基板旋轉(zhuǎn)，提高拋光的均勻性。在打開離子源的同時打開中和器避免電荷在基板上聚集而產(chǎn)生對后續(xù)離子的排斥作用。使用離子束拋光設(shè)備可用得到超光滑表面。不僅可用提高拋光質(zhì)量，而且大大提高了拋光效率，提高了拋光的均勻性和穩(wěn)定性。此外，該離子束拋光設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，不僅可用提高拋光質(zhì)量，而且大大提高了拋光效率，提高了拋光的均勻性和穩(wěn)定性，適合推廣使用。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及到拋光技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種離子束拋光設(shè)備。

背景技術(shù)

拋光技術(shù)在設(shè)備制造領(lǐng)域很常見，常規(guī)的拋光方法都是靠人工來完成，工人在此過程中的勞動強(qiáng)度大，工作效率低，拋光后的產(chǎn)品質(zhì)量不夠完整統(tǒng)一。

有鑒于上述的缺陷，本公司積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種離子束拋光設(shè)備，離子拋光把離子刻蝕技術(shù)用于超光滑表面的拋光。不僅可用提高拋光質(zhì)量，而且大大提高了拋光效率，提高了拋光的均勻性和穩(wěn)定性。

實用新型內(nèi)容

為了克服背景技術(shù)中存在的缺陷，本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種離子束拋光設(shè)備，包括真空室、離子源、中和器和真空泵，所述真空室的底部設(shè)有真空泵，所述真空室的左側(cè)設(shè)有離子源，所述真空室的前側(cè)設(shè)有中和器，所述真空室內(nèi)部固定有電機(jī)固定架，所述電機(jī)固定架上通過電機(jī)固定軸固定有電機(jī)，所述電機(jī)的轉(zhuǎn)軸上固定有基板，所述中和器設(shè)置在離子源和基板之間。

本實用新型所涉及的一種離子束拋光設(shè)備，該離子束拋光設(shè)備使用真空泵將真空室獲得一定真空度。打開離子源將沖入真空室內(nèi)的惰性氣體氬氣電離形成等離子體，然后由柵極將離子呈束狀引出并加速，對基板進(jìn)行拋光。電機(jī)帶動基板旋轉(zhuǎn)，提高拋光的均勻性。在打開離子源的同時打開中和器避免電荷在基板上聚集而產(chǎn)生對后續(xù)離子的排斥作用。使用離子束拋光設(shè)備可用得到超光滑表面，拋光時去除基板表面的厚度很小，一般只有幾個微米。 不僅可用提高拋光質(zhì)量，而且大大提高了拋光效率，提高了拋光的均勻性和穩(wěn)定性。此外，該離子束拋光設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，不僅可用提高拋光質(zhì)量，而且大大提高了拋光效率，提高了拋光的均勻性和穩(wěn)定性，適合推廣使用。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型進(jìn)一步說明。

圖1是本實用新型一種離子束拋光設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖一；

圖2是本實用新型一種離子束拋光設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖二；

其中:1、真空室；2、離子源；3、中和器；4、真空泵；5、電機(jī)固定架；6、電機(jī)固定軸；7、電機(jī)；8、轉(zhuǎn)軸；9、基板。

具體實施方式

現(xiàn)在結(jié)合附圖對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。附圖為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本實用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實用新型有關(guān)的構(gòu)成。

請參閱圖1-2，一種離子束拋光設(shè)備，包括真空室1、離子源2、中和器3和真空泵4，其特征在于，所述真空室1的底部設(shè)有真空泵4，所述真空室1的左側(cè)設(shè)有離子源2，所述真空室1的前側(cè)設(shè)有中和器3，所述真空室1內(nèi)部固定有電機(jī)固定架5，所述電機(jī)固定架5上通過電機(jī)固定軸6固定有電機(jī)7，所述電機(jī)7的轉(zhuǎn)軸8上固定有基板9，所述中和器3設(shè)置在離子源2和基板9之間。