[實(shí)用新型]脫硝控制系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920979269.7 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN210229578U | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王曉晶;程虎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)恩菲工程技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B01D53/56 | 分類(lèi)號(hào): | B01D53/56;B01D53/79;F23J15/00;G05D27/02 |
| 代理公司: | 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438 | 代理人: | 孫寶海;袁禮君 |
| 地址: | 100038*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 控制系統(tǒng) | ||
本公開(kāi)提供一種脫硝控制系統(tǒng),包括:溶液配制模塊,耦接于溶劑添加模塊和溶質(zhì)添加模塊,用于配制、儲(chǔ)存、輸出預(yù)設(shè)濃度的溶液;溶劑輸送模塊,耦接于所述溶劑添加模塊,用于儲(chǔ)存并輸送稀釋所述溶液的溶劑;溶液應(yīng)用模塊,耦接于所述溶液配制模塊和所述溶劑輸送模塊,用于接收稀釋溶液并加以應(yīng)用;控制模塊,耦接于所述溶液配制模塊、所述溶劑輸送模塊、所述溶液應(yīng)用模塊,用于根據(jù)所述溶液應(yīng)用模塊的溶液余量指標(biāo)同時(shí)控制所述溶液配制模塊和所述溶劑輸送模塊的物料存量和輸出流量,以控制所述溶液應(yīng)用模塊的輸入溶液濃度使所述溶液余量指標(biāo)達(dá)到預(yù)設(shè)值。本公開(kāi)實(shí)施例可以在保證溶液充足的情況下避免物料浪費(fèi)。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開(kāi)涉及電子電力技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種能夠?qū)崿F(xiàn)自適應(yīng)加料、配液的脫硝控制系統(tǒng)。
背景技術(shù)
SNCR(selective non-catalytic reduction,選擇性非催化還原)作為一種不使用催化劑的技術(shù),在爐膛高溫區(qū)中適宜處均勻噴入還原劑(氨水或尿素),還原劑迅速分解后與煙氣中的污染物NOX反應(yīng)產(chǎn)生N2和H2O,從而降低煙氣中NOX含量,可確保煙氣成分達(dá)到環(huán)保要求。但是,由于還原劑的成本較高,在下料階段還原劑加入量的控制一直深受使用方的關(guān)注。
在現(xiàn)有垃圾焚燒發(fā)電項(xiàng)目中,尿素是SNCR脫硝系統(tǒng)的常用還原劑之一。相關(guān)技術(shù)中,一般通過(guò)人工將尿素顆粒倒入罐內(nèi),溶解后形成尿素溶液,送至焚燒爐噴槍后還原煙氣中的NOX,尿素溶液為防止結(jié)晶長(zhǎng)期處于加熱狀態(tài)。由于垃圾成分復(fù)雜,煙氣中NOX的含量經(jīng)常處于變動(dòng)狀態(tài)。人工加料方式的配料量不易控制,很難確保尿素溶液的濃度及流量達(dá)到相應(yīng)的需求量,經(jīng)常發(fā)生不足或過(guò)量等現(xiàn)象,既可能無(wú)法達(dá)到環(huán)保指標(biāo),也可能造成過(guò)高的成本投入。
由于煙氣中污染物含量變化多端,人工給料方式提供的配料量容易造成環(huán)保未達(dá)標(biāo),成本超標(biāo)等情況發(fā)生,很難滿足實(shí)際使用需求。
需要說(shuō)明的是,在上述背景技術(shù)部分公開(kāi)的信息僅用于加強(qiáng)對(duì)本公開(kāi)的背景的理解,因此可以包括不構(gòu)成對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。
實(shí)用新型內(nèi)容
本公開(kāi)的目的在于提供一種能夠自動(dòng)加料的脫硝控制系統(tǒng)和脫硝控制方法,用于至少在一定程度上克服由于相關(guān)技術(shù)的限制和缺陷而導(dǎo)致的溶液添加過(guò)量或溶液濃度過(guò)高造成的物料浪費(fèi)、溶液添加不足或溶液濃度過(guò)低導(dǎo)致的溶液與目標(biāo)物反應(yīng)不充分的問(wèn)題。
根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)方面,提供一種脫硝控制系統(tǒng),包括:
溶液配制模塊,耦接于溶劑添加模塊和溶質(zhì)添加模塊,用于配制、儲(chǔ)存、輸出預(yù)設(shè)濃度的溶液;
溶劑輸送模塊,耦接于所述溶劑添加模塊,用于儲(chǔ)存并輸送稀釋所述溶液的溶劑;
溶液應(yīng)用模塊,耦接于所述溶液配制模塊和所述溶劑輸送模塊,用于接收稀釋溶液并加以應(yīng)用;
控制模塊,耦接于所述溶液配制模塊、所述溶劑輸送模塊、所述溶液應(yīng)用模塊,用于根據(jù)所述溶液應(yīng)用模塊的溶液余量指標(biāo)同時(shí)控制所述溶液配制模塊和所述溶劑輸送模塊的物料存量和輸出流量,以控制所述溶液應(yīng)用模塊的輸入溶液濃度使所述溶液余量指標(biāo)達(dá)到預(yù)設(shè)值。
在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中,所述溶劑輸送模塊包括第一切斷閥和第二切斷閥,所述第一切斷閥耦接于所述溶液配制模塊和所述控制模塊,所述第二切斷閥耦接于所述溶劑輸送模塊和所述控制模塊。
在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中,所述溶液配制模塊包括:
溶液配制罐,耦接于所述第一切斷閥和所述溶質(zhì)添加模塊,用于配制所述溶液;
溶液儲(chǔ)存罐,耦接于所述溶液配制罐,用于儲(chǔ)存所述溶液;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)恩菲工程技術(shù)有限公司,未經(jīng)中國(guó)恩菲工程技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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