[實(shí)用新型]一種光源裝置及檢測(cè)設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920978916.2
• 申請(qǐng)日: 2019-06-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN210465297U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃韜
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 南京泊納萊電子科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G01N21/956
• 分類(lèi)號(hào): G01N21/956;G01N21/95
• 代理公司: 北京三聚陽(yáng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250
• 代理人: 賈曉燕

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種光源裝置及檢測(cè)設(shè)備，其中光源裝置安裝在視覺(jué)檢測(cè)機(jī)構(gòu)和待測(cè)物體之間，視覺(jué)檢測(cè)機(jī)構(gòu)捕捉自待測(cè)物體上反射光線，包括：基架、以及安裝在基架上的至少一個(gè)第一光源單元和至少一個(gè)第二光源單元；任一光源單元包括光源機(jī)構(gòu)和擴(kuò)散板，所有光源機(jī)構(gòu)朝向待測(cè)物體上放射投射光線，擴(kuò)散板以擴(kuò)散投射光線，擴(kuò)散板設(shè)置投射光線所在的路徑上；第一光源單元還包括還設(shè)有第一鏡片，第一鏡片朝向待測(cè)物體方向反射投射光線。通過(guò)擴(kuò)散板的設(shè)置，從而擴(kuò)散板前的每個(gè)點(diǎn)光源，其在通過(guò)擴(kuò)散板后，將變?yōu)閿?shù)個(gè)點(diǎn)光源，增大了投射光線可照射的區(qū)域，同時(shí)，單位照射區(qū)域內(nèi)所收到投射管線的數(shù)量將增多，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)任一單位照射區(qū)域的照射強(qiáng)度的提高。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及光學(xué)檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光源裝置及檢測(cè)設(shè)備。

背景技術(shù)

工業(yè)自動(dòng)化是在工業(yè)生產(chǎn)中廣泛采用自動(dòng)控制、自動(dòng)調(diào)整裝置，用以代替人工操縱機(jī)器和機(jī)器體系進(jìn)行加工生產(chǎn)的趨勢(shì)。在工業(yè)生產(chǎn)自動(dòng)化條件下，人只是間接地照管和監(jiān)督機(jī)器進(jìn)行生產(chǎn)。工業(yè)自動(dòng)化，按其發(fā)展階段可分為：半自動(dòng)化，即部分采用自動(dòng)控制和自動(dòng)裝置，而另一部分則由人工操作機(jī)器進(jìn)行生產(chǎn)。全自動(dòng)化，指生產(chǎn)過(guò)程中全部工序，包括上料、下料、裝卸等，都不需要人直接進(jìn)行生產(chǎn)操作，人只是間接地看管和監(jiān)督機(jī)器運(yùn)轉(zhuǎn)，而由機(jī)器連續(xù)地、重復(fù)地自動(dòng)生產(chǎn)出一個(gè)或一批產(chǎn)品。

在現(xiàn)有技術(shù)中，實(shí)現(xiàn)工業(yè)自動(dòng)化生產(chǎn)過(guò)程中，在檢測(cè)待加工生產(chǎn)的元件或板材時(shí)，采用光源機(jī)構(gòu)對(duì)待測(cè)物體進(jìn)行照射，視覺(jué)檢測(cè)機(jī)構(gòu)在對(duì)待測(cè)物體將其表面的圖像進(jìn)行成像分析，最終依據(jù)分析結(jié)果確定待測(cè)元件的良品件與否，但是現(xiàn)有的光源機(jī)構(gòu)在對(duì)待測(cè)物體照射時(shí)，亮度往往不夠，同時(shí)若為保證視覺(jué)檢測(cè)機(jī)構(gòu)采集的圖像精準(zhǔn)度，常常需要光源需要具有較大的補(bǔ)光面積，均需要增加光源機(jī)構(gòu)的個(gè)數(shù)增加光源亮度，則容易造成光源機(jī)構(gòu)整體過(guò)大，不便于生產(chǎn)加工制造中使用。

實(shí)用新型內(nèi)容

因此，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于現(xiàn)有技術(shù)中的光源機(jī)構(gòu)由于光源亮度較弱且光源可照射面積較小，而為保證照射亮度而增加光源機(jī)構(gòu)個(gè)數(shù)后，光源機(jī)構(gòu)整體過(guò)大，不利于生產(chǎn)加工中使用的缺陷。

為此，本實(shí)用新型提供一種光源裝置，安裝在視覺(jué)檢測(cè)機(jī)構(gòu)和待測(cè)物體之間，所述視覺(jué)檢測(cè)機(jī)構(gòu)捕捉自所述待測(cè)物體上反射光線，其特征在于，包括：基架、以及安裝在所述基架上的至少一個(gè)第一光源單元和至少一個(gè)第二光源單元；

任一所述光源單元包括光源機(jī)構(gòu)和擴(kuò)散板，所有所述光源機(jī)構(gòu)朝向所述待測(cè)物體上放射投射光線，所述擴(kuò)散板以擴(kuò)散所述投射光線，所述擴(kuò)散板設(shè)置所述投射光線所在的路徑上；

所述第一光源單元還包括還設(shè)有第一鏡片，所述第一鏡片朝向所述待測(cè)物體方向反射所述投射光線。

優(yōu)選地，上述的光源裝置，所述第一鏡片設(shè)置在所述反射光線所在路徑上，且所述第一鏡片朝向所述視覺(jué)檢測(cè)機(jī)構(gòu)方向透射所述反射光線。

進(jìn)一步優(yōu)選地，上述的光源裝置，所述第一鏡片為半透半反鏡。

進(jìn)一步優(yōu)選地，上述的光源裝置，所述第一光源單元的第一光源機(jī)構(gòu)、所述第一光源單元的擴(kuò)散板以及所述第一鏡片共線設(shè)置。

進(jìn)一步優(yōu)選地，上述的光源裝置，至少兩個(gè)所述第二光源單元，圍設(shè)在在所述反射光線外側(cè)。

進(jìn)一步優(yōu)選地，上述的光源裝置，任一所述光源機(jī)構(gòu)包括

光源體，放射投射光線；

冷卻組件，靠近所述光源體安裝且背離所述光源體發(fā)射投射光線一側(cè)安裝；以對(duì)所述光源體散熱；

安裝組件，所述安裝組件形成透光狹縫，所述投射光線由所述透光狹縫處投射。

進(jìn)一步優(yōu)選地，上述的光源裝置，所述冷卻組件具有冷卻腔體，以及與所述冷卻腔體相連通的第一出口和第一進(jìn)口，所述第一進(jìn)口與外接冷卻氣體相連，所述冷卻氣體在所述冷卻腔體內(nèi)由第一進(jìn)口向第一出口方向流通。