[實(shí)用新型]一種離子流密度測(cè)量?jī)x及測(cè)量系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920976398.0
• 申請(qǐng)日: 2019-06-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN210572505U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐國(guó)勇;陸德堅(jiān);陳青松;劉磊;李健暉
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 廣東省職業(yè)病防治院;北京森馥科技股份有限公司;廣東藥科大學(xué);南方電網(wǎng)科學(xué)研究院有限責(zé)任公司
• 主分類(lèi)號(hào): G01R29/08
• 分類(lèi)號(hào): G01R29/08
• 代理公司: 廣州三環(huán)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 顏希文;黃華蓮

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種離子流密度測(cè)量?jī)x及測(cè)量系統(tǒng)，所述測(cè)量?jī)x包括離子流平板探頭和納安計(jì)，所述離子流平板探頭和所述納安計(jì)之間電連接；所述離子流平板探頭包括用于接地的金屬平板、用于采集離子流的采集板和用于平衡所述采集板的環(huán)狀保護(hù)環(huán)，所述保護(hù)環(huán)設(shè)置在所述金屬平板上，且與所述金屬平板電連接，所述采集板為邊長(zhǎng)1米的正方形，所述采集板與所述金屬平板平行且絕緣地設(shè)置在所述金屬平板上，且四周均與所述保護(hù)環(huán)的內(nèi)側(cè)留有間隙地設(shè)于所述保護(hù)環(huán)的內(nèi)部。所述測(cè)量系統(tǒng)包括多個(gè)離子流密度測(cè)量?jī)x及與之連接的現(xiàn)場(chǎng)監(jiān)控裝置，本實(shí)用新型提供的離子流密度測(cè)量?jī)x及測(cè)量系統(tǒng)，方便測(cè)量離子流密度，同時(shí)便于實(shí)施多個(gè)監(jiān)測(cè)點(diǎn)同步監(jiān)測(cè)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及電力測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種離子流密度測(cè)量?jī)x及測(cè)量系統(tǒng)。

背景技術(shù)

隨著高壓直流輸變電工程的建設(shè)，直流輸變電工程的電磁環(huán)境成為公眾所關(guān)注的問(wèn)題，直流輸變電工程的電磁環(huán)境相對(duì)于交流輸變電工程的電磁環(huán)境有較大的差別在于直流輸變電工程產(chǎn)生離子而交流輸變電工程沒(méi)有離子，直流導(dǎo)體電暈時(shí)，電離形成的離子在電場(chǎng)力的作用下，向空間運(yùn)動(dòng)形成離子流。地面單位面積截獲的離子流稱(chēng)為離子流密度，單位為nA/m²。離子是帶電的電荷，離子流是電流的一種形式，離子流掉落在人體上，累積電荷就像靜電一樣，讓人體感覺(jué)到煩惱，我們需要限制直流輸變電工程的離子流密度，以避免對(duì)人員造成傷害。電力行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)DL/T 1088-2008《±800kV特高壓直流線路電磁環(huán)境參數(shù)限值》給出了±800kV直流架空輸電線路下方的離子流密度限值為100nA/m²。也就是一平方米的電流小于100nA。同時(shí)，按照DL/T1089-2008《直流換流站與線路合成場(chǎng)強(qiáng)離子流密度測(cè)試方法》標(biāo)準(zhǔn)的要求，高壓直流的離子流密度需要在線路或者換流站圍墻外，多個(gè)監(jiān)測(cè)布點(diǎn)同步監(jiān)測(cè)。

實(shí)用新型內(nèi)容

為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供一種離子流密度測(cè)量?jī)x及測(cè)量系統(tǒng)，方便測(cè)量離子流密度，同時(shí)便于實(shí)施多個(gè)監(jiān)測(cè)點(diǎn)同步監(jiān)測(cè)。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：

一種離子流密度測(cè)量?jī)x，包括離子流平板探頭和納安計(jì)，所述離子流平板探頭和所述納安計(jì)之間電連接；

所述離子流平板探頭包括用于接地的金屬平板、用于采集離子流的采集板和用于平衡所述采集板的環(huán)狀保護(hù)環(huán)，所述保護(hù)環(huán)設(shè)置在所述金屬平板上，且與所述金屬平板電連接，所述采集板為邊長(zhǎng)1米的正方形，所述采集板與所述金屬平板平行且絕緣地設(shè)置在所述金屬平板上，且四周均與所述保護(hù)環(huán)的內(nèi)側(cè)留有間隙地設(shè)于所述保護(hù)環(huán)的內(nèi)部。

優(yōu)選地，所述金屬平板與所述采集板之間支撐有絕緣支柱，所述采集板上設(shè)有用于連接所述絕緣支柱的安裝孔。

優(yōu)選地，所述金屬平板與所述保護(hù)環(huán)之間通過(guò)金屬支柱連接，所述保護(hù)環(huán)上設(shè)有通孔，所述金屬支柱的一端固定在所述金屬平板上，另一端插接在所述通孔內(nèi)。

優(yōu)選地，所述離子流平板探頭與所述納安計(jì)之間通過(guò)射頻線連接，所述射頻線的一端設(shè)有用于連接所述納安計(jì)的接口，另一端的內(nèi)芯連接所述采集板，外芯連接所述保護(hù)環(huán)。

優(yōu)選地，所述采集板上設(shè)有用于連接所述內(nèi)芯的第一接線孔，所述保護(hù)環(huán)上設(shè)有用于連接所述外芯的第二接線孔。

優(yōu)選地，所述納安計(jì)的內(nèi)部設(shè)有用于對(duì)離子流信息采集及傳輸?shù)臒o(wú)線模塊。

優(yōu)選地，所述金屬平板為邊長(zhǎng)1.1米的正方形，所述保護(hù)環(huán)為外邊長(zhǎng)1.1米，內(nèi)邊長(zhǎng)1.02米的正方形環(huán)。

優(yōu)選地，所述采集板與所述保護(hù)環(huán)的上表面在同一水平面。

一種離子流密度測(cè)量系統(tǒng)，包括多個(gè)離子流密度測(cè)量?jī)x和現(xiàn)場(chǎng)監(jiān)控裝置，多個(gè)所述離子流密度測(cè)量?jī)x分別布置在不同的檢測(cè)布點(diǎn)，所述現(xiàn)場(chǎng)監(jiān)控裝置上設(shè)有用于連接多個(gè)所述離子流密度測(cè)量?jī)x的無(wú)線通信模塊。