[實用新型]電磁加熱設備有效
| 申請號: | 201920974143.0 | 申請日: | 2019-06-26 |
| 公開(公告)號: | CN210518894U | 公開(公告)日: | 2020-05-12 |
| 發明(設計)人: | 陳劍;陳勁鋒;劉飛;丘守慶;趙克芝;耿天劍;余衛金;洪燁;劉鑫 | 申請(專利權)人: | 深圳市鑫匯科股份有限公司 |
| 主分類號: | H05B6/02 | 分類號: | H05B6/02;H05B6/12;H05K9/00 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 葉劍 |
| 地址: | 518000 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電磁 加熱 設備 | ||
1.一種電磁加熱設備,其特征在于,包括:
線圈盤,用于產生變化的磁場并能夠對加熱體進行加熱;
控制電路板,與所述線圈盤電性連接;及
吸波裝置,與所述控制電路板電性連接,所述吸波裝置能夠將所述線圈盤附近的電磁干擾輻射的信號反饋至所述控制電路板,所述控制電路板根據反饋的所述信號控制所述吸波裝置消除所述電磁干擾輻射。
2.根據權利要求1所述的電磁加熱設備,其特征在于,所述線圈盤的其中一側或兩側存在所述吸波裝置;或者,所述吸波裝置環繞所述線圈盤設置。
3.根據權利要求1所述的電磁加熱設備,其特征在于,還包括用于放置所述加熱體的承載組件,所述吸波裝置位于所述承載組件與所述線圈盤之間。
4.根據權利要求1所述的電磁加熱設備,其特征在于,所述吸波裝置包括導體或半導體材料制成的吸波介質,所述吸波介質為層狀結構。
5.根據權利要求1所述的電磁加熱設備,其特征在于,所述吸波裝置包括導體或半導體材料制成的吸波介質,所述吸波介質包括由導線繞制、沖裁、噴涂、印刷、注射、或電鍍工藝形成的吸波介質。
6.根據權利要求5所述的電磁加熱設備,其特征在于,所述吸波介質為開環結構。
7.根據權利要求5所述的電磁加熱設備,其特征在于,所述吸波裝置還包括與所述吸波介質連接的連接導體,所述連接導體與所述控制電路板焊接、鉚接、螺接或插接。
8.根據權利要求5所述的電磁加熱設備,其特征在于,所述吸波裝置還包括由絕緣材料制成的支撐介質,所述吸波介質與所述支撐介質連接。
9.根據權利要求8所述的電磁加熱設備,其特征在于,所述支撐介質的數量為一個,所述吸波介質貼附在所述支撐介質的表面上;或者,所述支撐介質的數量為兩個,兩個所述支撐介質層疊設置,所述吸波介質夾置在兩個所述支撐介質之間。
10.根據權利要求8所述的電磁加熱設備,其特征在于,所述吸波介質所處的平面與所述支撐介質所處的平面兩者平行或相交成設定角度。
11.根據權利要求8所述的電磁加熱設備,其特征在于,所述支撐介質設置在所述線圈盤或所述加熱體上。
12.根據權利要求1所述的電磁加熱設備,其特征在于,所述吸波裝置在所述線圈盤上具有投影面積,所述線圈盤上的諧振線圈具有覆蓋面積,所述投影面積大于或等于所述覆蓋面積的一半。
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