[實(shí)用新型]一種高通量共沉淀合成裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920972913.8
• 申請(qǐng)日: 2019-06-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN210252274U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-04-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王學(xué)軍;李帥;劉祎;牛群;吳炎凡;曹煒;葛陽(yáng)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 浙江優(yōu)通自動(dòng)化技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B01J19/18
• 分類(lèi)號(hào): B01J19/18;B01J4/02
• 代理公司: 北京眾達(dá)德權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11570
• 代理人: 劉杰

1.一種高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，包括：主體框架、液體泵、切換分配閥組、分配針組、共沉淀反應(yīng)模塊以及中央控制系統(tǒng)；

所述液體泵固定在所述主體框架上，所述切換分配閥組通過(guò)供液管路與所述液體泵相連，所述切換分配閥組通過(guò)分配管路與所述分配針組相連；

所述分配針組可拆卸地固定在所述共沉淀反應(yīng)模塊上，所述共沉淀反應(yīng)模塊固定在所述主體框架上；

所述液體泵、所述切換分配閥組以及所述共沉淀反應(yīng)模塊分別與所述中央控制系統(tǒng)相連。

2.如權(quán)利要求1所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，高通量共沉淀合成裝置還包括：二軸機(jī)械手以及PH探針；

所述二軸機(jī)械手固定在所述主體框架上，所述PH探針固定在所述二軸機(jī)械手上；

所述二軸機(jī)械手和所述PH探針?lè)謩e與所述中央控制系統(tǒng)相連。

3.如權(quán)利要求2所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述二軸機(jī)械手包括：X軸系統(tǒng)、Z軸系統(tǒng)以及懸臂；

所述X軸系統(tǒng)固定在所述主體框架上，所述Z軸系統(tǒng)固定在所述X軸系統(tǒng)的移動(dòng)端上，所述懸臂固定在所述Z軸系統(tǒng)的移動(dòng)端上；

所述X軸系統(tǒng)以及所述Z軸系統(tǒng)分別與所述中央控制系統(tǒng)相連。

4.如權(quán)利要求2所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，高通量共沉淀合成裝置還包括：PH探針清洗校準(zhǔn)模塊；

PH探針清洗校準(zhǔn)模塊固定在所述主體框架上。

5.如權(quán)利要求4所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述PH探針校準(zhǔn)模塊包括：探針清洗組件、探針干燥組件、探針校準(zhǔn)容器以及設(shè)置在所述探針校準(zhǔn)容器內(nèi)的校準(zhǔn)液。

6.如權(quán)利要求1所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述高通量共沉淀合成裝置還包括：分配針清洗模塊；

所述分配針清洗模塊固定在所述主體框架上；

其中，任意相鄰的兩個(gè)所述共沉淀反應(yīng)模塊之間均設(shè)置有所述分配針清洗模塊。

7.如權(quán)利要求1所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，述高通量共沉淀合成裝置還包括：反應(yīng)釜暫存支座；

所述反應(yīng)釜暫存支座固定在所述主體框架上。

8.如權(quán)利要求1～7任一項(xiàng)所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述切換分配閥組包括：切換閥和分配閥；

所述切換閥的輸入端通過(guò)所述供液管路與所述液體泵相連，所述切換閥的輸出端與所述分配閥的輸入端相連，所述分配閥的輸出端通過(guò)所述分配管路與所述分配針組相連。

9.如權(quán)利要求8所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述共沉淀反應(yīng)模塊包括：頂蓋、冷卻密封蓋、底座結(jié)構(gòu)、加熱結(jié)構(gòu)以及電磁攪拌結(jié)構(gòu)；

所述分配針組固定在所述頂蓋上，所述頂蓋可拆卸地扣合在所述冷卻密封蓋上；

所述底座結(jié)構(gòu)包括：底座以及設(shè)置在所述底座內(nèi)的反應(yīng)釜；

所述冷卻密封蓋固定在所述底座上密封所述反應(yīng)釜，并設(shè)置有與所述分配針組對(duì)應(yīng)的注液口；

所述加熱結(jié)構(gòu)固定在所述底座上，并與所述中央控制系統(tǒng)相連；

所述電磁攪拌結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述底座上，并與所述中央控制系統(tǒng)相連。

10.如權(quán)利要求9所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述冷卻密封蓋包括：密封蓋、隔熱墊以及冷卻系統(tǒng)；

所述注液口設(shè)置在所述密封蓋上，位于所述反應(yīng)釜上方；

所述隔熱墊設(shè)置在所述密封蓋的底端面上；

其中，所述冷卻系統(tǒng)包括：冷卻管；

所述冷卻管固定在所述頂蓋底端面上，位于所述反應(yīng)釜正上方，并與所述中央控制系統(tǒng)相連；

所述隔熱墊上開(kāi)設(shè)與所述反應(yīng)釜的釜口匹配的孔；

所述注液口連通所述隔熱墊開(kāi)設(shè)的孔，并錯(cuò)開(kāi)所述冷卻管分布在所述頂蓋上。