[實用新型]一種高通量共沉淀合成裝置

有效

• 申請號: 201920972913.8
• 申請日: 2019-06-26
• 公開（公告）號: CN210252274U
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發明（設計）人: 王學軍;李帥;劉祎;牛群;吳炎凡;曹煒;葛陽
• 申請（專利權）人: 浙江優通自動化技術有限公司
• 主分類號: B01J19/18
• 分類號: B01J19/18;B01J4/02
• 代理公司: 北京眾達德權知識產權代理有限公司 11570
• 代理人: 劉杰

1.一種高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，包括：主體框架、液體泵、切換分配閥組、分配針組、共沉淀反應模塊以及中央控制系統；

所述液體泵固定在所述主體框架上，所述切換分配閥組通過供液管路與所述液體泵相連，所述切換分配閥組通過分配管路與所述分配針組相連；

所述分配針組可拆卸地固定在所述共沉淀反應模塊上，所述共沉淀反應模塊固定在所述主體框架上；

所述液體泵、所述切換分配閥組以及所述共沉淀反應模塊分別與所述中央控制系統相連。

2.如權利要求1所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，高通量共沉淀合成裝置還包括：二軸機械手以及PH探針；

所述二軸機械手固定在所述主體框架上，所述PH探針固定在所述二軸機械手上；

所述二軸機械手和所述PH探針分別與所述中央控制系統相連。

3.如權利要求2所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述二軸機械手包括：X軸系統、Z軸系統以及懸臂；

所述X軸系統固定在所述主體框架上，所述Z軸系統固定在所述X軸系統的移動端上，所述懸臂固定在所述Z軸系統的移動端上；

所述X軸系統以及所述Z軸系統分別與所述中央控制系統相連。

4.如權利要求2所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，高通量共沉淀合成裝置還包括：PH探針清洗校準模塊；

PH探針清洗校準模塊固定在所述主體框架上。

5.如權利要求4所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述PH探針校準模塊包括：探針清洗組件、探針干燥組件、探針校準容器以及設置在所述探針校準容器內的校準液。

6.如權利要求1所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述高通量共沉淀合成裝置還包括：分配針清洗模塊；

所述分配針清洗模塊固定在所述主體框架上；

其中，任意相鄰的兩個所述共沉淀反應模塊之間均設置有所述分配針清洗模塊。

7.如權利要求1所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，述高通量共沉淀合成裝置還包括：反應釜暫存支座；

所述反應釜暫存支座固定在所述主體框架上。

8.如權利要求1～7任一項所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述切換分配閥組包括：切換閥和分配閥；

所述切換閥的輸入端通過所述供液管路與所述液體泵相連，所述切換閥的輸出端與所述分配閥的輸入端相連，所述分配閥的輸出端通過所述分配管路與所述分配針組相連。

9.如權利要求8所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述共沉淀反應模塊包括：頂蓋、冷卻密封蓋、底座結構、加熱結構以及電磁攪拌結構；

所述分配針組固定在所述頂蓋上，所述頂蓋可拆卸地扣合在所述冷卻密封蓋上；

所述底座結構包括：底座以及設置在所述底座內的反應釜；

所述冷卻密封蓋固定在所述底座上密封所述反應釜，并設置有與所述分配針組對應的注液口；

所述加熱結構固定在所述底座上，并與所述中央控制系統相連；

所述電磁攪拌結構設置在所述底座上，并與所述中央控制系統相連。

10.如權利要求9所述的高通量共沉淀合成裝置，其特征在于，所述冷卻密封蓋包括：密封蓋、隔熱墊以及冷卻系統；

所述注液口設置在所述密封蓋上，位于所述反應釜上方；

所述隔熱墊設置在所述密封蓋的底端面上；

其中，所述冷卻系統包括：冷卻管；

所述冷卻管固定在所述頂蓋底端面上，位于所述反應釜正上方，并與所述中央控制系統相連；

所述隔熱墊上開設與所述反應釜的釜口匹配的孔；

所述注液口連通所述隔熱墊開設的孔，并錯開所述冷卻管分布在所述頂蓋上。