[實(shí)用新型]用于演示膝跳反射現(xiàn)象的演示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920966390.6
• 申請(qǐng)日: 2019-06-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN210223258U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉珍;王朝君;馬洪霜;孫燕;周琪琦;周泓岑
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 樂(lè)山師范學(xué)院
• 主分類號(hào): G09B23/28
• 分類號(hào): G09B23/28
• 代理公司: 成都點(diǎn)睛專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51232
• 代理人: 李玉興

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能夠直觀的看到實(shí)驗(yàn)中神經(jīng)沖動(dòng)的產(chǎn)生、傳導(dǎo)、便于學(xué)生理解的用于演示膝跳反射現(xiàn)象的演示裝置。該裝置包括殼體，殼體內(nèi)設(shè)置有開(kāi)關(guān)按鈕、中樞模擬器、光控?zé)?、?dòng)力彈動(dòng)裝置以及電磁鐵，開(kāi)關(guān)按鈕與神經(jīng)中樞模擬器通過(guò)第一流水燈帶連接，神經(jīng)中樞模擬器與光控?zé)敉ㄟ^(guò)第二流水燈帶連接。該裝置在使用時(shí)，先用手或木錘敲擊開(kāi)關(guān)按鈕，第一流水燈帶接通使流水燈依次發(fā)光，然后傳導(dǎo)至神經(jīng)中樞在傳導(dǎo)至第二流水燈帶，直到光傳遞到光控?zé)籼?，使電磁鐵通電產(chǎn)生磁極且與固定在動(dòng)力彈動(dòng)裝置上的永磁鐵相互排斥，使動(dòng)力彈動(dòng)裝置發(fā)生彈動(dòng)。操作方便適合在小學(xué)科學(xué)教學(xué)實(shí)驗(yàn)器材領(lǐng)域推廣。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及小學(xué)科學(xué)教學(xué)實(shí)驗(yàn)器材領(lǐng)域，尤其是一種用于演示膝跳反射現(xiàn)象的演示裝置。

背景技術(shù)

反射是神經(jīng)活動(dòng)的基本方式，反射的完成要通過(guò)神經(jīng)沖動(dòng)的產(chǎn)生、傳導(dǎo)等一系列復(fù)雜而抽象的過(guò)程，而膝跳反射是一種最為簡(jiǎn)單的神經(jīng)反射類型，但學(xué)生在做有關(guān)膝跳反射的實(shí)驗(yàn)時(shí)，只能看到膝跳這一表面現(xiàn)象，而神經(jīng)沖動(dòng)的產(chǎn)生、傳導(dǎo)根本看不到，只憑老師講解和教科書(shū)的抽象描繪這一現(xiàn)象，很難讓學(xué)生理解和想象這一過(guò)程。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能夠直觀的看到實(shí)驗(yàn)中神經(jīng)沖動(dòng)的產(chǎn)生、傳導(dǎo)、便于學(xué)生理解的用于演示膝跳反射現(xiàn)象的演示裝置。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案為：該用于演示膝跳反射現(xiàn)象的演示裝置，包括殼體，所述殼體由底板、前側(cè)板、后側(cè)板、左側(cè)板、右側(cè)板組成，所述前側(cè)板、后側(cè)板、左側(cè)板、右側(cè)板分別固定在底板的四周邊緣處共同圍成一個(gè)敞口的腔體，所述底板上表面設(shè)置有按鈕開(kāi)關(guān)、神經(jīng)中樞模擬器、光控?zé)?、?dòng)力彈動(dòng)裝置以及電磁鐵，所述按鈕開(kāi)關(guān)與神經(jīng)中樞模擬器通過(guò)第一流水燈帶連接，所述第一流水燈帶的一端與按鈕開(kāi)關(guān)固定連接，所述第一流水燈帶的另一端與神經(jīng)中樞模擬器固定連接，所述神經(jīng)中樞模擬器與光控?zé)敉ㄟ^(guò)第二流水燈帶連接，所述第二流水燈帶的一端與神經(jīng)中樞模擬器固定連接，所述第二流水燈帶的另一端與光控?zé)艄潭ㄟB接，所述光控?zé)襞c電磁鐵通過(guò)導(dǎo)線連接，所述動(dòng)力彈動(dòng)裝置包括支撐桿、支撐平臺(tái)，所述支撐桿的下端固定設(shè)置在底板上表面，所述支撐桿與底板互相垂直，所述支撐平臺(tái)固定在支撐桿上端且支撐平臺(tái)與支撐桿互相垂直，所述支撐平臺(tái)上表面沿其長(zhǎng)度方向設(shè)置有滑槽，所述滑槽的左端延伸至支撐平臺(tái)的左側(cè)端面，所述滑槽的右端延伸至支撐平臺(tái)的右側(cè)端面，所述滑槽的左端設(shè)置有固定板，所述固定板與滑槽的側(cè)壁互相垂直，所述滑槽內(nèi)設(shè)置有壓縮彈簧、滑塊、撞桿、支撐塊，所述支撐塊固定在滑槽內(nèi)，所述支撐塊左側(cè)端面設(shè)置有第一通孔，所述第一通孔的直徑與撞桿的直徑相匹配，所述撞桿位于第一通孔內(nèi)且撞桿兩端分別延伸至支撐塊兩端外側(cè)，所述壓縮彈簧的左端固定在固定板右側(cè)表面，所述滑塊與壓縮彈簧的右端固定相連，所述滑塊的寬度與滑槽的寬度相匹配，所述滑塊的高度小于等于滑槽的深度，當(dāng)壓縮彈簧處于壓縮狀態(tài)時(shí)，所述撞桿與滑塊相接觸，所述滑槽的右端設(shè)置有活動(dòng)板，所述活動(dòng)板與滑槽的側(cè)壁互相垂直，所述活動(dòng)板寬度小于滑槽的寬度，所述活動(dòng)板的上端通過(guò)第一轉(zhuǎn)軸固定在滑槽的兩個(gè)內(nèi)側(cè)壁上，所述活動(dòng)板繞第一轉(zhuǎn)軸自由轉(zhuǎn)動(dòng)，所述活動(dòng)板右側(cè)表面設(shè)置有小腿模型；所述支撐平臺(tái)的下方設(shè)置有彈射發(fā)生裝置，所述彈射發(fā)生裝置包括轉(zhuǎn)動(dòng)桿、挑桿、轉(zhuǎn)動(dòng)板、第二轉(zhuǎn)軸、第三轉(zhuǎn)軸，所述滑槽的槽底設(shè)置有第二通孔，所述第二通孔的上端延伸至滑槽槽底的上表面，所述第二通孔的下端延伸至支撐平臺(tái)的下表面，所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿上設(shè)置有第一軸孔，所述第一軸孔的直徑與第二轉(zhuǎn)軸的直徑相匹配，所述第一軸孔的中心軸線到轉(zhuǎn)動(dòng)桿右端面的距離小于第一軸孔的中心軸線到轉(zhuǎn)動(dòng)桿左端面的距離，所述第二轉(zhuǎn)軸穿過(guò)第一軸孔且通過(guò)第一支架固定在支撐平臺(tái)的下表面，所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿繞第二轉(zhuǎn)軸自由轉(zhuǎn)動(dòng)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿的左端設(shè)置有插桿，所述插桿向上延伸，所述插桿的大小與第二通孔的大小相匹配，所述滑塊下表面設(shè)置有凹槽，所述凹槽的橫截面大小與插桿的橫截面大小相匹配，所述轉(zhuǎn)動(dòng)板的上端設(shè)置有連接塊，所述連接塊上設(shè)置有第二軸孔，所述第二軸孔的直徑與第三轉(zhuǎn)軸的直徑相匹配，所述第三轉(zhuǎn)軸穿過(guò)第二軸孔且通過(guò)第二支架固定在支撐平臺(tái)的下表面，所述轉(zhuǎn)動(dòng)板繞第三轉(zhuǎn)軸自由轉(zhuǎn)動(dòng)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)板的左側(cè)設(shè)置有挑桿，所述挑桿的右端固定在轉(zhuǎn)動(dòng)板的左側(cè)，所述挑桿的右端斜向上延伸至轉(zhuǎn)動(dòng)桿的右端下方且挑桿與轉(zhuǎn)動(dòng)桿互相接觸，所述轉(zhuǎn)動(dòng)板的右側(cè)設(shè)置有永磁鐵，所述永磁鐵正對(duì)電磁鐵設(shè)置，所述永磁鐵的磁極與電磁鐵的磁極為同名磁極，初始狀態(tài)時(shí)，所述壓縮彈簧被壓縮，所述凹槽的中心與第二通孔的中心位于同一豎直線上，所述插桿穿過(guò)第二通孔伸入凹槽內(nèi)，此時(shí)所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿的右端低于轉(zhuǎn)桿的左端，所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿的右端與挑桿的左端相接觸，當(dāng)電磁鐵通電時(shí)，所述永磁鐵與電磁鐵互相排斥，所述電磁鐵推動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)板順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而帶動(dòng)挑桿順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，所述挑桿的左端推動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)桿逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)而使插桿的上端脫離凹槽，所述壓縮彈簧推動(dòng)滑塊向右滑動(dòng)進(jìn)而推動(dòng)撞桿向右滑動(dòng)，所述撞桿的右端與活動(dòng)板相接觸進(jìn)而推動(dòng)活動(dòng)板逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，從而使小腿模型向上彈動(dòng)。