[實用新型]半導體設備光刻膠旋轉遮蔽罩部件洗凈熔射保護治具

有效

• 申請號: 201920954936.6
• 申請日: 2019-06-24
• 公開（公告）號: CN209785875U
• 公開（公告）日: 2019-12-13
• 發明（設計）人: 陳智慧;賀賢漢;李泓波;張正偉;王松朋;朱光宇
• 申請（專利權）人: 富樂德科技發展(大連)有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 21235 大連智高專利事務所(特殊普通合伙)
• 代理人: 蓋小靜

本實用新型公開了一種半導體設備光刻膠旋轉遮蔽罩部件洗凈熔射保護治具，屬于洗凈熔射保護技術領域，包括底座，所述底座為一圓盤狀結構，底座中部開設有定位通孔，所述定位通孔內連接有用于固定底部支撐桿的底部螺栓，所述定位通孔的形狀與底部螺栓的形狀相配合；所述底部支撐桿為一圓柱形結構，其與底座連接的一端開設有螺栓槽，所述底部螺栓同時連接于定位通孔和螺栓槽內；所述底部支撐桿另一端開設有保護桿插槽，所述保護桿插槽內連接有頂部保護桿；保護精度高，可重復利用且不會污染部品。

技術領域

本實用新型涉及洗凈熔射保護技術領域，具體涉及一種半導體設備反向制程物理氣相沉淀裝置光刻膠反向遮蔽罩部件洗凈熔射保護治具。

背景技術

目前在對半導體光刻膠反向遮蔽罩進行洗凈再生工藝中，需要進行部件表面的熔射處理，在此工序中需要采用耐高溫膠帶對部件非熔射的表面進行保護，此部件為頂部開口的杯狀結構，底部是圓弧面，部品極小，其熔射面在杯體上，需要將底部的非熔射面保護，現有工序使用膠帶保護，每次都要將膠帶根據部件所需要遮蔽的范圍進行剪切，操作占用時間較多，人工膠帶保護無法保證熔射區域的精度，且膠帶無法重復利用，增加生產成本，用膠帶保護導致部品被覆蓋區域有不同程度殘膠留在表面，造成產品的不良，其次，因為部品的尺寸小，難以固定在熔射機轉臺上，需要用膠帶粘在原有的轉臺上，這樣熔射后的效果參差不齊，而且返工率高。

實用新型內容

為解決現有技術中存在的不足，本實用新型提供一種半導體設備光刻膠旋轉遮蔽罩部件洗凈熔射保護治具，保護精度高，可重復利用且不會污染部品。

本實用新型為解決其技術問題所采用的技術方案是：一種半導體設備光刻膠旋轉遮蔽罩部件洗凈熔射保護治具，包括底座，所述底座為一圓盤狀結構，底座中部開設有定位通孔，所述定位通孔內連接有用于固定底部支撐桿的底部螺栓，所述定位通孔的形狀與底部螺栓的形狀相配合；所述底部支撐桿為一圓柱形結構，其與底座連接的一端開設有螺栓槽，所述底部螺栓同時連接于定位通孔和螺栓槽內；所述底部支撐桿另一端開設有保護桿插槽，所述保護桿插槽內連接有頂部保護桿。

進一步的，所述底部支撐桿包括相連接的細桿部和粗桿部，所述粗桿部底端開設有螺栓槽，所述細桿部、粗桿部頂部開設有保護桿插槽，細桿部直徑小于粗桿部直徑，細桿部和粗桿部的連接處形成截面呈“L”型的墊片卡槽，所述墊片卡槽內卡接有墊片。

進一步的，所述底座上開設有多個減重孔和多個固定螺紋孔，所述減重孔和固定螺紋孔數量一致，且每兩個減重孔之間設有一個固定螺紋孔。

進一步的，所述頂部保護桿的上端開設有取出孔。

進一步的，所述底座上與底部支撐桿連接處開設有與底部支撐桿粗桿部直徑大小相配合的臺階槽，所述定位通孔位于臺階槽中心。

進一步的，所述頂部保護桿包括相連接的水平蓋和豎直桿，所述豎直桿垂直連接于水平蓋中部，所述頂部保護桿截面呈“十”字型。

進一步的，所述水平蓋包括相連接的上蓋和下蓋，上蓋具有傾斜端面，下蓋直徑小于上蓋直徑，在上蓋和下蓋的連接處形成拆卸槽。

本實用新型的有益效果是：代替了膠帶對部品非熔射部分進行遮蔽保護的方式，尺寸穩定，耐高溫不變形，可多次重復使用；提高了熔射保護精度，降低了產品不良率，且對于被保護的部件表面不會留下殘膠，污垢等副產物，使用方便，節省人力及物料成本。

附圖說明

圖1為本實用新型與部品連接的整體結構示意圖；

圖2為本實用新型部分結構剖視圖；

圖3為本實用新型底座結構示意圖；

圖4為本實用新型局部放大剖視圖；

圖5為本實用新型局部放大剖視圖；