[實(shí)用新型]一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的承載頭及化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920944158.2
• 申請(qǐng)日: 2019-06-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN210550369U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙德文;路新春
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 清華大學(xué)
• 主分類號(hào): B24B37/12
• 分類號(hào): B24B37/12;B24B37/14;B24B41/04;B24B37/013;B24B49/16
• 代理公司: 北京華進(jìn)京聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606
• 代理人: 魏朋

1.一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的承載頭，其特征在于，包括連軸盤、平衡架、承載盤、柔性膜、環(huán)狀壓盤，平衡架的中軸部可滑動(dòng)地密封設(shè)置于連軸盤的中心通孔內(nèi)并可以通過(guò)所述平衡架的底盤部及翼緣部帶動(dòng)承載盤相對(duì)于連軸盤上下移動(dòng)，所述柔性膜具有邊緣皺壁和至少一個(gè)內(nèi)皺壁，并且所述邊緣皺壁及內(nèi)皺壁中的至少一個(gè)被環(huán)狀壓盤夾緊至承載盤以形成可調(diào)壓腔室，使得可以通過(guò)控制平衡架的豎直位置和可調(diào)壓腔室的壓力來(lái)調(diào)節(jié)施加于基板的壓力。

2.如權(quán)利要求1所述的承載頭，其特征在于，所述邊緣皺壁沿所述柔性膜的上表面向上豎直延伸，所述內(nèi)皺壁沿所述柔性膜上表面向上延伸，并且所述邊緣皺壁與所述內(nèi)皺壁同心地設(shè)置。

3.如權(quán)利要求1所述的承載頭，其特征在于，所述邊緣皺壁具有從其頂端朝徑向內(nèi)側(cè)延伸的環(huán)狀的第一水平延伸部并且所述第一水平延伸部在其端部具有環(huán)狀的第一密封凸起，所述內(nèi)皺壁具有從其頂端徑向延伸的環(huán)狀的第二水平延伸部并且所述第二水平延伸部在其端部具有環(huán)狀的第二密封凸起。

4.如權(quán)利要求3所述的承載頭，其特征在于，所述第一水平延伸部及其鄰接部分被所述環(huán)狀壓盤的外緣部向上夾緊固定至所述承載盤的下表面。

5.如權(quán)利要求3所述的承載頭，其特征在于，所述第二水平延伸部及其鄰接部分被所述環(huán)狀壓盤的內(nèi)緣部向上夾緊固定至所述承載盤的下表面。

6.如權(quán)利要求3所述的承載頭，其特征在于，所述環(huán)狀壓盤的表面有用于容置所述第一密封凸起的第一定位結(jié)構(gòu)和/或用于容置所述第二密封凸起的第二定位結(jié)構(gòu)。

7.如權(quán)利要求6所述的承載頭，其特征在于，所述第一定位結(jié)構(gòu)和/或第二定位結(jié)構(gòu)為環(huán)狀凹口或凹槽。

8.如權(quán)利要求3所述的承載頭，其特征在于，所述第一水平延伸部和所述第二水平延伸部的長(zhǎng)度不同。

9.如權(quán)利要求3所述的承載頭，其特征在于，所述第一密封凸起和所述第二密封凸起表面具有用于增強(qiáng)夾緊效果并且防止黏連的粗糙結(jié)構(gòu)。

10.如權(quán)利要求3所述的承載頭，其特征在于，所述柔性膜除所述第一密封凸起和所述第二密封凸起以外的其他部分的表面設(shè)置有疏水性涂層。

11.如權(quán)利要求10所述的承載頭，其特征在于，所述疏水性涂層為派瑞林C膜。

12.如權(quán)利要求3所述的承載頭，其特征在于，所述密封凸起的高度為所述水平延伸部的厚度的2至8倍。

13.一種化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備，其特征在于，所述化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備包括如權(quán)利要求1至12中任意一項(xiàng)所述的承載頭。