[實用新型]一種磁控濺射反應設備鉤掛式換樣品裝置

有效

• 申請號: 201920925217.1
• 申請日: 2019-06-19
• 公開（公告）號: CN210341045U
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發明（設計）人: 魯聰達;俞越翎;馬毅;黃先偉;宋宇軒;張泰華
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 浙江千克知識產權代理有限公司 33246
• 代理人: 周希良;俞昊文

1.一種磁控濺射反應設備鉤掛式換樣品裝置，包括取樣長桿，其特征在于，裝置還包括設于取樣長桿前部的圓筒狀的長桿端頭、樣片基座，所述樣片基座設有基座連接部，所述基座連接部設有側桿，所述長桿端頭前部開設有側桿滑入槽，所述長桿端頭后部安裝有電磁鐵，所述電磁鐵設于長桿端頭的后方，所述長桿端頭內設有回復機構，所述回復機構連接有掛鉤，所述掛鉤后部設有吸合頭，所述掛鉤前部設有供側桿鉤掛的槽，所述掛鉤繞回復機構轉動時，吸合頭靠近電磁鐵。

2.如權利要求1所述的一種磁控濺射反應設備鉤掛式換樣品裝置，其特征在于，所述側桿滑入槽深度到達掛鉤的后方。

3.如權利要求1所述的一種磁控濺射反應設備鉤掛式換樣品裝置，其特征在于，所述掛鉤的掛鉤端部為斜面，所述掛鉤的槽的后方設有圓弧狀限位凸起。

4.如權利要求1所述的一種磁控濺射反應設備鉤掛式換樣品裝置，其特征在于，所述掛鉤上部設有通孔，所述回復機構包括回位彈簧和彈簧固定塊，所述彈簧固定塊固定于長桿端頭的內壁兩側，所述回位彈簧穿過通孔且回位彈簧兩端固定在彈簧固定塊上。

5.如權利要求4所述的一種磁控濺射反應設備鉤掛式換樣品裝置，其特征在于，所述回位彈簧水平固定在長桿端頭內。

6.如權利要求1所述的一種磁控濺射反應設備鉤掛式換樣品裝置，其特征在于，所述樣片基座中部設下凹成圓形的磁控濺射基底。

7.如權利要求1所述的一種磁控濺射反應設備鉤掛式換樣品裝置，其特征在于，所述基座連接部前部設有鴨嘴槽，所述樣片基座的基座尾部卡設在鴨嘴槽內，所述樣片基座在鴨嘴槽內水平轉動。

8.如權利要求7所述的一種磁控濺射反應設備鉤掛式換樣品裝置，其特征在于，所述基座尾部與鴨嘴槽通過螺栓轉動的連接。

9.如權利要求7所述的一種磁控濺射反應設備鉤掛式換樣品裝置，其特征在于，所述基座連接部尾端為圓臺狀凸起，所述側桿裝設在基座連接部尾端的兩側且位于圓臺狀凸起的前側。

10.如權利要求1所述的一種磁控濺射反應設備鉤掛式換樣品裝置，其特征在于，所述樣片基座為片狀，所述樣片基座的基座前端為矩形凸起。