[實(shí)用新型]一種循環(huán)式掃描曝光機(jī)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920922491.3 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210005856U | 公開(公告)日: | 2020-01-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡志國;張米好;江俊龍;農(nóng)遠(yuǎn)峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳凱世光研股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 44218 深圳市千納專利代理有限公司 | 代理人: | 劉洋 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 曝光裝置 供料機(jī)構(gòu) 曝光 底座 工件傳送 曝光效率 托起 支架 支架驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 本實(shí)用新型 掃描曝光機(jī) 支撐柱組件 驅(qū)動(dòng) 光學(xué)設(shè)備 檢測工件 曝光設(shè)備 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 支架移動(dòng) 傳感器 曝光臺(tái) 循環(huán)式 移動(dòng) 出料 供料 兩組 上料 剔除 垂直 申請(qǐng) | ||
本實(shí)用新型涉及光學(xué)設(shè)備領(lǐng)域,解決現(xiàn)有工件曝光設(shè)備曝光效率低的問題。本申請(qǐng)公開了一種循環(huán)式掃描曝光機(jī),包括有底座,設(shè)置在底座上的曝光臺(tái),以及曝光裝置,曝光臺(tái)上分別設(shè)有兩組用于工件供料的左供料機(jī)構(gòu)和右供料機(jī)構(gòu),曝光裝置支架上設(shè)有驅(qū)動(dòng)一排以上的曝光裝置移動(dòng)的曝光裝置驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu);底座上設(shè)有驅(qū)動(dòng)曝光裝置支架垂直曝光裝置支架移動(dòng)的曝光裝置支架驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。左供料機(jī)構(gòu)和右供料機(jī)構(gòu)可以同時(shí)把工件托起準(zhǔn)備曝光,當(dāng)左邊的工件曝光完畢,曝光裝置移動(dòng)到右邊的工件直接進(jìn)行曝光,同時(shí)左邊的供料機(jī)構(gòu)把曝光的工件傳送出料,再把左邊支撐柱組件上未曝光的工件傳送托起準(zhǔn)備曝光,依次循環(huán);傳感器用于檢測工件是否彎曲,從而剔除不合格的工件;從而曝光效率高,不需要有上料等待時(shí)間。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及光學(xué)設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種循環(huán)式掃描曝光機(jī)。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的曝光掃描方式通常是將工件放到曝光臺(tái)上后,作曝光動(dòng)作,交換工件方式必須等前一工件移開后,另工件才能移入。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)的工件曝光設(shè)備曝光效率低的問題。
為解決本實(shí)用新型所提出的技術(shù)問題采用的技術(shù)方案為:本實(shí)用新型的循環(huán)式掃描曝光機(jī)包括有底座,設(shè)置在底座上的曝光臺(tái),以及用于工件曝光的曝光裝置,所述的曝光臺(tái)上分別設(shè)有兩組用于工件供料的左供料機(jī)構(gòu)和右供料機(jī)構(gòu),左供料機(jī)構(gòu)和右供料機(jī)構(gòu)把曝光臺(tái)分成左曝光區(qū)和右曝光區(qū),所述的左供料機(jī)構(gòu)和右供料機(jī)構(gòu)均包括有用于支撐放置工件的由多個(gè)相互平行設(shè)置的倒U形支撐柱組成的支撐柱組件,以及用于把支撐柱組件上的工件托起傳送的傳送板,傳送板上設(shè)有與支撐柱組件配合的頂柱組件,底座上設(shè)有驅(qū)動(dòng)頂柱組件上下移動(dòng)以及沿進(jìn)出料方向移動(dòng)的傳送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述的底座上設(shè)有橫跨曝光臺(tái)的曝光裝置支架,一排以上所述的曝光裝置滑動(dòng)設(shè)于曝光裝置支架上,曝光裝置支架上設(shè)有驅(qū)動(dòng)一排以上的曝光裝置沿曝光裝置支架移動(dòng)的曝光裝置驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu);所述的底座上設(shè)有驅(qū)動(dòng)曝光裝置支架垂直曝光裝置支架移動(dòng)的曝光裝置支架驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步限定的技術(shù)方案包括:
所述的左供料機(jī)構(gòu)和右供料機(jī)構(gòu)上均設(shè)有用于檢測工件彎曲的傳感器。
所述的傳感器設(shè)置在頂柱組件上,對(duì)應(yīng)工件的四角下方均設(shè)有一個(gè)傳感器。
所述的傳感器設(shè)置在支撐柱組件上,對(duì)應(yīng)工件的四角側(cè)面均設(shè)有一個(gè)傳感器。
所述的頂柱組件上設(shè)有用于把工件吸附在頂柱組件上的吸風(fēng)口。
所述的傳送驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括有驅(qū)動(dòng)頂柱組件上下移動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)氣缸和驅(qū)動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)氣缸沿進(jìn)出料方向移動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)氣缸,所述的頂柱組件與第一驅(qū)動(dòng)氣缸的活塞桿固定連接。
所述曝光裝置驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為曝光裝置直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)。
所述曝光裝置支架驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為曝光裝置支架直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)。
通過上述技術(shù)方案,本實(shí)用新型的有益效果為:本實(shí)用新型的循環(huán)式掃描曝光機(jī)的左供料機(jī)構(gòu)和右供料機(jī)構(gòu)可以同時(shí)把工件托起準(zhǔn)備曝光,當(dāng)左邊的工件曝光完畢,曝光裝置移動(dòng)到右邊的工件直接進(jìn)行曝光,同時(shí)左邊的供料機(jī)構(gòu)把曝光的工件傳送出料,再把左邊支撐柱組件上未曝光的工件傳送托起準(zhǔn)備曝光,依次循環(huán);傳感器用于檢測工件是否彎曲,從而剔除不合格的工件;從而曝光效率高,不需要有上料等待時(shí)間。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型一種循環(huán)式掃描曝光機(jī)的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實(shí)用新型一種循環(huán)式掃描曝光機(jī)的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本實(shí)用新型一種循環(huán)式掃描曝光機(jī)的傳感器位于工件四角下方時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為本實(shí)用新型一種循環(huán)式掃描曝光機(jī)的傳感器位于工件四角側(cè)面時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。
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