[實用新型]一種便于控溫的真空鍍膜設備有效
| 申請號: | 201920920896.3 | 申請日: | 2019-06-19 |
| 公開(公告)號: | CN210367895U | 公開(公告)日: | 2020-04-21 |
| 發明(設計)人: | 謝得軍 | 申請(專利權)人: | 道和信實業(天津)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/54 | 分類號: | C23C14/54 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 301800 天津市寶*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 便于 真空鍍膜 設備 | ||
本實用新型公開了一種便于控溫的真空鍍膜設備,包括底板,所述底板頂端一側活動設置有框體,所述框體內部一側下端通過安裝座固定安裝有水泵,所述水泵的輸出端活動設置有進水管,所述框體頂端活動設置有設備框,所述設備框內部底端活動設置有安裝架。本實用新型通過在設備框外部安裝有溫控層,通過溫度器觀察設備框內部的溫度變化,當溫度過低時通過控制面板打開熱水框底端的電磁閥同時再啟動水泵,把熱水送進溫控層內部在從出水管排出以此循環對設備框內部進行加熱,當通過溫度器發現設備框內部的溫度過高時打開冷水框底端的電磁閥打開同時再啟動水泵把冷水送進溫控層內部通過冷水把設備框內部的熱量帶走進行降溫,這樣既操作簡單也降低了成本。
技術領域
本實用新型涉及真空鍍膜技術領域,具體為一種便于控溫的真空鍍膜設備。
背景技術
真空鍍膜設備,主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種,主要思路是分成蒸發和濺射兩種;
傳統的一種便于控溫的真空鍍膜設備存在以下不足;
目前,在很多的技術領域都會用到真空鍍膜的設備,而現有的真空鍍膜的設備中部都會用到控制溫度的設備,而現有的設備不僅操作上非常繁雜而且成本還會很高。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種便于控溫的真空鍍膜設備,以解決上述在很多的技術領域都會用到真空鍍膜的設備,而現有的真空鍍膜的設備中部都會用到控制溫度的設備,而現有的設備不僅操作上非常繁雜而且成本還會很高的問題。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:一種便于控溫的真空鍍膜設備,包括底板,所述底板頂端一側活動設置有框體,所述框體內部一側下端通過安裝座固定安裝有水泵,所述水泵的輸出端活動設置有進水管,所述框體頂端活動設置有設備框,所述設備框內部底端活動設置有安裝架,所述安裝架上活動設置有若干安裝頭,所述安裝頭兩側均活動設置有放置板,所述設備框外部均活動設置有溫控層,所述進水管在遠離水泵的一端與溫控層一側下端活動對接,所述溫控層另一側上端活動設置有出水管,所述框體外部一側中上端活動設置有控制面板,所述設備框內部一側上端活動設置有溫度器,所述底板頂端另一側兩端分別活動設置有熱水框和冷水框,所述熱水框、冷水框底端均通過電磁閥活動設置有水管,所述水管在遠離熱水框和冷水框的一端均與水泵的輸進端活動對接,所述水泵、電磁閥、溫度器均通過導線有控制面板電性連接。
優選的,所述放置板頂端均開設有凹口。
優選的,所述熱水框和冷水框頂端一側均活動設置有水頭,所述熱水框和冷水框與電磁閥的連接處均通過防水處理。
優選的,所述溫控層、框體、設備框、底板均采用合金材質制成。
優選的,所述溫控層內部四周均呈螺旋狀。
優選的,所述安裝架頂端活動設置有拉環。
與現有技術相比,本實用新型的有益效果是:
1、本實用新型通過在設備框外部安裝有溫控層,通過溫度器觀察設備框內部的溫度變化,當溫度過低時通過控制面板打開熱水框底端的電磁閥同時再啟動水泵,把熱水送進溫控層內部在從出水管排出以此循環對設備框內部進行加熱,當通過溫度器發現設備框內部的溫度過高時打開冷水框底端的電磁閥打開同時再啟動水泵把冷水送進溫控層內部通過冷水把設備框內部的熱量帶走進行降溫,這樣既操作簡單也降低了成本;
2、本實用新型同時還在安裝架外部均通過安裝頭活動安裝有若干放置板,且放置板頂端均開設有凹口,這樣便于提高安裝物品的穩定性,且還在設備框一側上端活動安裝有溫度器,這樣便于觀察設備框內部的溫度變化。
附圖說明
圖1為本實用新型一種便于控溫的真空鍍膜設備整體結構示意圖;
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