[實用新型]氣體供給系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201920908551.6
• 申請日: 2019-06-17
• 公開（公告）號: CN210069488U
• 公開（公告）日: 2020-02-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉凱;董洪波;王剛;張向飛
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司
• 主分類號: F17D1/02
• 分類號: F17D1/02;F17D3/01
• 代理公司: 11332 北京品源專利代理有限公司
• 代理人: 胡彬

本實用新型公開了一種氣體供給系統(tǒng)，用于給用氣組件供氣，包括：廠務(wù)氣源和備用氣源，廠務(wù)氣源通過管路連接用氣組件；備用氣源與廠務(wù)氣源并聯(lián)設(shè)置，備用氣源被配置為在廠務(wù)氣源異常時為用氣組件供氣。上述的氣體供給系統(tǒng)包括備用氣源，備用氣源能夠在廠務(wù)氣源出現(xiàn)異常時為用氣組件供氣，以確保用氣組件在廠務(wù)氣源出現(xiàn)異常后仍然能夠穩(wěn)定工作。上述的氣體供給系統(tǒng)應(yīng)用于激光退火工藝能夠保證用氣組件穩(wěn)定吸附硅片，避免硅片掉落，從而可以確保硅片傳輸安全可靠，有利于提高激光退火工藝效率，節(jié)約激光退火工藝成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及集成電路制造領(lǐng)域，尤其涉及一種氣體供給系統(tǒng)。

背景技術(shù)

激光退火工藝相對于傳統(tǒng)退火工藝具有激活率高、對器件損傷小等優(yōu)點，在絕緣柵雙極型晶體管、薄膜晶體管及圖像傳感器等制造領(lǐng)域逐步替代傳統(tǒng)退火工藝。激光退火設(shè)備的工件臺采用無引腳方式吸附硅片，因此，一般采用正壓吸附裝置從硅片上表面吸附硅片進(jìn)行硅片傳輸，正壓吸附裝置由廠務(wù)氣源提供正壓。然而，該種吸附方式容易受廠務(wù)氣源異常斷氣影響，使得硅片傳輸存在安全隱患，一旦廠務(wù)氣源出現(xiàn)異常斷氣，正壓吸附裝置則無法再吸附硅片，硅片將會掉落甚至?xí)虻袈浒l(fā)生破碎，影響激光退火的工藝成本及效率。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于提出一種氣體供給系統(tǒng)，能夠確保硅片傳輸安全可靠，有利于提高激光退火工藝效率，節(jié)約激光退火工藝成本。

為達(dá)此目的，一方面，本實用新型采用以下技術(shù)方案：

一種氣體供給系統(tǒng)，用于給用氣組件供氣，包括：

廠務(wù)氣源，所述廠務(wù)氣源通過管路連接用氣組件；

備用氣源，與所述廠務(wù)氣源并聯(lián)設(shè)置，所述備用氣源被配置為在所述廠務(wù)氣源異常時為所述用氣組件供氣。

在其中一個實施例中，上述的氣體供給系統(tǒng)還包括：第一壓力傳感器，所述第一壓力傳感器設(shè)置在所述廠務(wù)氣源和所述用氣組件之間的管路上，用于檢測所述廠務(wù)氣源的供氣壓力。

在其中一個實施例中，所述備用氣源的穩(wěn)定供氣時長至少為30s。

在其中一個實施例中，所述用氣組件被配置為從工件上方吸附所述工件，且所述用氣組件能夠在所述廠務(wù)氣源出現(xiàn)異常后攜帶所述工件進(jìn)行180°翻轉(zhuǎn)。

在其中一個實施例中，所述用氣組件被配置為在預(yù)設(shè)翻轉(zhuǎn)工位攜帶所述工件進(jìn)行180°翻轉(zhuǎn)，所述預(yù)設(shè)翻轉(zhuǎn)工位為翻轉(zhuǎn)過程中所述用氣組件和所述工件與其它設(shè)備組件不會發(fā)生干涉的位置。

在其中一個實施例中，上述的氣體供給系統(tǒng)還包括：第一單向閥和第二單向閥，所述第一單向閥設(shè)置在所述廠務(wù)氣源和所述用氣組件之間的管路上，所述第二單向閥設(shè)置在所述備用氣源和所述用氣組件之間的管路上。

在其中一個實施例中，廠務(wù)氣源提供的氣體壓力大于備用氣源輸出的氣體壓力。

在其中一個實施例中，上述的氣體供給系統(tǒng)還包括：過濾器三聯(lián)件，所述過濾器三聯(lián)件設(shè)置在所述備用氣源和所述第二單向閥之間的管路上。

在其中一個實施例中，上述的氣體供給系統(tǒng)還包括：干燥器，所述干燥器設(shè)置在所述廠務(wù)氣源和所述備用氣源并聯(lián)后的管路上。

在其中一個實施例中，上述的氣體供給系統(tǒng)還包括：減壓閥，所述減壓閥設(shè)置在所述廠務(wù)氣源和所述備用氣源并聯(lián)后的管路上。

在其中一個實施例中，上述的氣體供給系統(tǒng)還包括：第二壓力傳感器，所述第二壓力傳感器設(shè)置在所述減壓閥和所述用氣組件之間的管路上。

在其中一個實施例中，上述的氣體供給系統(tǒng)還包括：單向節(jié)流閥和流量傳感器，所述單向節(jié)流閥設(shè)置在所述廠務(wù)氣源和所述備用氣源并聯(lián)后的管路上，所述流量傳感器設(shè)置在所述單向節(jié)流閥和所述用氣組件之間的管路上。