[實(shí)用新型]一種適用于金屬干法刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備的刻蝕腔室

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201920887121.0
• 申請(qǐng)日: 2019-06-13
• 公開（公告）號(hào): CN210073761U
• 公開（公告）日: 2020-02-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 廖海濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇邑文微電子科技有限公司
• 主分類號(hào): H01J37/20
• 分類號(hào): H01J37/20;H01J37/305;H01L21/67;H01L21/687;H01L21/677
• 代理公司: 11400 北京商專永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 施榮華;胡建鋒

1.一種適用于金屬干法刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備的刻蝕腔室，包括刻蝕室(1)，其特征在于：

所述刻蝕室(1)的底板上開設(shè)有滑槽(2)，所述滑槽(2)的內(nèi)部設(shè)置有滑塊(3)，所述滑塊(3)遠(yuǎn)離滑槽(2)的一端固定連接有活動(dòng)盤(4)，所述活動(dòng)盤(4)遠(yuǎn)離滑塊(3)的一側(cè)固定連接有支撐臺(tái)(5)，所述支撐臺(tái)(5)的外表面活動(dòng)連接有填充塊(6)，所述填充塊(6)遠(yuǎn)離支撐臺(tái)(5)的一側(cè)設(shè)置有卡框(7)；

所述卡框(7)的外側(cè)固定連接有安裝板(8)，所述安裝板(8)的一側(cè)開設(shè)有通孔(9)，所述通孔(9)的內(nèi)部活動(dòng)連接有螺紋柱(10)，所述活動(dòng)盤(4)的一側(cè)開設(shè)有內(nèi)槽(11)，所述內(nèi)槽(11)的內(nèi)部固定連接有伸縮把手(12)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于金屬干法刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備的刻蝕腔室，其特征在于，

所述滑槽(2)的數(shù)量為兩個(gè)；

所述滑槽(2)的內(nèi)壁與滑塊(3)的外表面活動(dòng)連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于金屬干法刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備的刻蝕腔室，其特征在于，

所述填充塊(6)的數(shù)量為四個(gè)；

所述四個(gè)填充塊(6)分別卡在支撐臺(tái)(5)的四周。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于金屬干法刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備的刻蝕腔室，其特征在于，

所述四個(gè)填充塊(6)遠(yuǎn)離支撐臺(tái)(5)的一側(cè)均與卡框(7)的內(nèi)槽活動(dòng)連接；

所述卡框(7)由四個(gè)卡塊(13)組成。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種適用于金屬干法刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備的刻蝕腔室，其特征在于，

所述每個(gè)卡塊(13)的外側(cè)均固定連接有兩個(gè)安裝板(8)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于金屬干法刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備的刻蝕腔室，其特征在于，

所述通孔(9)的數(shù)量為十六個(gè)；

所述安裝板(8)上均開設(shè)有兩個(gè)通孔(9)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于金屬干法刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備的刻蝕腔室，其特征在于，

所述螺紋柱(10)貫穿通孔(9)的內(nèi)壁并與活動(dòng)盤(4)的內(nèi)部活動(dòng)連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種適用于金屬干法刻蝕半導(dǎo)體設(shè)備的刻蝕腔室，其特征在于，

所述活動(dòng)盤(4)的外表面與刻蝕室(1)的內(nèi)壁活動(dòng)連接；

所述活動(dòng)盤(4)上開設(shè)有若干個(gè)螺紋槽。