[實(shí)用新型]負(fù)壓清洗裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920884764.X | 申請(qǐng)日: | 2019-06-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN210146568U | 公開(公告)日: | 2020-03-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 卿志榮;郭新院 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇睿玻生物科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | B08B3/08 | 分類號(hào): | B08B3/08;B08B13/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 喻學(xué)兵 |
| 地址: | 226300 江蘇省南通市*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 清洗 裝置 | ||
1.一種負(fù)壓清洗裝置,其特征在于,包括:
盒體,所述盒體的內(nèi)部形成抽吸腔;
放置蓋,所述放置蓋蓋在所述盒體上,所述放置蓋上設(shè)有至少一個(gè)貫穿的放置孔;
至少一個(gè)吸附柱,所述吸附柱的內(nèi)部形成吸附孔,所述吸附孔的兩端分別形成進(jìn)入口和排出口,所述吸附柱插入所述放置孔中,所述吸附孔與所述抽吸腔相連通;
負(fù)壓吸引器,所述負(fù)壓吸引器與所述抽吸腔相連通,所述負(fù)壓吸引器用于抽吸所述抽吸腔中的液體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于,所述盒體上還設(shè)有至少一個(gè)導(dǎo)流孔,所述導(dǎo)流孔與所述吸附孔對(duì)應(yīng)設(shè)置,所述導(dǎo)流孔將對(duì)應(yīng)位置的所述吸附孔與所述抽吸腔相連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于:所述吸附柱具有排出口的一端位于所述導(dǎo)流孔的內(nèi)部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于,所述負(fù)壓吸引器包括:
集液瓶,所述集液瓶設(shè)有進(jìn)液口,所述進(jìn)液口與所述抽吸腔相連通;
抽氣管、負(fù)壓終端,所述抽氣管的兩端分別與所述集液瓶、負(fù)壓終端相連通,所述負(fù)壓終端用于抽取所述集液瓶中的氣體。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于,所述抽吸腔與所述集液瓶的進(jìn)液口相連通的出口位于所述抽吸腔的底部。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于,所述集液瓶的進(jìn)液口和/或所述集液瓶與所述抽氣管相連通的出氣口,位于所述集液瓶的上部。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于,所述放置孔的數(shù)量為多個(gè),所述吸附柱的數(shù)量等于或小于所述放置孔的數(shù)量;
所述負(fù)壓清洗裝置還包括若干塞子,每個(gè)所述放置孔插入所述吸附柱、塞子中的一個(gè),所述塞子與所插入的放置孔密封配合。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于:所述盒體包括外殼和中間板,所述外殼形成具有開口的容納腔,所述中間板位于所述容納腔內(nèi),所述中間板遠(yuǎn)離開口的第一表面與所述容納腔的內(nèi)表面圍成所述抽吸腔,所述中間板上設(shè)有導(dǎo)流孔,所述導(dǎo)流孔從所述中間板遠(yuǎn)離開口的第一表面延伸至所述中間板靠近開口的第二表面。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于:所述外殼包括上殼體和下殼體,所述上殼體的內(nèi)表面與所述下殼體的內(nèi)表面圍成所述容納腔,所述下殼體的內(nèi)表面設(shè)有繞周向設(shè)置的限位臺(tái),所述限位臺(tái)具有沿徑向平面設(shè)置的放置平臺(tái)和繞周向設(shè)置的限位壁,所述中間板的第一表面擱置在所述放置平臺(tái)上,所述中間板的外周面與所述限位壁相接觸。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于:所述上殼體與下殼體相接觸的接觸面上具有向所述下殼體的方向凸出的第一定位環(huán),所述下殼體與上殼體相接觸的接觸面上具有向所述上殼體的方向凸出的第二定位環(huán),所述第二定位環(huán)的外周面與所述第一定位環(huán)的內(nèi)周面相配合。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于:所述外殼還包括密封圈,所述密封圈設(shè)置于所述上殼體、下殼體相接觸的接觸面。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于:所述負(fù)壓清洗裝置還包括密封環(huán),所述密封環(huán)設(shè)置于所述放置蓋與所述盒體之間,所述密封環(huán)環(huán)繞所述放置孔設(shè)置。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的負(fù)壓清洗裝置,其特征在于:所述盒體面向放置蓋的表面上設(shè)有環(huán)繞所述放置孔設(shè)置的密封槽,所述密封環(huán)放置于所述密封槽中。
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