[實用新型]用于懸浮坩堝的調節支架以及坩堝套裝

有效

• 申請號: 201920877424.4
• 申請日: 2019-06-11
• 公開（公告）號: CN210636096U
• 公開（公告）日: 2020-05-29
• 發明（設計）人: 王宇;馮德伸;張嘉亮;雷同光;張路;林泉
• 申請（專利權）人: 北京國晶輝紅外光學科技有限公司
• 主分類號: C30B29/08
• 分類號: C30B29/08;C30B15/10
• 代理公司: 北京辰權知識產權代理有限公司 11619
• 代理人: 佟林松

本實用新型提供的一種用于懸浮坩堝的調節支架以及坩堝套裝，涉及鍺單晶生長技術領域，包括：坩堝套；至少兩個支撐桿；支撐桿的一端通過伸縮結構安裝在坩堝套的外部，以能夠沿著支撐桿的長度方向相對于坩堝套伸縮。基于上述技術方案，隨著鍺單晶的生長懸浮坩堝內腔的熔體會減少，由于支撐架與外坩堝的內側壁相抵接但不連接，所以懸浮坩堝能夠繼續通過浮力作用而懸浮在熔體中，并隨著熔體的減少懸浮坩堝也會隨之下降，從而使外坩堝內的熔體通過懸浮坩堝上的通孔補入至懸浮坩堝的內腔中，保證懸浮坩堝內的熔體深度穩定，使懸浮坩堝內部熱場不發生變化，保證鍺單晶的生長環境穩定，能夠良好的生長。

技術領域

本實用新型涉及鍺單晶生長技術領域，尤其是涉及一種用于懸浮坩堝的調節支架以及坩堝套裝。

背景技術

懸浮坩堝在生長太陽能鍺單晶中起到重要作用，而懸浮坩堝需要處理的重要問題是如何使坩堝很好的懸浮于熔體中，同時處于外坩堝的中心位置。

現有技術中，懸浮坩堝一般會利用配合的支架裝配在外坩堝內腔的中心位置，以在外坩堝內腔的中心位置進行鍺單晶的生長。但是，雖然懸浮坩堝可以通過現有的支架處于外坩堝內腔的中心位置，鍺單晶的生長效果仍然不理想。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種用于懸浮坩堝的調節支架以及坩堝套裝，以解決現有技術中存在的鍺單晶生長效果較差的技術問題。

經過對現有技術中懸浮坩堝使用的支架進行研究后，發現現有采用的支架是固定支架，固定支架在與懸浮坩堝裝配使用時，是將懸浮坩堝固定在外坩堝的內腔中，由于懸浮坩堝與外坩堝之間固定設置，會使得懸浮坩堝中的熔體深度隨著拉晶過程逐漸降低，進而使得懸浮坩堝內部熱場發生變化，影響鍺單晶的生長。

而為了解決上述技術問題，本實用新型提供了如下技術方案。

本實用新型提供的一種用于懸浮坩堝的調節支架，包括：

坩堝套；

至少兩個支撐桿；

伸縮結構，所述支撐桿的一端通過所述伸縮結構安裝在所述坩堝套的外部，以能夠沿著所述支撐桿的長度方向相對于所述坩堝套伸縮。

進一步的，所述坩堝套的內側壁的底部一周開設有用于與懸浮坩堝嵌套的凹槽。

進一步的，所述坩堝套的外側壁設置有螺紋孔，所述支撐桿的一端設置有與其配合的螺紋接頭；所述螺紋接頭與所述螺紋孔螺紋連接；

所述螺紋接頭和所述螺紋孔構成所述伸縮結構。

進一步的，所述螺紋孔為通孔。

進一步的，所述支撐桿的材質為石墨；

和\或，所述坩堝套的材質為石墨。

進一步的，所述支撐桿的數量為4，4個所述支撐桿沿著所述坩堝套的外側壁周向均布。

本實用新型還提供了一種坩堝套裝，包括所述調節支架。

本實用新型還提供了一種坩堝套裝，包括所述調節支架；還包括：

底部具有通孔的懸浮坩堝，所述坩堝套的凹槽嵌套至所述懸浮坩堝的坩堝口外沿；

外坩堝，所述懸浮坩堝和所述調節支架位于所述外坩堝的內腔；通過所述調節支架與所述外坩堝的內壁相抵接，以使所述懸浮坩堝處于所述內腔的中央位置。

進一步的，所述懸浮坩堝和所述坩堝套的橫截面均為圓形；

所述懸浮坩堝的外徑與所述坩堝套的外徑之差在8mm至16mm之間；和/或，所述坩堝套的高度在48mm至60mm之間。

進一步的，所述外坩堝的橫截面為圓形；所述坩堝套的外徑與所述外坩堝的內徑之比在1/3至2/3之間。