[實(shí)用新型]一種顯示面板和顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201920872280.3 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN211293540U | 公開(公告)日: | 2020-08-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊艷娜;王天雪;顧毓波 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 惠科股份有限公司;重慶惠科金渝光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1362 | 分類號(hào): | G02F1/1362;G02F1/1343;H01L27/32 |
| 代理公司: | 深圳市百瑞專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44240 | 代理人: | 吳國(guó)城 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)石巖街道水田村民*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 面板 顯示裝置 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
陣列基板;
彩膜基板,與所述陣列基板相對(duì)設(shè)置;
所述陣列基板包括:數(shù)據(jù)線、掃描線,由掃描線與數(shù)據(jù)線交錯(cuò)形成的像素單元以及連接所述像素單元的薄膜晶體管;
所述像素單元包括主像素區(qū)和次像素區(qū),所述薄膜晶體管包括連接所述主像素區(qū)像素電極的第一薄膜晶體管和連接所述次像素區(qū)像素電極的第二薄膜晶體管;
所述第一薄膜晶體管和所述第二薄膜晶體管的數(shù)量有且只有一個(gè)。
2.如權(quán)利要求1所述的一種顯示面板,其特征在于,所述像素單元包括多個(gè)子像素,所述主像素區(qū)和所述次像素區(qū)分別包括四個(gè)疇,其中,所述主像素區(qū)的同一個(gè)子像素與次像素區(qū)的同一子像素轉(zhuǎn)動(dòng)角度不同。
3.如權(quán)利要求1所述的一種顯示面板,其特征在于,所述薄膜晶體管包括源極和與所述源極相對(duì)設(shè)置的漏極,以及由所述源極和所述漏極定義的溝道區(qū);
其中,所述第一薄膜晶體管和所述第二薄膜晶體管的溝道區(qū)寬長(zhǎng)比不同。
4.如權(quán)利要求3所述的一種顯示面板,其特征在于,所述第一薄膜晶體管的溝道區(qū)和所述第二薄膜晶體管的溝道區(qū)的寬度相同,所述第一薄膜晶體管溝道區(qū)的長(zhǎng)度大于所述第二薄膜晶體管溝道區(qū)的長(zhǎng)度。
5.如權(quán)利要求3所述的一種顯示面板,其特征在于,所述第一薄膜晶體管的溝道區(qū)和所述第二薄膜晶體管的溝道區(qū)的長(zhǎng)度相同,所述第一薄膜晶體管溝道區(qū)的寬度小于所述第二薄膜晶體管溝道區(qū)的長(zhǎng)度。
6.如權(quán)利要求3所述的一種顯示面板,其特征在于,所述第二薄膜晶體管的溝道區(qū)的長(zhǎng)度小于所述第一薄膜晶體管的溝道區(qū)的長(zhǎng)度,并且所述第二薄膜晶體管的溝道區(qū)的寬度大于所述第一薄膜晶體管溝道區(qū)的寬度。
7.如權(quán)利要求3所述的一種顯示面板,其特征在于,所述溝道區(qū)的長(zhǎng)度不小于4um。
8.如權(quán)利要求3所述的一種顯示面板,其特征在于,所述薄膜晶體管的材料為Al、Cu、Mo、MoW、AlNd、和Cr之一,所述溝道區(qū)形狀為U形。
9.一種顯示面板,其特征在于,包括:
陣列基板;
彩膜基板,與所述陣列基板相對(duì)設(shè)置;
其中,所述陣列基板包括:數(shù)據(jù)線、掃描線、由掃描線與數(shù)據(jù)線交錯(cuò)形成的像素單元以及連接所述像素單元的薄膜晶體管;
所述像素單元包括由所述掃描線和數(shù)據(jù)線定義的主像素區(qū)和次像素區(qū);所述主像素區(qū)和所述次像素區(qū)分別包括四個(gè)疇;所述薄膜晶體管包括連接所述主像素區(qū)像素電極的第一薄膜晶體管和連接所述次像素區(qū)像素電極的第二薄膜晶體管;
所述薄膜晶體管包括源極,漏極以及溝道區(qū);
所述第二薄膜晶體管的溝道區(qū)的長(zhǎng)度小于所述第一薄膜晶體管的溝道區(qū)的長(zhǎng)度,所述第二薄膜晶體管的溝道區(qū)的寬度大于所述第一薄膜晶體管的溝道區(qū)的寬度。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求1至9任意一項(xiàng)所述的顯示面板。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





