[實用新型]一種能提供等離子體環(huán)境的原位漫反射紅外光譜反應(yīng)池有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201920868008.8 | 申請日: | 2019-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN210533973U | 公開(公告)日: | 2020-05-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉璐;馬玉東;彭亦蘭;袁壽其;劉馨琳;糜建立;王軍峰 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | G01N21/03 | 分類號: | G01N21/03 |
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| 地址: | 212013 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 提供 等離子體 環(huán)境 原位 漫反射 紅外 光譜 反應(yīng) | ||
本實用新型提供了一種能提供等離子體環(huán)境的原位漫反射紅外光譜反應(yīng)池,包括:底座;反應(yīng)池基座,安裝于所述底座上,反應(yīng)池基座的頂部設(shè)有第一凹槽和電加熱腔,電加熱腔位于第一凹槽的周向外側(cè);外罩,罩設(shè)于反應(yīng)池上;板狀電極,設(shè)置于第一凹槽內(nèi);介質(zhì),位于板狀電極上;針狀電極,一端從外罩的頂部伸入至介質(zhì)的上方,另一端位于外罩外部;電熱絲,設(shè)置于電加熱腔內(nèi);及紅外光入射和出射單元,用于使得紅外光能夠入射至外罩內(nèi),并從外罩內(nèi)出射;其中,針狀電極與高壓電源連接,板狀電極接地,本實用新型能夠提供等離子體環(huán)境中的催化劑表面物種結(jié)構(gòu)的原位檢測。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及漫反射紅外光譜分析測試技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種能提供等離子體環(huán)境的原位漫反射紅外光譜反應(yīng)池。
背景技術(shù)
低溫等離子體中含有大量的電子、離子、自由基和亞穩(wěn)態(tài)分子,它們的化學性質(zhì)非常活躍,很容易和其它原子、分子或其它自由基發(fā)生反應(yīng)。低溫等離子體與催化劑能夠產(chǎn)生協(xié)同作用,提高選擇性和反應(yīng)速率,低溫等離子體協(xié)同催化技術(shù)在污染物治理、燃料轉(zhuǎn)化方面具有廣闊的應(yīng)用前景。然而,目前相應(yīng)的協(xié)同反應(yīng)過程和機理仍然不夠清晰,需要有效的表征手段加以研究。同催化反應(yīng)一樣,等離子體參與的催化反應(yīng)也包括反應(yīng)物在催化劑表面的吸附、反應(yīng)轉(zhuǎn)化、生成物解吸等過程,認識催化反應(yīng)機理的過程,就是要獲取催化反應(yīng)各個歷程的詳細信息。由于低溫等離子體中的正負離子、自由基壽命較短,非原位表征往往只能間接得到反應(yīng)過程的信息,難以真正剖析瞬態(tài)反應(yīng)過程。一般來說,原位紅外光譜表征是進行催化反應(yīng)機理研究的有效手段,可以給出反應(yīng)條件下反應(yīng)物在催化劑表面的吸附態(tài)及其動態(tài)轉(zhuǎn)化信息,常被運用于催化反應(yīng)機理的研究中。但是等離子體放電裝置復(fù)雜,而且涉及幾千伏到幾十千伏的高電壓放電,給原位表征的反應(yīng)池設(shè)計帶來了困難,因此目前缺乏相關(guān)的檢測裝置和方法。
漫反射紅外光譜技術(shù)由于不破壞樣品固有形態(tài)等優(yōu)點而被運用于原位紅外光譜表征領(lǐng)域,但通用的原位漫反射光譜池,如Thermo Spectra-Tech的原位漫反射池,并不能對等離子體環(huán)境下的樣品進行測定。
現(xiàn)有技術(shù)公開了一種一段式等離子體催化原位漫反射紅外檢測裝置,該裝置采用同軸式介質(zhì)阻擋放電,等離子放電區(qū)域與催化劑具有一定的距離,只能保證壽命比較長的幾種自由基到達催化劑表面,尚不能真正為催化反應(yīng)提供等離子體環(huán)境。
綜上所述,現(xiàn)階段還沒有相關(guān)裝置能夠提供等離子體環(huán)境中的催化劑表面物種結(jié)構(gòu)的原位檢測。
實用新型內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)中存在不足,本實用新型提供了一種能提供等離子體環(huán)境的原位漫反射紅外光譜反應(yīng)池,能夠提供等離子體環(huán)境中的催化劑表面物種結(jié)構(gòu)的原位檢測。
本實用新型是通過以下技術(shù)手段實現(xiàn)上述技術(shù)目的的。
一種能提供等離子體環(huán)境的原位漫反射紅外光譜反應(yīng)池,包括:
底座;
反應(yīng)池基座,安裝于所述底座上,所述反應(yīng)池基座的頂部設(shè)有第一凹槽;
外罩,罩設(shè)于所述反應(yīng)池上,底部與所述底座連接,所述外罩的內(nèi)壁與所述反應(yīng)池基座之間形成通氣通道,所述外罩上設(shè)有進氣口和出氣口,所述進氣口和出氣口均與所述通氣通道連通;
板狀電極,設(shè)置于所述第一凹槽內(nèi);
介質(zhì),位于所述板狀電極上,所述介質(zhì)以及第一凹槽的內(nèi)壁面構(gòu)成樣品池;
針狀電極,一端從所述外罩的頂部伸入至所述介質(zhì)的上方,另一端位于所述外罩外部;及
紅外光入射和出射單元,用于使得紅外光能夠入射至所述外罩內(nèi),并從外罩內(nèi)出射,所述紅外光入射至外罩內(nèi)后進入所述樣品池內(nèi),經(jīng)反射和部分折射后射出外罩;
其中,所述針狀電極與高壓電源連接,所述板狀電極接地。
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G01N 借助于測定材料的化學或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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